. 建模任务 M$O*@]) 1.1
模拟条件
g<@P_^vo 模拟区域：0~10
de&* #O5 边界条件：Periodic
@`,~d{ziF 偏移
角度：12°（Domain A），-12°（Domain B）
&m8#^]* 单位长度：0.5
Tf|? j=f N3Yf 3rK
2EU((Q`>=( 1.2堆栈
结构 dE`a1H% lHTW e' 2. 建模过程 zn=I fz)#| 2.1设置模拟条件
jIzkI)WC| f<$>?o&y
;AjY-w 2.2创建堆栈结构，修改各层
参数 Q"@x,8xW 3[RP:W@%
x+=K o 2.3创建掩膜并生成多畴结构
s"7$SxMT i xf~3Y8 3. 结果分析 \$iU#Z 3.1 指向矢分布和透过率
# D qVh!t" n B5 :X FS(bEAk} 3.2所有畴的V-T曲线
'1jG?D vz[-8 m:f w,,QXJe{Z_ 3.3不同电压透过率图，为了方便查看，对每一个电压下的图例范围都初始化，请注意图例颜色轴的范围
&$,%6X"
