. 建模任务 U7"BlT!V\ 1.1
模拟条件
F%#*U82 模拟区域:0~10
rFq@]t3q 边界条件:Periodic
<P^hYj-swh 偏移
角度:12°(Domain A),-12°(Domain B)
crNjI`%tw 单位长度:0.5
R@<_Hb;Aeb B80odU& |#&V:GZp 1.2堆栈
结构 f>8B'%] ]`@]<6 2. 建模过程 '>e79f-O) 2.1设置模拟条件
9y^kb+ /:y2Up- <4Q1 2: 2.2创建堆栈结构,修改各层
参数 t[?a@S~6 -jVaS wt G;Wkm| 2.3创建掩膜并生成多畴结构
XD^dlL g8,?S6\nMz 3. 结果分析 #H;hRl 3.1 指向矢分布和透过率
afY _9g!\ |)-|2cPRur W`N} 3.2所有畴的V-T曲线
<rB3[IJo skI(]BDf 5c]}G.NV 3.3不同电压透过率图,为了方便查看,对每一个电压下的图例范围都初始化,请注意图例颜色轴的范围
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