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    [培训]线下课程-衍射及微纳光学系统的分析、设计及加工 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-10-13
    时间地点 ']vX  
    主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 5[gkGKkf_  
    授课时间:2023年12月28日(四)-30日(六)共3天 AM 9:00-PM 16:00 x2ol   
    授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 +]]wf'w  
    课程讲师:讯技光电高级工程师 %q*U[vv  
    课程费用:5000RMB(课程包含课程材料费、开票税金、午餐费用) g>im2AD+e  
    课程概要 F'j:\F6C;  
    本课程从基本衍射原理开始,逐步阐明光的衍射本质以及衍射光学元件的工作原理。在基础衍射理论基础之上,进一步讨论衍射光学元件的设计方法。在传统衍射光学理论之上,再进一步讨论微纳光学领域中的矢量衍射理论,并以此为基础阐明多种微纳光学元件(如偏振元件)的设计理念。与理论设计相应的,课程中另一个重要方面是加工技术。如何根据需要选择合适的加工技术,是以质量为先还是需要考虑批量加工成本,这些问题也会在课程中讨论。此外,更重要的一点是,衍射和微纳元件的设计与加工技术往往是关联的,甚至是有所制约的。因此,我们会在课程中指明元件加工工艺以及设计方法之间的关系,并且在讲授相关内容的同时辅以VirtualLab Fusion在此方面的设计及建模方法,从而做到真正的学以致用,加速在微纳光学领域的领悟及开拓。 K.z}%a  
    ^m1Rw|  
    W: ?-d{  
    Zo0&<QWj  
    课程大纲 ?|hzAF"U  
    1.波动光学基础 C#-x 3d-{  
    □ 双光束干涉及杨氏干涉 s*l_O* $'  
    □ 相干及非相干光源的传播特性 &6\rKOsn  
    □ 衍射光学与傅里叶变换 <01B\t7  
    2.衍射元件概述 XbH X,W$h  
    □ 衍射光学元件概念 E?XA/z !  
    □ 衍射光学元件优点 _ _)Z Q  
    □ 光束分束、整形、扩散 ;C"J5RA  
    □ 傅里叶变换 F}01ikXDb'  
    □ 角谱理论 X2e|[MWkp  
    □ 工作装置类型 ;c>Yr ?^  
    3.衍射光学元件理念及设计 &erNVD5o  
    □ 基本理念 +bO{U C[  
    透镜和衍射光学元件的作用 7k$8i9#  
    □ 分束、整形和扩散的实质 '[-/X a['  
    □ 衍射光学元件的特征尺寸 _?r+SRFn  
    □ 衍射光学元件优化设计方法 }]s~L9_z['  
    4.IFTA简介 UJm`GO  
    □ 基本设计步骤 J`mp8?;%  
    光学系统结构——1f、2f、Fresnel、Far-field、角谱 rzTyHK[  
    参数估算——周期和线宽的估算 }%1E9u  
    □ 光学系统分辨率——不同结构的分辨率 Sc0ZT/Lm  
    □ 配置设计过程的优化评价函数 fzKKK+   
    5.衍射元件设计案例 Ka{IueSs  
    □ 衍射分束器参数选择 d)G-K+&B  
    □ 衍射分束器设计流程:规则和任意形状 b]Y,& 8}[+  
    □ 衍射整形器参数选择 pj )I4C)  
    □ 衍射整形器设计流程:1D和2D平顶型 u3ZG;ykM  
    □ 衍射扩散器参数选择 ;% !?dH6  
    □ 衍射扩散器设计流程:平顶型和任意图案 =_1" d$S&  
    6.光栅模拟分析 ~xJD3Qf  
    □ 构建stack ;I7Z*'5!  
    □ 调整模拟参数——精度因子和衍射级次 AHA*yC  
    □ 近场分析、衍射效率分析、内部场分析 8r|LFuI  
    □ 2D光栅表面镀膜分析 *@ o3{0[Z  
    d}=p-s.GA  
    □ 3D表面具有减反结构的光栅分析 ^$L/Mv+  
    □ 光栅单元阵列及透镜阵列的建模与分析 fBF}-{VX(  
    7.光栅概述 v8X&H  
    □ 2D和3D光栅,亚波长光栅,及二元光学元件 xl9l>k6,  
    □ 标量衍射和傅里叶变换 ]d[q:N]z  
    □ 矢量衍射和傅里叶模态法 Ww p^dx`!  
    纳米光学元件的应用:抗反射、偏振控制、成像、传感等 oD8-I^  
    8.微纳光学元件制作 s=nds"J  
    □ 多阶器件加工 Z kS* CG   
    □ 连续器件加工 ;F+%{LgKl  
    □ 传统套刻法 :U*[s$  
    激光直写法 xn@jL;+<-  
    □ 纳米光子器件制作概述 J91`wA&r  
    □ 衍射光学元件公差分析 5R Hs  
    9.答疑 lrE0)B5F  
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