. 建模任务 $dt*
4n ' 1.1
模拟条件
\"K:<+RH 模拟区域:0~10
M _Lj5` 边界条件:Periodic
+Sv2'& B 偏移
角度:12°(Domain A),-12°(Domain B)
\@6w;tyi 单位长度:0.5
`$;%%/tx QA!'p1{#
0F 4%Xz 1.2堆栈
结构 v>Kv!OY:c rJd-e96 2. 建模过程 <e8Ux#x/ 2.1设置模拟条件
^j_t{h)W(0 8`w#)6(V
F,GG>(6c 2.2创建堆栈结构,修改各层
参数 #|l# 60p*4>^v 98l- 2.3创建掩膜并生成多畴结构
LCpS}L; XlxB% 3. 结果分析 @F5QgO J&r 3.1 指向矢分布和透过率
c$%I^f}' Wf$P+i* H]f8W]"c[ 3.2所有畴的V-T曲线
v.H@Ey2 `~W ?a Z2\Xe~{ 3.3不同电压透过率图,为了方便查看,对每一个电压下的图例范围都初始化,请注意图例颜色轴的范围
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