线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:1381
时间地点 OndhLLz  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 HftxS  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 pWE`x|J  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 QO{y/{  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 Q 6C-4ja  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
kHc<*L_ V  
特邀专家介绍 gLE7Edcp6V  
.r+hERcB  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 wyxGe<1  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 qJR!$?  
课程概要 ~9Cz6yF  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 rAQF9O[  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 p3^jGj@  
课程大纲 Uf*EJ1Ei  
1. Essential Macleod软件介绍 T:asm1BC[  
1.1 介绍软件 \nrP$  
1.2 创建一个简单的设计 1+y"i<3)  
1.3 绘图和制表来表示性能 IO.<q,pP!_  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 3b[jwCt  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) RAs0]K  
1.6 特定设计的公式技术 sTHq&(hLUG  
1.7 交互式绘图 ;%q39U}  
2. 光学薄膜理论基础 FdOFE.l  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 (3,.3)%`  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 j%Y\A~DV  
3. 材料管理 Ja^ 5?Ar|  
3.1 材料模型 t@bt6J .{  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 }ublR&zlp  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 6er(%4!  
3.4 基板光学常数的提取 MN;/*t  
4. 光学薄膜设计优化方法 }ZZ5].-a<D  
4.1 参考波长与g ^ DAa%u  
4.2 四分之一规则 eo#^L}  
4.3 导纳与导纳图 @fn6<3  
4.4 斜入射光学导纳 U Lmg$T&  
4.5 光学薄膜设计的进展 \X}8 q  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 ,i`h x, Rg  
4.6.1 优化目标设置 `QP ~  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) y)J(K*x/$  
4.6.3 膜层锁定和链接 ]Nk!4"  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 OjnJV  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 >X Qv?5  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 %EbiMo ]3B  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 h%#_~IA:|  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 8LM #WIm?  
5.5 如何在Function中编写脚本 \ a-CN>  
6. 光学薄膜系统案例 a, Kky ^B  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 aSnp/g  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 |DG@ht  
6.3 Stack应用范例说明 0~E 6QhV:  
7. 薄膜性能分析 '?/&n8J\  
7.1 电场分布 Q2'eQ0W{ o  
7.2 公差与灵敏度分析 : 1)}Epo,  
7.3 反演工程 M?6;|-HH  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 sB*o)8  
8. 真空技术 9k2,3It  
8.1 常用真空泵介绍 whkJpK(  
8.2 真空密封和检漏 w{7 ji}  
9. 薄膜制备技术 JAb$M{t  
9.1 常见薄膜制备技术 nX x=1*X  
10. 薄膜制备工艺 ;lfWu U%R  
10.1 薄膜制备工艺因素 *=nO  
10.2 薄膜均匀性修正技术 NtZ6$o<Y  
10.3 光学薄膜监控技术 K r3];(w{  
11. 激光薄膜 LdTIR]  
11.1 薄膜的损伤问题 71iRG*O  
11.2 激光薄膜的制备流程 ua& @GXvZ  
11.3 激光薄膜的制备技术 LDX*<(  
12. 光学薄膜特性测量 1MQ/ r*(  
12.1 薄膜光谱测量 )bW<8f2  
12.2 薄膜光学常数测量 ^e9aD9  
12.3 薄膜应力测量 5d 5t9+t  
12.4 薄膜损伤测量 D9,! %7i  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 5Hle-FDn9  
T^)plWw  
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书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
 nP_=GI  
内容简介 ep?:;98|t  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 K\sbt7~  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 @InJ_9E  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 m "]!I~jd  
mU]s7` %<>  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
8tZ} ;="F  
目录 kMS5h~D[  
Preface 1 v>I<|  
内容简介 2 9.8,q  
目录 i IQ{?_'  
1  引言 1 2v^lD('  
2  光学薄膜基础 2 FE6C6dW{  
2.1  一般规则 2 I@PJl  
2.2  正交入射规则 3 qc-C>Ra  
2.3  斜入射规则 6 Y\8+}g;KR  
2.4  精确计算 7  ^@q#$/z  
2.5  相干性 8 QN #)F  
2.6 参考文献 10 cdp{W  
3  Essential Macleod的快速预览 10 MgnE-6_c  
4  Essential Macleod的特点 32 M71R -B`-  
4.1  容量和局限性 33 BGpk&.J  
4.2  程序在哪里? 33 > ZDC . ~  
4.3  数据文件 35 [tN` :}?  
