摘要
v3r<kNW_ =la~D]T*g 高
数值孔径物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此，在
聚焦模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，并且可以深入了解矢量效应。
Q&&oP:4~X* &xS]
;Fr 
W9jxw 4) cTdX'5 建模任务
o AM)< #U> o3oT u 
LbnW(wr6:( /Hyi/D{ W 入射平面波
)/BbASO$)Z 波长 2.08 nm
#9q
]jjH E 光斑直径： 3mm
G4J)o?:m@ 沿x方向线偏振
OTWp,$YA= +.66Ky`|[ 如何进行整个
系统的光线追迹分析？
?PU7xO;_ 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布？
*^p^tK GNoUn7Y 概览
Z
\;{e'#o •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
2:;; •接下来，我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
v=E(U4v9e 7~nuFJaTI 
Mo[yRRS# 光线追迹模拟
yjIA`5^ •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为模拟引擎。
B[;aNy d< •点击Go！
r!/<%\S •获得3D光线追迹结果。
Ko %e#q- ?l^NKbw 
P r#uV3\ c6MMI]+8 光线追迹模拟
k6(0:/C •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为模拟引擎。
lZ?YyRsa6& •单击Go！
o}y(T07n •结果，获得点图（2D光线追迹结果）。
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]F ` 光场追迹模拟
0G(|`xG1q •切换到“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为模拟引擎。
!iU$-/,1 e •单击Go！
X1^ Q1?0 5a2+ 6N 
Dh)(?"^9A c2fw;)j&X 光场追迹结果（照相机探测器）
!Mj28 8 Bx58$xRq •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
=!DpW Vs Q •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度：由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
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>lF@M- E*d UJ.> 光场追迹结果（电磁场探测器）
ma@!"Z8 S
FM <`\ d' •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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