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    [培训]线下课程-衍射及微纳光学系统的分析、设计及加工 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-10-13
    时间地点 `#X\@?'5  
    主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 )^G&p[G  
    授课时间:2023年12月28日(四)-30日(六)共3天 AM 9:00-PM 16:00 2J^jSgr50d  
    授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 *1Q~/<W  
    课程讲师:讯技光电高级工程师  qac4GZ  
    课程费用:5000RMB(课程包含课程材料费、开票税金、午餐费用) yNw YP%"y  
    课程概要 71nI`.Z  
    本课程从基本衍射原理开始,逐步阐明光的衍射本质以及衍射光学元件的工作原理。在基础衍射理论基础之上,进一步讨论衍射光学元件的设计方法。在传统衍射光学理论之上,再进一步讨论微纳光学领域中的矢量衍射理论,并以此为基础阐明多种微纳光学元件(如偏振元件)的设计理念。与理论设计相应的,课程中另一个重要方面是加工技术。如何根据需要选择合适的加工技术,是以质量为先还是需要考虑批量加工成本,这些问题也会在课程中讨论。此外,更重要的一点是,衍射和微纳元件的设计与加工技术往往是关联的,甚至是有所制约的。因此,我们会在课程中指明元件加工工艺以及设计方法之间的关系,并且在讲授相关内容的同时辅以VirtualLab Fusion在此方面的设计及建模方法,从而做到真正的学以致用,加速在微纳光学领域的领悟及开拓。 B{:JD^V!  
    p6qza @  
    hQm"K~SW=  
    _N.N?>  
    课程大纲 i2PPVT  
    1.波动光学基础 S\qYw(G  
    □ 双光束干涉及杨氏干涉 kF09t5Lr  
    □ 相干及非相干光源的传播特性 m{U+aqAQK  
    □ 衍射光学与傅里叶变换 U~,~GU=X  
    2.衍射元件概述 /uTU*Oe  
    □ 衍射光学元件概念 r%*UU4xvB  
    □ 衍射光学元件优点 AWp{n  
    □ 光束分束、整形、扩散 GzJ("RE0)v  
    □ 傅里叶变换 Bf&,ACOf  
    □ 角谱理论 }d,iA FG  
    □ 工作装置类型 2{<5?Op  
    3.衍射光学元件理念及设计 JN9 W:X.  
    □ 基本理念 sCX 8  
    透镜和衍射光学元件的作用 8=]R6[,fD  
    □ 分束、整形和扩散的实质 b*-g@S  
    □ 衍射光学元件的特征尺寸 :RJ=f  
    □ 衍射光学元件优化设计方法 LX4*3c|i,  
    4.IFTA简介 ews4qP  
    □ 基本设计步骤 $"+ahS<?tC  
    光学系统结构——1f、2f、Fresnel、Far-field、角谱 EF7Y4lp  
    参数估算——周期和线宽的估算 (6xrs_ea  
    □ 光学系统分辨率——不同结构的分辨率 U!GG8;4  
    □ 配置设计过程的优化评价函数 ]F,mj-?4x  
    5.衍射元件设计案例 l8"  
    □ 衍射分束器参数选择 f0 ;Fokt(  
    □ 衍射分束器设计流程:规则和任意形状 7=YjY)6r^  
    □ 衍射整形器参数选择 gAy,uP~,  
    □ 衍射整形器设计流程:1D和2D平顶型 Cf-R?gn]  
    □ 衍射扩散器参数选择 vd@ _LcK  
    □ 衍射扩散器设计流程:平顶型和任意图案 ^Vl{IsY  
    6.光栅模拟分析 s!\:%N  
    □ 构建stack dS7?[[pg9  
    □ 调整模拟参数——精度因子和衍射级次 NJEubC?  
    □ 近场分析、衍射效率分析、内部场分析 mk)F3[ ke  
    □ 2D光栅表面镀膜分析 __}j {Buk  
    AE:IXP|c  
    □ 3D表面具有减反结构的光栅分析 (lDbArqy  
    □ 光栅单元阵列及透镜阵列的建模与分析 +doZnU,  
    7.光栅概述 ]fN\LY6p  
    □ 2D和3D光栅,亚波长光栅,及二元光学元件 83"Vh$&  
    □ 标量衍射和傅里叶变换 F,Ls1  
    □ 矢量衍射和傅里叶模态法 67/&AiS?  
    纳米光学元件的应用:抗反射、偏振控制、成像、传感等 b%w?YR   
    8.微纳光学元件制作 [m>kOv6>^  
    □ 多阶器件加工 _Y7uM6HL\  
    □ 连续器件加工 l{:7*U{d  
    □ 传统套刻法 3JB?G>\!  
    激光直写法 g\ r%A  
    □ 纳米光子器件制作概述 /8Sg<  
    □ 衍射光学元件公差分析 JLS|G?#0  
    9.答疑 NaeG2>1  
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