4.4  设计规则 35 Iv1c4"  
4.5  材料数据库和资料库 37 K{FhT9R'  
4.5.1材料损失 38 3Q$c'C  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 `(T!>QVW+g  
4.5.2 材料库 41 x vJ^@w'  
4.5.3导出材料数据 43 ylim/`u}6  
4.6  常用单位 43 P'FKk<  
4.7  插值和外推法 46 x~(y "^ph  
4.8  材料数据的平滑 50 X8.y4{5  
4.9 更多光学常数模型 54 4(sttd_  
4.10  文档的一般编辑规则 55 + o{*r#  
4.11 撤销和重做 56 a^/K?lAB8  
4.12  设计文档 57 MBv/  
4.10.1  公式 58 5%qH 7[dx  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 %%x0w^  
4.10.3  沉积密度 59 UGf6i"F  
4.10.4 平行和楔形介质 60 6'vi68  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 f~v"zT  
4.10.4  性能 61 TRCI\  
4.10.5  保存设计和性能 64 j #es2;  
4.10.6  默认设计 64 u!u5g.Q  
4.11  图表 64 H CuK  
4.11.1  合并曲线图 67 &$Ci}{{n#  
4.11.2  自适应绘制 68 l}+Cdy9>  
4.11.3  动态绘图 68 64b<0;~  
4.11.4  3D绘图 69 m/" J s  
4.12  导入和导出 73 'M lXnHxt  
4.12.1  剪贴板 73 )?9\$^I  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 2i"HqAB  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 $BaK'7=3*  
4.13  背景 77 PMsC*U,oe  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 YjL t&D:IZ  
4.15  生成Rugate 84 fxOE]d8v  
4.16  参考文献 91 e %&  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 z2ds8-z  
5.1  Jobs 92 ifd}]UMQ  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 h\2}875  
5.3  输入材料 94 oM2|]ew)  
5.4  设计数据文件夹 95 >waN;&>/  
5.5  默认设计 95 9G+y.^/6  
6  细化和合成 97 m.Twgin  
6.1  优化介绍 97 bbO+%-(X  
6.2  细化 (Refinement) 98 J/= +r0c  
6.3  合成 (Synthesis) 100 `fLfT'  
6.4  目标和评价函数 101 RpULm1b  
6.4.1  目标输入 102 a&8l[xe1  
6.4.2  目标 103 h k/+  
6.4.3  特殊的评价函数 104 we }#Ru*  
6.5  层锁定和连接 104 MHGjvSx  
6.6  细化技术 104 s5nB(L*Pjp  
6.6.1  单纯形 105 1"M"h_4  
6.6.1.1 单纯形参数 106 gfx oJihE  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 l,^xX =,  
6.6.2.1 Optimac参数 108 J/L)3y   
6.6.3  模拟退火算法 109 \?r$&K]4  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 4Sqvhz  
6.6.4  共轭梯度 111 yg`E22  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 |^>u<E5  
6.6.5  拟牛顿法 112 ktU9LW~  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 Q})t<l+L  
6.6.6  针合成 113 ?{?Vy9'B  
6.6.6.1 针合成参数 114 c 3}x)aQ  
6.6.7 差分进化 114 +BU0 6lLD  
6.6.8非局部细化 115 gZ1N&/9;  
6.6.8.1非局部细化参数 115 #&}%70R)  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 <` #,AVH  
6.7.1  细化 116 !B0v<+;P8  
6.7.2  合成 117 ,zc"udpKF  
6.8  参考文献 117 fmtuFr^a1  
7  导纳图及其他工具 118 tsB.oDMP  
7.1  简介 118 Z4=_k{*  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 tP&{ J^G  
7.2.1  四分之一波长规则 119 gv`%Z8u(  
7.2.2  导纳图 120 }R4(B2vup  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 ZDW,7b% U  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 D`1I;Tb#  
7.5  斜入射导纳图 141 )J{.Cx<E  
7.6  对称周期 141 =;kRk .qzy  
7.7  参考文献 142 *oKgP8CF  
8  典型的镀膜实例 143  =7*oC  
8.1  单层抗反射薄膜 145 "tqS|ok.  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 t)YFTO"Jj  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 22l|!B%o  
8.4  W-膜层 148 >+zAWK9  
8.5  V-膜层 149 J11dqj  
8.6  V-膜层高折射基底 150 8''9@xz  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 ^H f+du  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 1!K !oY  
8.9  四层抗反射薄膜 153 FEge+`{,  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 wa9'2a1?  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 ]|H]9mys98  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 mvUVy1-c  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 }w;Q^EU  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 U/}AiCdj@  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 r0rJ.}!  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 I|Vk.,  
8.17  1/4波长堆栈 162 qpluk!  
