. 建模任务 Og Y4J|< 1.1
模拟条件
ltO:./6v 模拟区域:0~10
c'vxT<8fWW 边界条件:Periodic
_b&Mrd 偏移
角度:12°(Domain A),-12°(Domain B)
?nn`ud?f 单位长度:0.5
l|/h4BJ'
\&NpVH,- zy"L%i 1.2堆栈
结构 \|F4@ E*:!G 2. 建模过程 26G2. /**< 2.1设置模拟条件
%FDi7Rx
+\fr3@Yc 9gZMfP 2.2创建堆栈结构,修改各层
参数 E3X:{h/ Vl%AN;o #5wOgOv 2.3创建掩膜并生成多畴结构
o+4/L)h ] QGYEjW 3. 结果分析 .0:BgM 3.1 指向矢分布和透过率
h3Nwxj~E *`mPPts} 2E33m*C2 3.2所有畴的V-T曲线
&Gp@,t WS/^WxRY 5x(`z
3.3不同电压透过率图,为了方便查看,对每一个电压下的图例范围都初始化,请注意图例颜色轴的范围
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