摘要
4;eD}g +;M 5Sp 高
数值孔径物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此,在
聚焦模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,并且可以深入了解矢量效应。
\,r*-jr iSg0X8J)
q?@* >y(loMl 建模任务
tmoaa!yRnT 8=zREt<Se
Wh~,?}laj iyXd"O 入射平面波
@u:` 波长 2.08 nm
w.#z>4#3- 光斑直径: 3mm
'2|P-/jU 沿x方向线偏振
S.q0L 69apTx 如何进行整个
系统的光线追迹分析?
radP%W-U 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布?
~tZB1+%) "fUNrhCx 概览
6a_U[-a9; •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
MUGoW;}v) •接下来,我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
oe0YxSauL b?qV~Dgk`
[-\U)>MY(p 光线追迹模拟
9)o@d`*
•首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为模拟引擎。
yPs6_Qo!p •点击Go!
y`
'#gH •获得3D光线追迹结果。
Q1rEUbvCE iHK.hs;
-Dy<B _`p^B%[ 光线追迹模拟
p
.P#S •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为模拟引擎。
} # L_R •单击Go!
3la `S$c •结果,获得点图(2D光线追迹结果)。
\NEk B&^n c h((u(G
j+{cc: h"X -Fu,oEj{* 光场追迹模拟
x$D^Bh, •切换到“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为模拟引擎。
%e3E}m> •单击Go!
_\Z'Yl dU2;
9!Jt}n?!g Oh>hyY)} 光场追迹结果(照相机探测器)
u86PTp+ aDxNAfP
•上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
uOy/c 8` •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度:由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
<t*<SdAq>` o?Cc
n;$u%2 t2 (
^@i(XQ 光场追迹结果(电磁场探测器)
=5V7212 ?%Tx%
dB •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
JYA>Q& 4
2DMmwB
a?8)47) +R HiX!PG
)pT5"{ (v|<"
tv
)*{B_[ U1pE2o-