摘要
FKtCUq,: |em_l$oGc 高
数值孔径物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此，在
聚焦模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，并且可以深入了解矢量效应。
c ]ll89`|| z cV~)go6 
$*fEgU% c 6[ Mu3.T 建模任务
u~t% GIg FLumI-se! 
;x)f;!e+ P` CQ)o 入射平面波
fob.?ID-; 波长 2.08 nm
% Q93n {? 光斑直径： 3mm
G`v(4`tA 沿x方向线偏振
2j^8{Agz : 2t?0Y R 如何进行整个
系统的光线追迹分析？
1OFrxSg 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布？
_P_R`A)" gfX it$s 概览
Wsw/ D •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
gE&83 i" •接下来，我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
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0#sf,ja> 光线追迹模拟
{bNKyT •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为模拟引擎。
*]S&V'Di •点击Go！
B%co`0$ •获得3D光线追迹结果。
I&&[ ': F{17 K$y 
) k 6z bm Rp)CYd 光线追迹模拟
eeUEqM$7EX •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为模拟引擎。
l5Q-M{w0x •单击Go！
7@!ne&8Z? •结果，获得点图（2D光线追迹结果）。
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r[&/* ~xL >@|XY< 光场追迹模拟
]#O~lq •切换到“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为模拟引擎。
KupQtT< •单击Go！
yMe; mm`yu$9gbP 
Hc-68]T ]%6XE) 光场追迹结果（照相机探测器）
D0p>Q^w C1(0jUz •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
^1+=HdN, •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度：由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
Z2{G{]EV( Cbr>\;sc2Z 
S 4>1 d- D"s
]dQ$r 光场追迹结果（电磁场探测器）
;LFs.Jc< :}~B;s0M\ •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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