. 建模任务 <
'5~p$ 1.1
模拟条件
N `|A 模拟区域:0~10
qNQ54# 边界条件:Periodic
8}B 偏移
角度:12°(Domain A),-12°(Domain B)
Y<xqws 单位长度:0.5
}=^ ,c lGd'_~'=
r)iEtT!p* 1.2堆栈
结构 =X4Fn^w"4O Y@+Rb 2. 建模过程 :<qe2Z5k 2.1设置模拟条件
vA/SrX. k&dXK
UX)GA[WI 2.2创建堆栈结构,修改各层
参数 .11l(M 1>J.kQR^ M~taZt4 2.3创建掩膜并生成多畴结构
|p6d]#z3 n[3z_QI 3. 结果分析 !=dz^f.{ 3.1 指向矢分布和透过率
uY&1[(Pb l_^OdQ9D h6h6B.\Ld 3.2所有畴的V-T曲线
u\*9\G ic2D$`M BsQ;`2 3.3不同电压透过率图,为了方便查看,对每一个电压下的图例范围都初始化,请注意图例颜色轴的范围
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