. 建模任务 Z2!O)8 1.1
模拟条件
IXc"gO 模拟区域:0~10
4At{(fwW 边界条件:Periodic
%dw@;IZ#8{ 偏移
角度:12°(Domain A),-12°(Domain B)
&3#19v7/ 单位长度:0.5
7&-B6Y4
unY+/p $ oF7o"NHaWa 1.2堆栈
结构 t Y'fFz^Ho !hdOH3h = 2. 建模过程 HN?NY 2.1设置模拟条件
t4X:I&l-M:
Xt& rYv o-H\vtOjE 2.2创建堆栈结构,修改各层
参数 s"gNHp.oF )\ow/XPE > yk2 2.3创建掩膜并生成多畴结构
mO=bq4! Y)lYEhF 3. 结果分析 MROe"Xj 3.1 指向矢分布和透过率
XA PqRJ*Z #2{H!jr }04EM 3.2所有畴的V-T曲线
tX)l_?jVH Jvac|rN ny'?Hl'Q 3.3不同电压透过率图,为了方便查看,对每一个电压下的图例范围都初始化,请注意图例颜色轴的范围
j%%& G$Tfu