摘要
CooOBk Hr!%L*h? 高
数值孔径物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此,在
聚焦模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,并且可以深入了解矢量效应。
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,Lr}P R~N'5#.*M 建模任务
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T~)zgu%q_ ]:Sb#=,!&! 入射平面波
0wZAsG"Bg 波长 2.08 nm
Mq4>Mu 光斑直径: 3mm
]Ag{#GJ5D 沿x方向线偏振
)!g@MHHL ~vstuRRST 如何进行整个
系统的光线追迹分析?
<-N7Skkk! 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布?
A1/[3Bz o{xA{ @< 概览
v.{I^= •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
;;<[_gp,E •接下来,我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
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^/"2s}+ 光线追迹模拟
l4Q v$ •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为模拟引擎。
$X]Z-RCK3 •点击Go!
e<-^ •获得3D光线追迹结果。
mmBZ}V+&= 2br~Vn0N
J%lEyU u#`'|ko\9 光线追迹模拟
4<y|SI! •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为模拟引擎。
E9#.!re|^ •单击Go!
=801nZJ •结果,获得点图(2D光线追迹结果)。
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$S2kc$'F kd+tD!:F( 光场追迹模拟
am#(ms •切换到“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为模拟引擎。
[Ontip •单击Go!
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z y>|AX/n 光场追迹结果(照相机探测器)
.q_SA-!w> VQHQvFRZ) •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
?PDrj/: * •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度:由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
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O`FuXB(t i=j4Wg ,{J 光场追迹结果(电磁场探测器)
<G#z;]N 73tWeZ8rvx •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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