摘要
pwUXM?$R {.Tx70kn 高
数值孔径物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此,在
聚焦模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,并且可以深入了解矢量效应。
rk=D5E7 [P$Xr6# %>_[b, Iq$| ?MH
建模任务
Et>#&Nw8 sXKkZ+2q LiJYyp a6p0_-MF 入射平面波
SnCwoxK 波长 2.08 nm
nhI+xqfn 光斑直径: 3mm
_ _O f0< 沿x方向线偏振
?u|??z% z^Q'GBoBA 如何进行整个
系统的光线追迹分析?
XxqGsGx4 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布?
[m~J6WB "W<Y1$Y=Y 概览
Gvb2>ZN •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
"gJ?LojB < •接下来,我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
6Z\ aJ :uL<UD,vu3 ,GbmL8P7Y 光线追迹模拟
OV>&`puL •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为模拟引擎。
"hkcN+= •点击Go!
`FHudSK •获得3D光线追迹结果。
%Ymi,o> ~o}:!y -Cf)`/ V^~RDOSy7n 光线追迹模拟
q?,PFvs" •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为模拟引擎。
;\MWxh,K •单击Go!
Pz4#>tP •结果,获得点图(2D光线追迹结果)。
5#Er& 6s 3o.x<G( Met?G0[ Mw[3711v 光场追迹模拟
hCxg6e<[ •切换到“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为模拟引擎。
]HKt7 %, •单击Go!
?d')#WnC (qn=BPI .jrNi=BP* )&Ii!tm3 光场追迹结果(照相机探测器)
72HA.!ry R >x d*A •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
)e(<YST •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度:由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
\C~X_/sg \"P{8<h.3 5K vp% tBo\R?YRs 光场追迹结果(电磁场探测器)
y6(PG:L h5?^MRZS •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
K3&xe( l4C{LZ 2>z YJqG| !gh8 Qs $]7f1U_e AXyXK?? 3%vXB=>T! ||+~8z#+,