x._IP,vRx^ 内容简介
<p@c%e,_ Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了
软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前
薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的
光学薄膜设计技术》。
YnnpgR. 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。
l;i,V;@t 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。
aE}1~` .K?',x 讯技科技股份有限公司
6o@}k9AN 2015年9月3日
'[#a-8-JY_ 目录
49f- u Preface 1
)"?6Es SF 内容简介 2
#_yQv? J 目录 i
Rz}?@zh_8 1 引言 1
V:F;Nq%+j 2 光学薄膜基础 2
(]7*Kq 2.1 一般规则 2
?DcR D)X 2.2 正交入射规则 3
=`2nv0%2 2.3 斜入射规则 6
eUQ., mP 2.4 精确计算 7
`@GqD 2.5 相干性 8
S,T?(lSl 2.6 参考文献 10
b *IJ + 3 Essential Macleod的快速预览 10
*S_e:^ 4 Essential Macleod的特点 32
%M8Egr2|0 4.1 容量和局限性 33
DO<eBq\O 4.2 程序在哪里? 33
;/i"W 4.3 数据文件 35
AH`n 4.4 设计规则 35
QX(x6y>Q 4.5 材料数据库和
资料库 37
EubR]ckB 4.5.1材料损失 38
?f v?6r 4.5.1材料数据库和导入材料 39
f.V;Hl, 4.5.2 材料库 41
MLg<YL 4.5.3导出材料数据 43
U$a Eby. 4.6 常用单位 43
x4v@Kk/ 4.7 插值和外推法 46
Ore$yI}!m 4.8 材料数据的平滑 50
`B+%W 4.9 更多光学常数模型 54
Ke[doQ#c 4.10 文档的一般编辑规则 55
r})2-3ZA9 4.11 撤销和重做 56
f@l 6]z{.L 4.12 设计文档 57
:0o
$qz2 4.10.1 公式 58
&d`T~fl| 4.10.2 更多关于膜层厚度 59
/nXp5g^6( 4.10.3 沉积密度 59
AoHA+>&U 4.10.4 平行和楔形介质 60
n<MMO=+bg 4.10.5 渐变折射率和散射层 60
A(duUl~ 4.10.4 性能 61
Hv%(9)-8 4.10.5 保存设计和性能 64
CCKg,v 4.10.6 默认设计 64
ja$>>5<q 4.11 图表 64
C%d 4ItB > 4.11.1 合并曲线图 67
!-
f>*|@ 4.11.2 自适应绘制 68
PpMZ-f@ 4.11.3 动态绘图 68
8>x.zO_.c> 4.11.4 3D绘图 69
zi:F/TlUC 4.12 导入和导出 73
,oe
e' 4.12.1 剪贴板 73
U`q[5U" 4.12.2 不通过剪贴板导入 76
E%eao$ 4.12.3 不通过剪贴板导出 76
bHlG(1uf 4.13 背景 77
EQPZV
K/ 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80
hZnT`!iFE^ 4.15 生成Rugate 84
+C7
1".i- 4.16 参考文献 91
Pg[zRRf< 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92
b3b 4'l 5.1 Jobs 92
J#*Uf>5NY 5.2 创建一个新Job(工作) 93
P
Y
+~,T2 5.3 输入材料 94
>V(>2eD'S 5.4 设计数据文件夹 95
:NU-C!eT 5.5 默认设计 95
"_+X#P
x 6 细化和合成 97
)hk=wu6 6.1 优化介绍 97
#1Mk9sxo 6.2 细化 (Refinement) 98
OXDlwbwL 6.3 合成 (Synthesis) 100
7HPLD&WPt 6.4 目标和评价函数 101
O;[PEV~ 6.4.1 目标输入 102
6A M,1 6.4.2 目标 103
TUhp 6.4.3 特殊的评价函数 104
<mHptgd, 6.5 层锁定和连接 104
]6OrL
TmP 6.6 细化技术 104
x$CpUy{6 6.6.1 单纯形 105
%9M; MK 6.6.1.1 单纯形
参数 106
B0=:A 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107
EC1q#;: 6.6.2.1 Optimac参数 108
bI[!y#_z4 6.6.3 模拟退火算法 109
!N$4.slr<p 6.6.3.1
模拟退火参数 109
;KQ'/nII 6.6.4 共轭梯度 111
{%D
"0* ^ 6.6.4.1 共轭梯度参数 111
js`zQx' 6.6.5 拟牛顿法 112
>|0yH9af 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112
#BS]wj2# 6.6.6 针合成 113
|L;'In 6.6.6.1 针合成参数 114
_zh}%#6L 6.6.7 差分进化 114
xHsH .f_{ 6.6.8非局部细化 115
#!#V!^ o 6.6.8.1非局部细化参数 115
{DN c7G 6.7 我应该使用哪种技术? 116
zQ{ Q>"- 6.7.1 细化 116
HKOJkbVZ2^ 6.7.2 合成 117
BT>*xZLpS 6.8 参考文献 117
I-/PzL<W P 7 导纳图及其他工具 118
0O-p(L= 7.1 简介 118
1bzPBi 7.2 薄膜作为导纳的变换 118
(i *1M 7.2.1 四分之一
波长规则 119
w** .8]A"N 7.2.2 导纳图 120
D{N1.rSxv 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124
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