JDa=+\_ 内容简介
0=WZ 8|R Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前
薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的
光学薄膜设计技术》。
W*S!}ZT` 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。
.aA8'/ 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。
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!623; E#5$O2b#
F:3*i^ L 目录
".@}]z8 Preface 1
"s?!1v(v 内容简介 2
_0razNk 目录 i
1vy*u 1 引言 1
(Lp$EC&%6 2 光学薄膜基础 2
$ts%SDM 2.1 一般规则 2
v/1&V+"^kd 2.2 正交入射规则 3
K #f*LV5 2.3 斜入射规则 6
| e&v;48 2.4 精确计算 7
BAJEn6f? 2.5 相干性 8
}mhD2 ' E 2.6 参考文献 10
BGe&c,feIc 3 Essential Macleod的快速预览 10
`S&$y4|Vs 4 Essential Macleod的特点 32
Za5bx,^ 4.1 容量和局限性 33
CH`_4UAX% 4.2 程序在哪里? 33
xs'vd:l.Pp 4.3 数据文件 35
^")SU(` 4.4 设计规则 35
j/C.='?% 4.5 材料数据库和
资料库 37
7aV(tMzd 4.5.1材料损失 38
BLno/JK0} 4.5.1材料数据库和导入材料 39
.b3cn 4.5.2 材料库 41
e>GX]tK 4.5.3导出材料数据 43
t%B ,ATW 4.6 常用单位 43
[6$n 4.7 插值和外推法 46
C0Oe$&
_ 4.8 材料数据的平滑 50
zG[GyyAQ 4.9 更多光学常数模型 54
dHAI4Yf4U 4.10 文档的一般编辑规则 55
4a]$4LQV 4.11 撤销和重做 56
L#\!0YW/@ 4.12 设计文档 57
GD]yP.. 4.10.1 公式 58
'`+GC9VG 4.10.2 更多关于膜层厚度 59
ne~=^IRB 4.10.3 沉积密度 59
#RyX}t X, 4.10.4 平行和楔形介质 60
!_ng_,J 4.10.5 渐变折射率和散射层 60
@Yl&Jg2l' 4.10.4 性能 61
(FwWyt 4.10.5 保存设计和性能 64
L{2KK]IF 4.10.6 默认设计 64
K]<49`MX 4.11 图表 64
[q<Vm- 4.11.1 合并曲线图 67
7*a']W{aJ 4.11.2 自适应绘制 68
&:}{?vU 4.11.3 动态绘图 68
S<-e/`p=H 4.11.4 3D绘图 69
ipIexv1/S 4.12 导入和导出 73
K<_bG<tm_ 4.12.1 剪贴板 73
"IvFkS=*Q 4.12.2 不通过剪贴板导入 76
]csfK${ 4.12.3 不通过剪贴板导出 76
~S$\ PG4 4.13 背景 77
l<89[{9o 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80
3~r>G 4.15 生成Rugate 84
AW XBk+ 4.16 参考文献 91
C
`>1x`n 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92
\?|FB~.Ry 5.1 Jobs 92
tlz+!> 5.2 创建一个新Job(工作) 93
z-Ndv;: 5.3 输入材料 94
X=W.{? 5.4 设计数据文件夹 95
]:6M!+?( 5.5 默认设计 95
`L. kyL 6 细化和合成 97
2brxV'tk 6.1 优化介绍 97
2,3pmb 6.2 细化 (Refinement) 98
+TWk}#G 6.3 合成 (Synthesis) 100
g aq"+@fH 6.4 目标和评价函数 101
+@j@# ~=K 6.4.1 目标输入 102
$z"1&y) 6.4.2 目标 103
MoFAQe 6.4.3 特殊的评价函数 104
kt0ma/QpP 6.5 层锁定和连接 104
9A-=T>|of 6.6 细化技术 104
Q)$RE{*- 6.6.1 单纯形 105
@gn}J' 6.6.1.1 单纯形
参数 106
da,Bnze0 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107
\MY`R 6.6.2.1 Optimac参数 108
_UqE
-+& 6.6.3 模拟退火算法 109
E76#xsyhF 6.6.3.1
模拟退火参数 109
cGE,3dsF[ 6.6.4 共轭梯度 111
Vzs_g]V 6.6.4.1 共轭梯度参数 111
wS)2ymRg 6.6.5 拟牛顿法 112
>[D(<b(U& 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112
|P>Yf0 6.6.6 针合成 113
?KKu1~a_ 6.6.6.1 针合成参数 114
O\"k[V?.V 6.6.7 差分进化 114
rZK;=\Ot 6.6.8非局部细化 115
S=N3qBH6 6.6.8.1非局部细化参数 115
z+k[HE^S 6.7 我应该使用哪种技术? 116
)5O E~}> 6.7.1 细化 116
CBVL/pxy 6.7.2 合成 117
v"LH^!/ 6.8 参考文献 117
Kz>Bw;R( 7 导纳图及其他工具 118
|BC/ERms 7.1 简介 118
qSg=[7XOO 7.2 薄膜作为导纳的变换 118
Sp2<rI 7.2.1 四分之一
波长规则 119
&Oxf^x["] 7.2.2 导纳图 120
9r efv 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124
(9phRo)> 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125
2j UEL=+Y 7.5 斜入射导纳图 141
)qL UHE= 7.6 对称周期 141
[ljC S 7.7 参考文献 142
)yj:P 8 典型的镀膜实例 143
}=fVO<Rv 8.1 单层抗反射薄膜 145
NQdz]o 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146
_?YP0GpU 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147
:Nt_LsH 8.4 W-膜层 148
?C6DK{S( 8.5 V-膜层 149
G""L1? 8.6 V-膜层高折射基底 150
a*g7uaoP 8.7 V-膜层高折射率基底b 151
^s;xLGl] 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152
}5??n~:*5 8.9 四层抗反射薄膜 153
43HZ)3!me 8.10 Reichert抗反射薄膜 154
\uUd * 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155
VxKD>:3c 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156
dHUcu@, 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157
cj5;XK 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158
D J:N 8.15十五层宽带抗反射膜 159
%!vgAH4 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161
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