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    [培训]线下课程-衍射及微纳光学系统的分析、设计及加工 [复制链接]

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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2023-10-13
    时间地点 o&Xp%}TI  
    主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 oMj"l#a*  
    授课时间:2023年12月28日(四)-30日(六)共3天 AM 9:00-PM 16:00 %bN{FKNN  
    授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 ?4/pE@RIy  
    课程讲师:讯技光电高级工程师 Mh-"B([Z  
    课程费用:5000RMB(课程包含课程材料费、开票税金、午餐费用) 'kt6%d2  
    课程概要 [1 P_^.Htr  
    本课程从基本衍射原理开始,逐步阐明光的衍射本质以及衍射光学元件的工作原理。在基础衍射理论基础之上,进一步讨论衍射光学元件的设计方法。在传统衍射光学理论之上,再进一步讨论微纳光学领域中的矢量衍射理论,并以此为基础阐明多种微纳光学元件(如偏振元件)的设计理念。与理论设计相应的,课程中另一个重要方面是加工技术。如何根据需要选择合适的加工技术,是以质量为先还是需要考虑批量加工成本,这些问题也会在课程中讨论。此外,更重要的一点是,衍射和微纳元件的设计与加工技术往往是关联的,甚至是有所制约的。因此,我们会在课程中指明元件加工工艺以及设计方法之间的关系,并且在讲授相关内容的同时辅以VirtualLab Fusion在此方面的设计及建模方法,从而做到真正的学以致用,加速在微纳光学领域的领悟及开拓。 ]$r]GVeN}H  
    ZF[W<Q  
    klT?h[I!  
    bHnKtaK4c  
    课程大纲  t8EI"|  
    1.波动光学基础 jeRE(3'Q  
    □ 双光束干涉及杨氏干涉 N{HAWB{  
    □ 相干及非相干光源的传播特性 t,|Apl]  
    □ 衍射光学与傅里叶变换 K}re{y  
    2.衍射元件概述 .eD&UQ  
    □ 衍射光学元件概念 '`k7l7I[@  
    □ 衍射光学元件优点 v.Bwg 7R3  
    □ 光束分束、整形、扩散 "gM!/<~  
    □ 傅里叶变换 JP<j4/  
    □ 角谱理论 ;7:} iKU  
    □ 工作装置类型 xB Wl|j  
    3.衍射光学元件理念及设计 %QEBY>|lI  
    □ 基本理念  g]?pY  
    透镜和衍射光学元件的作用 m 1; Htw  
    □ 分束、整形和扩散的实质 KqntOo} y)  
    □ 衍射光学元件的特征尺寸 yC\UT ~j/  
    □ 衍射光学元件优化设计方法 5S!#^>_  
    4.IFTA简介 #RR;?`,L}  
    □ 基本设计步骤 |> STb\  
    光学系统结构——1f、2f、Fresnel、Far-field、角谱 )y*&&q   
    参数估算——周期和线宽的估算 ZL<X* l2  
    □ 光学系统分辨率——不同结构的分辨率 x;u#ec4  
    □ 配置设计过程的优化评价函数 yO)xN=o^\  
    5.衍射元件设计案例 c8X;4 My  
    □ 衍射分束器参数选择 w gS'/  
    □ 衍射分束器设计流程:规则和任意形状 gPk,nB  
    □ 衍射整形器参数选择 %akW43cE  
    □ 衍射整形器设计流程:1D和2D平顶型 _F6<ba}o3  
    □ 衍射扩散器参数选择 T"vf   
    □ 衍射扩散器设计流程:平顶型和任意图案 _`? cBu`  
    6.光栅模拟分析 #17 &rizl  
    □ 构建stack #wIWh^^ Zy  
    □ 调整模拟参数——精度因子和衍射级次 LP#wE~K"b  
    □ 近场分析、衍射效率分析、内部场分析 I~n4}}9M  
    □ 2D光栅表面镀膜分析 z)C/U  
    i&>^"_4rc  
    □ 3D表面具有减反结构的光栅分析 G]rY1f0  
    □ 光栅单元阵列及透镜阵列的建模与分析 Sz Mh  
    7.光栅概述 \KhcNr?ja=  
    □ 2D和3D光栅,亚波长光栅,及二元光学元件 D2&d",%&f  
    □ 标量衍射和傅里叶变换 1(BLdP3&  
    □ 矢量衍射和傅里叶模态法 >JE+j=  
    纳米光学元件的应用:抗反射、偏振控制、成像、传感等 5eff3qrH{  
    8.微纳光学元件制作 J"AR3b@,$?  
    □ 多阶器件加工 qK.(w Fx  
    □ 连续器件加工 g8MW6Y  
    □ 传统套刻法 '/8/M{`s  
    激光直写法 b&[".ibN1  
    □ 纳米光子器件制作概述 hc q&`Gun  
    □ 衍射光学元件公差分析 +S4>}2N33  
    9.答疑 YgcW1}  
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