. 建模任务 %d*}:295 1.1
模拟条件
sz}Nal$AC 模拟区域:0~10
G-rN?R. 边界条件:Periodic
QAu^]1 ; 偏移
角度:12°(Domain A),-12°(Domain B)
f0:) 单位长度:0.5
hI/p9
`w
{x-g?HB _)^(-}(_D 1.2堆栈
结构 4CNK ]2 /x`H6'3? 2. 建模过程 yQ&;#`!' 2.1设置模拟条件
4;%=ohD:!
64zO%F* aIkxN& 2.2创建堆栈结构,修改各层
参数 q^,^tw tMupX-V r}XD{F}" 2.3创建掩膜并生成多畴结构
]Y,
7 X w}7`Vas9 3. 结果分析 r Cmqq/hZ 3.1 指向矢分布和透过率
"zm.jNn <$ '#@jW Xr':/Qjf 3.2所有畴的V-T曲线
BhNwC[G?m y5l4H8{h} k%c ?$n" 3.3不同电压透过率图,为了方便查看,对每一个电压下的图例范围都初始化,请注意图例颜色轴的范围
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