摘要
Yq4_ss'nB rOE [c 高
数值孔径物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此，在
聚焦模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，并且可以深入了解矢量效应。
7& /iuP$. +dS e" W9 
v$p<6^kJ pY!@w0. 建模任务
P )_ g t zGj0 '!!- 
w '~f Z* 0Q_AF`" 入射平面波
POfvs] 波长 2.08 nm
HGs.v}@& 光斑直径： 3mm
*5hg}[n2 沿x方向线偏振
zPWG^ 7ml, 如何进行整个
系统的光线追迹分析？
s[ nXr 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布？
#,Fk U
P GS 概览
.AH#D}m •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
|s+[489g'6 •接下来，我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
R"];`F(# tk|Ew!M: 
,m{Zn"?kS 光线追迹模拟
Z9cch- u~ •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为模拟引擎。
29z+<?K{ •点击Go！
=<y$5"| •获得3D光线追迹结果。
ce.'STm= lJpD>\$}@R 
*e H[~ 4 8TD:~ee 光线追迹模拟
1mwb&j24n3 •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为模拟引擎。
&Zs h- |N •单击Go！
_' Xt •结果，获得点图（2D光线追迹结果）。
^j[>.D MM3X!
tq 
>#Y8#-$z c I5wf|wB- 光场追迹模拟
A 7 'dD$9 •切换到“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为模拟引擎。
0V{-5-. •单击Go！
eA $9)K1GO O`g44LW2n 
|#^u%#'[2 h2`W~g_ 光场追迹结果（照相机探测器）
RvZi %) |F-_YR •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
Bbz#$M!: •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度：由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
Y
6K<e:Y P+:FiVj@~ 
D0 6'" Jt43+] 光场追迹结果（电磁场探测器）
mLd=+&M 6 K P •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
B#&U5fSw+0 'vgw>\X( 
K
I Gn<s >3E 
u3R0_8
_.w I;qeDCM 
#*BcO-N W @Y$ !V< 
