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    [培训]线下课程-衍射及微纳光学系统的分析、设计及加工 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-10-13
    时间地点: 9uer(}WKT  
    主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 m^H21P"z  
    授课时间:2023年12月28日(四)-30日(六)共3天 AM 9:00-PM 16:00 't_[dSO  
    授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 kH4Ai3#g  
    课程讲师:讯技光电高级工程师 Q"t<3-"  
    课程费用:5000RMB(课程包含课程材料费、开票税金、午餐费用) zj/!In  
    课程概要: $zyIuJN#  
    本课程从基本衍射原理开始,逐步阐明光的衍射本质以及衍射光学元件的工作原理。在基础衍射理论基础之上,进一步讨论衍射光学元件的设计方法。在传统衍射光学理论之上,再进一步讨论微纳光学领域中的矢量衍射理论,并以此为基础阐明多种微纳光学元件(如偏振元件)的设计理念。与理论设计相应的,课程中另一个重要方面是加工技术。如何根据需要选择合适的加工技术,是以质量为先还是需要考虑批量加工成本,这些问题也会在课程中讨论。此外,更重要的一点是,衍射和微纳元件的设计与加工技术往往是关联的,甚至是有所制约的。因此,我们会在课程中指明元件加工工艺以及设计方法之间的关系,并且在讲授相关内容的同时辅以VirtualLab Fusion在此方面的设计及建模方法,从而做到真正的学以致用,加速在微纳光学领域的领悟及开拓。 cFJ-Mkl l  
    8:#rA*Y  
    5Pd"h S  
    aAA9$  
    课程大纲: ]]&M@FM2z  
    1.波动光学基础 W3;#fa:[L  
    □ 双光束干涉及杨氏干涉 ^~$)F_`"  
    □ 相干及非相干光源的传播特性 * =wYuJ#  
    □ 衍射光学与傅里叶变换 9(L)&S{4K  
    2.衍射元件概述 x,otFp  
    □ 衍射光学元件概念 qR8u$2}NY  
    □ 衍射光学元件优点 .>mr%#p  
    □ 光束分束、整形、扩散 5e}A@GyC  
    □ 傅里叶变换 CXO2N1~(J  
    □ 角谱理论 e+j)~RBnu3  
    □ 工作装置类型 >A<bBK#  
    3.衍射光学元件理念及设计 u_ '!_T L  
    □ 基本理念 :OkT? (i  
    □ 透镜和衍射光学元件的作用 <]T`3W9  
    □ 分束、整形和扩散的实质 [ e8x&{L-_  
    □ 衍射光学元件的特征尺寸 \igmv]G%  
    □ 衍射光学元件优化设计方法 gt ";2,;X  
    4.IFTA简介 VB?O hk]<  
    □ 基本设计步骤 Cxcr/9  
    □ 光学系统结构——1f、2f、Fresnel、Far-field、角谱 KMV=%o  
    □ 参数估算——周期和线宽的估算 (&P9+Tl  
    □ 光学系统分辨率——不同结构的分辨率 8-lOB  
    □ 配置设计过程的优化评价函数 4<?8M vF  
    5.衍射元件设计案例 `KCh*i  
    □ 衍射分束器参数选择 ~j#]tElb  
    □ 衍射分束器设计流程:规则和任意形状 V%_4%  
    □ 衍射整形器参数选择 z)xSN;x  
    □ 衍射整形器设计流程:1D和2D平顶型 ?  BE6  
    □ 衍射扩散器参数选择 "F}'~HWZp  
    □ 衍射扩散器设计流程:平顶型和任意图案 :gB[O>'<m  
    6.光栅模拟分析 <N`J`J-[  
    □ 构建stack E!Zx#XP1  
    □ 调整模拟参数——精度因子和衍射级次 GV^i`r^"  
    □ 近场分析、衍射效率分析、内部场分析 2<][%> '  
    □ 2D光栅表面镀膜分析 x+h~gckLb  
    e+]6OV&+  
    □ 3D表面具有减反结构的光栅分析 =;3fq-  
    □ 光栅单元阵列及透镜阵列的建模与分析 A 5+rd{k/  
    7.光栅概述 h8Xg`C\  
    □ 2D和3D光栅,亚波长光栅,及二元光学元件 +R\vgE68  
    □ 标量衍射和傅里叶变换 >rP#ukr5  
    □ 矢量衍射和傅里叶模态法 [F*4EGB  
    □ 纳米光学元件的应用:抗反射、偏振控制、成像、传感等 q\q=PB6r  
    8.微纳光学元件制作 _kdL'x  
    □ 多阶器件加工 DEw8*MN  
    □ 连续器件加工 V=X:=  
    □ 传统套刻法 ;=9 >MS}  
    □ 激光直写法 nZ_v/?O  
    □ 纳米光子器件制作概述 Maqf[ Vky  
    □ 衍射光学元件公差分析 /Ux*u#  
    9.答疑 1N\D5g3  
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