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    [培训]线下课程-衍射及微纳光学系统的分析、设计及加工 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-10-13
    时间地点 Y$A2{RjRq  
    主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 aSX4~UYB=  
    授课时间:2023年12月28日(四)-30日(六)共3天 AM 9:00-PM 16:00 x]x3iFD  
    授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 !V3+(o 1  
    课程讲师:讯技光电高级工程师 jgIG";:Q  
    课程费用:5000RMB(课程包含课程材料费、开票税金、午餐费用) #NYnZ^6e  
    课程概要 =-fM2oiI:  
    本课程从基本衍射原理开始,逐步阐明光的衍射本质以及衍射光学元件的工作原理。在基础衍射理论基础之上,进一步讨论衍射光学元件的设计方法。在传统衍射光学理论之上,再进一步讨论微纳光学领域中的矢量衍射理论,并以此为基础阐明多种微纳光学元件(如偏振元件)的设计理念。与理论设计相应的,课程中另一个重要方面是加工技术。如何根据需要选择合适的加工技术,是以质量为先还是需要考虑批量加工成本,这些问题也会在课程中讨论。此外,更重要的一点是,衍射和微纳元件的设计与加工技术往往是关联的,甚至是有所制约的。因此,我们会在课程中指明元件加工工艺以及设计方法之间的关系,并且在讲授相关内容的同时辅以VirtualLab Fusion在此方面的设计及建模方法,从而做到真正的学以致用,加速在微纳光学领域的领悟及开拓。 uH%b rbrU  
    eTvjo(Lvx  
    8VMA~7^  
    8:V,>PH  
    课程大纲 j;]I -M[  
    1.波动光学基础 Yz_}*  
    □ 双光束干涉及杨氏干涉 /-[vC$B"  
    □ 相干及非相干光源的传播特性 )- &@ 8`  
    □ 衍射光学与傅里叶变换 K}re{y  
    2.衍射元件概述 )LFbz#;Y  
    □ 衍射光学元件概念 S u6kpC!EW  
    □ 衍射光学元件优点 -^CW}IM{ I  
    □ 光束分束、整形、扩散 Y:TfD{Xgc  
    □ 傅里叶变换 ~ O#\$u  
    □ 角谱理论 z:f&k}(  
    □ 工作装置类型 l%"DeRp,/  
    3.衍射光学元件理念及设计 +d\o|}c  
    □ 基本理念 -^m?%_<50l  
    透镜和衍射光学元件的作用 t"GnmeH i  
    □ 分束、整形和扩散的实质 ZL<X* l2  
    □ 衍射光学元件的特征尺寸 F,~BhKkbV  
    □ 衍射光学元件优化设计方法 %eDSo9Y  
    4.IFTA简介 gPk,nB  
    □ 基本设计步骤 NgyEy n \  
    光学系统结构——1f、2f、Fresnel、Far-field、角谱 Gkuqe3  
    参数估算——周期和线宽的估算 k+ t(u]  
    □ 光学系统分辨率——不同结构的分辨率 q"2APvsvp  
    □ 配置设计过程的优化评价函数 \[3~*eX6  
    5.衍射元件设计案例 )mm0PJF~q  
    □ 衍射分束器参数选择 ({t^/b*8  
    □ 衍射分束器设计流程:规则和任意形状 S2'ai  
    □ 衍射整形器参数选择 JyE-c}I  
    □ 衍射整形器设计流程:1D和2D平顶型  N~$>| gn  
    □ 衍射扩散器参数选择 ZEI)U, I.  
    □ 衍射扩散器设计流程:平顶型和任意图案 ,gQl_Amvz  
    6.光栅模拟分析 i0{\c}r:4b  
    □ 构建stack hc q&`Gun  
    □ 调整模拟参数——精度因子和衍射级次 ,.9lz  
    □ 近场分析、衍射效率分析、内部场分析 rq3f/_#L!O  
    □ 2D光栅表面镀膜分析 {OPEW`F  
    >(a35 b$  
    □ 3D表面具有减反结构的光栅分析 gvT}UNqL  
    □ 光栅单元阵列及透镜阵列的建模与分析  6a,8t  
    7.光栅概述 ,K,st+s|  
    □ 2D和3D光栅,亚波长光栅,及二元光学元件 Vhv'Z\  
    □ 标量衍射和傅里叶变换 *`+zf7-f  
    □ 矢量衍射和傅里叶模态法 <h:xZtz  
    纳米光学元件的应用:抗反射、偏振控制、成像、传感等 )&O2l  
    8.微纳光学元件制作 fU|v[  
    □ 多阶器件加工 0C :8X   
    □ 连续器件加工 %.=}v7&<z  
    □ 传统套刻法 iG54 +]  
    激光直写法 j<kW+Iio  
    □ 纳米光子器件制作概述 jaEe$2F2  
    □ 衍射光学元件公差分析 MBt\"b#t  
    9.答疑 }BC%(ZH6  
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