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    [培训]线下课程-衍射及微纳光学系统的分析、设计及加工 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-10-13
    时间地点 UB~K/r`.|  
    主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 Sv=YI  
    授课时间:2023年12月28日(四)-30日(六)共3天 AM 9:00-PM 16:00 :UwBs  
    授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 (3e.q'  
    课程讲师:讯技光电高级工程师 l5z//E}W  
    课程费用:5000RMB(课程包含课程材料费、开票税金、午餐费用) RhYe=Qh4{p  
    课程概要 *tjaac;z<J  
    本课程从基本衍射原理开始,逐步阐明光的衍射本质以及衍射光学元件的工作原理。在基础衍射理论基础之上,进一步讨论衍射光学元件的设计方法。在传统衍射光学理论之上,再进一步讨论微纳光学领域中的矢量衍射理论,并以此为基础阐明多种微纳光学元件(如偏振元件)的设计理念。与理论设计相应的,课程中另一个重要方面是加工技术。如何根据需要选择合适的加工技术,是以质量为先还是需要考虑批量加工成本,这些问题也会在课程中讨论。此外,更重要的一点是,衍射和微纳元件的设计与加工技术往往是关联的,甚至是有所制约的。因此,我们会在课程中指明元件加工工艺以及设计方法之间的关系,并且在讲授相关内容的同时辅以VirtualLab Fusion在此方面的设计及建模方法,从而做到真正的学以致用,加速在微纳光学领域的领悟及开拓。 kD#T _d  
    If'q8G3]-  
    fy+5i^{=  
    @52#ZWy  
    课程大纲 /R&`]9].s  
    1.波动光学基础 VuLb9Kn  
    □ 双光束干涉及杨氏干涉 n%Oi~7>  
    □ 相干及非相干光源的传播特性 (Jp~=6&lKf  
    □ 衍射光学与傅里叶变换 FDo PW~+[  
    2.衍射元件概述  bPsvoG  
    □ 衍射光学元件概念 N:G]wsh  
    □ 衍射光学元件优点 {7y;s  
    □ 光束分束、整形、扩散  9q X$  
    □ 傅里叶变换 [^!SkQ  
    □ 角谱理论 ?NE/ }?a  
    □ 工作装置类型 ]*dYX=6  
    3.衍射光学元件理念及设计 FNGa4  
    □ 基本理念 Om.%K>V  
    透镜和衍射光学元件的作用 5OM #_.p  
    □ 分束、整形和扩散的实质 TX)W.2u=  
    □ 衍射光学元件的特征尺寸 7_~sa{1R.  
    □ 衍射光学元件优化设计方法 AA\)BNM  
    4.IFTA简介 3ynkf77cn  
    □ 基本设计步骤 K6{wM  
    光学系统结构——1f、2f、Fresnel、Far-field、角谱 ]m_x;5s $  
    参数估算——周期和线宽的估算  |q3X#s72  
    □ 光学系统分辨率——不同结构的分辨率 "#)|WVa=BM  
    □ 配置设计过程的优化评价函数 Dgz, Uad8f  
    5.衍射元件设计案例 ?HG[N7=j  
    □ 衍射分束器参数选择 hpf0fU  
    □ 衍射分束器设计流程:规则和任意形状 c5p,~z_Dtu  
    □ 衍射整形器参数选择 QN*|_H@h  
    □ 衍射整形器设计流程:1D和2D平顶型 cvcZ\y  
    □ 衍射扩散器参数选择 $9%F1:u  
    □ 衍射扩散器设计流程:平顶型和任意图案 NX\AQVy9  
    6.光栅模拟分析 NV5qF/<M  
    □ 构建stack cGm3LS6]*  
    □ 调整模拟参数——精度因子和衍射级次 @ ]u@e4T  
    □ 近场分析、衍射效率分析、内部场分析 6B]=\H  
    □ 2D光栅表面镀膜分析 P!-RZEt$  
    Y" =8wNbr  
    □ 3D表面具有减反结构的光栅分析 }NDl~5  
    □ 光栅单元阵列及透镜阵列的建模与分析 h6k" D4o\  
    7.光栅概述 `BmnXWMgx  
    □ 2D和3D光栅,亚波长光栅,及二元光学元件 ti61&)(  
    □ 标量衍射和傅里叶变换 &G2&OFAr]q  
    □ 矢量衍射和傅里叶模态法 L9jT :2F  
    纳米光学元件的应用:抗反射、偏振控制、成像、传感等 H+*3e&  
    8.微纳光学元件制作 WIU]>_$.  
    □ 多阶器件加工 pW+uVv,  
    □ 连续器件加工 ;_\y g)X,  
    □ 传统套刻法 h: yJ  
    激光直写法 NU=2*gM  
    □ 纳米光子器件制作概述 #^$_/Q#C  
    □ 衍射光学元件公差分析 1G]D:9-?  
    9.答疑 k, N{  
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