摘要
QX&Y6CC`] v>mK~0.$ 高
数值孔径物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此，在
聚焦模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，并且可以深入了解矢量效应。
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+M#}(hK Eg} U.ss^ 建模任务
6]?W&r|0I P1^|r} 
Wl+spWqW )%kiM<}) 入射平面波
DvLwX1(l 波长 2.08 nm
IAN={";p 光斑直径： 3mm
mC-wPi8 沿x方向线偏振
O.\\)8xA <R~;|&o,$ 如何进行整个
系统的光线追迹分析？
paMK ]- 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布？
(c"!&&S^ = B~@Gfb>`' 概览
zMO#CZ t •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
l,3,$ •接下来，我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
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h qhX 光线追迹模拟
9%"\s2T •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为模拟引擎。
'{.8tT ?tJ •点击Go！
H;q[$EUNb •获得3D光线追迹结果。
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-II03 S1 vSv1FZu* 光线追迹模拟
N_Zd.VnY •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为模拟引擎。
vg"*%K$a •单击Go！
p -w:l*-` •结果，获得点图（2D光线追迹结果）。
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wuk\__ f4 -okq= 9 光场追迹模拟
K_:2s DCaN •切换到“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为模拟引擎。
T5I#7LN# •单击Go！
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h^1 !8oOYD ma<uXq 光场追迹结果（照相机探测器）
u86@zlzd [ gZR}E •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
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.a •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度：由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
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u iC>%P&|-)| 光场追迹结果（电磁场探测器）
UlNV%34" 7 &% HE\ •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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