VGB-h' 内容简介
Wy.";/C Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了
软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前
薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的
光学薄膜设计技术》。
[Y$V\h=V 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。
1AT'S;` 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。
-;U3w.- 5uttv:@= 讯技科技股份有限公司
_Z.cMYN 2015年9月3日
~z`/9; 目录
'#<> "| Preface 1
;y OD 内容简介 2
y1#O%=g 目录 i
]L8q 1 引言 1
.it2NS 2 光学薄膜基础 2
{_(+>v"eJ 2.1 一般规则 2
{+Sq<J_`M 2.2 正交入射规则 3
[;FofuZ 2.3 斜入射规则 6
cQn)^jx= 2.4 精确计算 7
R6<4"?*r 2.5 相干性 8
a,cC!
2.6 参考文献 10
$_FZn'Db6 3 Essential Macleod的快速预览 10
s1=+:: 4 Essential Macleod的特点 32
`kPc!I7Y 4.1 容量和局限性 33
\K}aQKB/j 4.2 程序在哪里? 33
SOj`Y|6^: 4.3 数据文件 35
Wcn[gn< 4.4 设计规则 35
3S;N(A4 4.5 材料数据库和
资料库 37
:".w{0l@ 4.5.1材料损失 38
R8 jovr 4.5.1材料数据库和导入材料 39
7E~4)k0< 4.5.2 材料库 41
s:b"\7 4.5.3导出材料数据 43
C_Gzv'C"L 4.6 常用单位 43
'evv,Q{87 4.7 插值和外推法 46
>A=\8`T^ 4.8 材料数据的平滑 50
wS%zWdsz 4.9 更多光学常数模型 54
4TVwa(cB 4.10 文档的一般编辑规则 55
JiA'BEJN 4.11 撤销和重做 56
W>/UBN3 4.12 设计文档 57
az2Xch] 4.10.1 公式 58
11{y}J 4.10.2 更多关于膜层厚度 59
CKd3w8; 4.10.3 沉积密度 59
vYdlSe=6G 4.10.4 平行和楔形介质 60
|!}wF}iLc) 4.10.5 渐变折射率和散射层 60
{g_@Tuu 4.10.4 性能 61
c3W
BALdh 4.10.5 保存设计和性能 64
>|nt2 4.10.6 默认设计 64
HTR1)b 4.11 图表 64
7=3O^=Q^Q 4.11.1 合并曲线图 67
l[*sHi 4.11.2 自适应绘制 68
nh0&'hA 4.11.3 动态绘图 68
"-0;#&! 4.11.4 3D绘图 69
{i;6vRr 4.12 导入和导出 73
* <q4S(l 4.12.1 剪贴板 73
J3IRP/*z 4.12.2 不通过剪贴板导入 76
'HB~Dbq`V 4.12.3 不通过剪贴板导出 76
^Plc}W7h 4.13 背景 77
EY$?^iS 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80
61|B]ei/ 4.15 生成Rugate 84
$
S~%Ks C 4.16 参考文献 91
pBU]=[M0 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92
kFwxK"n@C 5.1 Jobs 92
U&Ab#m; 5.2 创建一个新Job(工作) 93
=:/>6H1x 5.3 输入材料 94
x8/us 5.4 设计数据文件夹 95
41}/w3Z4 5.5 默认设计 95
/buWAX1 6 细化和合成 97
-)RJ\V^{9 6.1 优化介绍 97
n_P(k-^U* 6.2 细化 (Refinement) 98
?!7
SzLll 6.3 合成 (Synthesis) 100
#HG&[Ywi 6.4 目标和评价函数 101
f[}|rf 6.4.1 目标输入 102
}#
Xi`<{ 6.4.2 目标 103
[+Un ^gD 6.4.3 特殊的评价函数 104
RJPcn)@l 6.5 层锁定和连接 104
&^+3errO 6.6 细化技术 104
WHk/$7_"i 6.6.1 单纯形 105
VDa|U9N 6.6.1.1 单纯形
参数 106
|D<+X^0' 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107
sg$4G:l 6.6.2.1 Optimac参数 108
KZ
)Ys 6.6.3 模拟退火算法 109
\ 3G*j` 6.6.3.1
模拟退火参数 109
MS{{R+& 6.6.4 共轭梯度 111
"5|\X<f 6.6.4.1 共轭梯度参数 111
WIG=D{\Yx 6.6.5 拟牛顿法 112
,R~eY?{a 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112
g ;LVECk 6.6.6 针合成 113
k*Pz&8| 6.6.6.1 针合成参数 114
fYn{QS? 6.6.7 差分进化 114
WgPgG0VJE 6.6.8非局部细化 115
H%C\Uz"o 6.6.8.1非局部细化参数 115
$T/#1w P 6.7 我应该使用哪种技术? 116
f~*K {7 6.7.1 细化 116
HamEIL-l. 6.7.2 合成 117
pL)xqKj 6.8 参考文献 117
ppFYc\&= 7 导纳图及其他工具 118
:'Xr/| s 7.1 简介 118
@'gl~J7 7.2 薄膜作为导纳的变换 118
+c r 7.2.1 四分之一
波长规则 119
n;qz^HXEJ 7.2.2 导纳图 120
0[9I0YBJ 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124
/{R3@,D[] 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125
OpqNEo\ 7.5 斜入射导纳图 141
}$:#+
(17 7.6 对称周期 141
lR}%)3_k 7.7 参考文献 142
@G(xaU'u 8 典型的镀膜实例 143
\k4pK &b 8.1 单层抗反射薄膜 145
k9&@(G[K3 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146
@>:i-5 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147
XNlhu^jh 8.4 W-膜层 148
CO'ar, 8.5 V-膜层 149
J[r^T&o 8.6 V-膜层高折射基底 150
?`aTu:1#Z 8.7 V-膜层高折射率基底b 151
((cb4IX 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152
G
*@@K 8.9 四层抗反射薄膜 153
}9=2g`2Q 8.10 Reichert抗反射薄膜 154
`#U ]iwW! 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155
"uhV|Lk*7 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156
0\wi am- 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157
'=@r7g.2 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158
/n8psj 8.15十五层宽带抗反射膜 159
[ze/@29 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161
<tW:LU(! 8.17 1/4波长堆栈 162
"Y(^F
bs 8.18 陷波滤波器 163
Xy!&^C` J` 8.19 厚度调制陷波滤波器 164
?} X}# 8.20 褶皱 165
avy=0Jmj 8.21 消偏振分光器1 169
\n;g2/VjO 8.22 消偏振分光器2 171
'z-D%sCA 8.23 消偏振立体分光器 172
WvbEh|y 8.24 消偏振截止滤光片 173
Wxs>osq 8.25 立体偏振分束器1 174
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