8.18  陷波滤波器 163 [GcA.ABz  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 8:;u v7p  
8.20  褶皱 165 *?EjYI  
8.21  消偏振分光器1 169 s@*,r@<  
8.22  消偏振分光器2 171 V#n?&-{V  
8.23  消偏振立体分光器 172 mBYS"[S(  
8.24  消偏振截止滤光片 173 l:>qR/|m  
8.25  立体偏振分束器1 174 6$xo# }8  
8.26  立方偏振分束器2 177 | 7t=\  
8.27  相位延迟器 178 wFKuSd  
8.28  红外截止器 179 YzforM^F  
8.29  21层长波带通滤波器 180 r4]hS`X~%  
8.30  49层长波带通滤波器 181 Om&{4a\  
8.31  55层短波带通滤波器 182 w a-_O<  
8.32  47 红外截止器 183 ^sr:N5~z`  
8.33  宽带通滤波器 184 j TB<E=WC  
8.34  诱导透射滤波器 186 "<g?x`iz  
8.35  诱导透射滤波器2 188 -oaG|  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 d()zW7}W  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 8`R +y  
8.35  增益平坦滤波器 193 '<*CD_2t-  
8.38  啁啾反射镜 1 196 j\jL[hG_  
8.39  啁啾反射镜2 198 mjkw&2  
8.40  啁啾反射镜3 199 I_jM-/3b  
8.41  带保护层的铝膜层 200 EU?&  
8.42  增加铝反射率膜 201 YUP%K!k  
8.43  参考文献 202 b a1$kU  
9  多层膜 204 ;r0|_mnf  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 URmAI8fq*M  
9.2  内部透过率 204 VR5e CJ:i  
9.3 内部透射率数据 205 !#_h2a  
9.4  实例 206 L*SSv wSL  
9.5  实例2 210 v"G%5pq*\  
9.6  圆锥和带宽计算 212 <IHFD^3|j  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 _k"&EW{ Ii  
10  光学薄膜的颜色 216 >yPFL'  
10.1  导言 216 3_R   
10.2  色彩 216 #buV;!_!E?  
10.3  主波长和纯度 220 h1G*y  
10.4  色相和纯度 221 xqi*N13  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 rhzv^t  
10.6 色差 226 tNi% }~Z  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 d =B@EyN  
10.8  颜色渲染指数 234 y . ivz  
10.9  色差计算 235 Jfixm=.6  
10.10  参考文献 236 8f6;y1!;  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 U||w6:W5  
11.1  短脉冲 238 c],frhmyd  
11.2  群速度 239 AD!<%h:  
11.3  群速度色散 241 w50Bq&/jX  
11.4  啁啾(chirped) 245 &ttv4BC^r  
11.5  光学薄膜—相变 245 SCt=OdP=  
11.6  群延迟和延迟色散 246 iz%A0Z+`bg  
11.7  色度色散 246 35N/v G0  
11.8  色散补偿 249 %M0mwty]  
11.9  空间光线偏移 256 x(/@Pt2B  
11.10  参考文献 258 $ <>EwW  
12  公差与误差 260 aJa^~*N/Aa  
12.1  蒙特卡罗模型 260 &xiDG=I#  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 8#d1}Y  
12.2.1  误差工具 267 bsk=9K2_2t  
12.2.2  灵敏度工具 271 X gx2  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 h^ecn-PC  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 vxilQp  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 EV?47\ ~  
12.3  参考文献 276 VM V]TPks>  
13  Runsheet 与Simulator 277 5{d9,$%8&  
13.1  原理介绍 277   L@k;L  
13.2  截止滤光片设计 277 XnI ;7J  
14  光学常数提取 289 x[O#(^q  
14.1  介绍 289 ?3"D| cS1  
14.2  电介质薄膜 289 fO|~Oz<S  
14.3  n 和k 的提取工具 295 :hhE=A>X  
14.4  基底的参数提取 302 7N59B z  
14.5  金属的参数提取 306 {i%x s#0h  
14.6  不正确的模型 306 eE.5zXU3R  
14.7  参考文献 311 sG1]A:_<C  
15  反演工程 313 4gkV]" H!  
15.1  随机性和系统性 313 Jr>S/]"  
15.2  常见的系统性问题 314 i\Q"a B"r  
15.3  单层膜 314 b[[6X  
15.4  多层膜 314 VgZaDd;  
15.5  含义 319 `d|bH; w  
15.6  反演工程实例 319 u0 oYb_Yv  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 ?#EXG  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 >K|GLP  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 7U[L\1zS  
16.1  光学性质的热致偏移 329 h3d\MYO)B  
16.2  应力工具 335 noUZ9M|hz  
16.3  均匀性误差 339 K%TKQ<R|  
16.3.1  圆锥工具 339 #L IsL  
16.3.2  波前问题 341 =Z>V}`n  
16.4  参考文献 343 tId !C  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 hp z*jyh8  
17.1  引言 345 _hyxKrm' 6  
17.2  操作数 345 F)5B[.ce  
18  如何在Function中编写脚本 351 &pY G   
18.1  简介 351 SX=0f^  
18.2  什么是脚本? 351 ,nChwEn  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 >wS:3$Q  
18.4  基础 352 cJWfLD>2_!  
18.4.1  Classes(类别) 352 v.2Vg  
18.4.2  对象 352 .kKwdqO+zB  
18.4.3  信息(Messages) 352 Nj-rZ%&  
18.4.4  属性 352 lQ<n dt~  
18.4.5  方法 353 hHl-;%#  
18.4.6  变量声明 353 ocuVDC  
18.5  创建对象 354 B{o\RNU  
18.5.1  创建对象函数 355 nk3<]u  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 +l?ro[#6&.  
18.5.3 丢弃对象 356 ,f0g|5yDf  
18.5.4  总结 356 \y )4`A  
18.6  脚本中的表格 357 @oc%4~zl  
18.6.1  方法1 357 Ee\-q  
18.6.2  方法2 357 +j: Ld(  
18.7 2D Plots in Scripts 358 KJ^GUqVl  
18.8 3D Plots in Scripts 359 Ufe  
18.9  注释 360 rUpAiZfz >  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 %V1T !<  
18.11  一个更高级的脚本 362 kbT-Oz  2  
18.12  <esc>键 364 JX0_UU  
18.13 包含文件 365 U9fF;[g  
18.14  脚本被优化调用 366 U>-#('  
18.15  脚本中的对话框 368 o4 g  
18.15.1  介绍 368 U6'haPlOk%  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 / >. X+N  
18.15.3  输入框函数 370 p+sPCF  
18.15.4  自定义对话框 371 v?TJ!o  
18.15.5  对话框编辑器 371 3pv1L~ ZI  
18.15.6  控制对话框 377 6`";)T[G9  
18.15.7  更高级的对话框 380 /^eemx  
18.16 Types语句 384 G{Enh<V  
18.17 打开文件 385 O#5( U. E  
18.18 Bags 387 [5eT|uy  
18.13  进一步研究 388 <$6'Mzf  
19  vStack 389 HWfX>Vf>}k  
19.1  vStack基本原理 389 A}Dpw[Q2@8  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 yW(+?7U  
19.3  五棱镜 393 0\ w[_H  
19.4 光束距离 396 Uu:v4a  
19.5 误差 399 5 ^z ,'C  
19.6  二向分色棱镜 399 ]a|;G  
19.7  偏振泄漏 404 GXlg%  
19.8  波前误差—相位 405 gG;W:vR}l  
19.9  其它计算参数 405 :Fd9N).%  
20  报表生成器 406 ViT 5Jn7  
20.1  入门 406 {bW3%iU  
20.2  指令(Instructions) 406 <a[8;YQC  
20.3  页面布局指令 406 6SO7iFS  
20.4  常见的参数图和三维图 407 Jv.R?1;8i  
20.5  表格中的常见参数 408 d@f2Vxe7  
20.6  迭代指令 408 F-,{+B66  
20.7  报表模版 408 dTQvz9C  
20.8  开始设计一个报表模版 409 >D4Ez  
21  一个新的project 413 X@q1;J  
21.1  创建一个新Job 414 >b?)WNk  
21.2  默认设计 415 P}QbxkS 8  
21.3  薄膜设计 416 X3O$Sd(D  
21.4  误差的灵敏度计算 420 hBE>ea  
21.5  显色指数计算 422 aB!Am +g  
21.6  电场分布 424 I8;[DP9  
后记 426 OT3;qT*fw  
ZKPkx~,U[  
2I 7`  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 O~'yP @&`  
;O|63  
《Essential Macleod中文手册》
(+ anTA=  
$-fY8V3[  
目  录 I'b]s~u  
.{Oq)^!ot  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 >! .9g  
第1章 介绍 ..........................................................1 v nC&1  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 t3g! 5  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 xU<lv{m`D  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 fr2w k}/b  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 M?zAkHNS$  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 qJt gnk|  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 d( g_y m*  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 beZ| i 1:  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 iRHQRdij  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 @2*6+w_Ae  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 MXV4bgltT  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 i]?xM2(N  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 ]X|G+[Ujv  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 &~f_1<  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 }*R6p?L5  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 +qf{ '|H  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 (k&aD2PH  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 Pv.@Y 30  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 0*x?  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 Ib2pV2`h(  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 .Kwl8xRg  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 AI;=k  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 ~U+'3.Wo  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 oF xVK  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 ", )  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307  U~t(YT  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 4HE4e  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 :%MWbnVSC,  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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