T`.RP&2/d 内容简介
maR5hgWCHe Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了
软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前
薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的
光学薄膜设计技术》。
h#!u"'JW 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。
XKt">W 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。
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6 l2LUcI$ x 讯技科技股份有限公司
(r+#}z} 2015年9月3日
?go+oS^ 目录
KM;'MlO Preface 1
[exIK 内容简介 2
_.y0QkwV 目录 i
WbW@V_rr 1 引言 1
8Qt'Y9| 2 光学薄膜基础 2
k9pOY]_Y 2.1 一般规则 2
46cd5SLK 2.2 正交入射规则 3
wa*/Am9;~ 2.3 斜入射规则 6
V)8d1S 2.4 精确计算 7
amY\1quD| 2.5 相干性 8
OPsg3pW!] 2.6 参考文献 10
PtT=HvP!k 3 Essential Macleod的快速预览 10
{Ex*8sU%p% 4 Essential Macleod的特点 32
43 h0i-%1 4.1 容量和局限性 33
6(uK5eD(!n 4.2 程序在哪里? 33
}+1Y>W7q 4.3 数据文件 35
EgT2a 4.4 设计规则 35
Q(\U'|%J 4.5 材料数据库和
资料库 37
Rg!Fu 4.5.1材料损失 38
!K~:crUV|S 4.5.1材料数据库和导入材料 39
w[S!U<9/ 4.5.2 材料库 41
_b8?_Zq 4.5.3导出材料数据 43
[spJ%AhV 4.6 常用单位 43
5 UQbd8 4.7 插值和外推法 46
u'BuZF
4.8 材料数据的平滑 50
"A6T'nOP 4.9 更多光学常数模型 54
Mr3;B+S 4.10 文档的一般编辑规则 55
XH?}0D( 4.11 撤销和重做 56
8>
-3G 4.12 设计文档 57
?zD?- 4.10.1 公式 58
_*I@ J/ 4.10.2 更多关于膜层厚度 59
3.
kP, 4.10.3 沉积密度 59
IP]"D" 4.10.4 平行和楔形介质 60
!6UtwCVR 4.10.5 渐变折射率和散射层 60
1b,,uI_ 4.10.4 性能 61
Wp[R$/uT 4.10.5 保存设计和性能 64
9{;cp?\)M 4.10.6 默认设计 64
d }"Dp 4.11 图表 64
]H4T80wm& 4.11.1 合并曲线图 67
5zqlK-$ 4.11.2 自适应绘制 68
=&J7
'nDP 4.11.3 动态绘图 68
P sLMV:O9S 4.11.4 3D绘图 69
H~IN<3ko 4.12 导入和导出 73
#=G[~m\ 4.12.1 剪贴板 73
;;9W/m~] 4.12.2 不通过剪贴板导入 76
%6vf~oG 4.12.3 不通过剪贴板导出 76
Uo!#p'<w)p 4.13 背景 77
$cxulcay= 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80
YtzB/q8I 4.15 生成Rugate 84
$&@L[[xl 4.16 参考文献 91
sMq*X^z
)? 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92
]+SVQ|v0 5.1 Jobs 92
/~49.}yt 5.2 创建一个新Job(工作) 93
=-r[ s%t& 5.3 输入材料 94
'n9<z)/,! 5.4 设计数据文件夹 95
V?a+u7*U& 5.5 默认设计 95
l.#iMi(@p~ 6 细化和合成 97
I?l%RdGW 6.1 优化介绍 97
G/2| *H 6.2 细化 (Refinement) 98
4+Sq[Rv0 6.3 合成 (Synthesis) 100
hpxqL%r 6.4 目标和评价函数 101
f#s
/Ycp+ 6.4.1 目标输入 102
$rAHtr 6.4.2 目标 103
m@r+M"!R 6.4.3 特殊的评价函数 104
x2|YrkGv 6.5 层锁定和连接 104
'8Q:}{ 6.6 细化技术 104
f
xWW"B*A 6.6.1 单纯形 105
_k0X)N+li 6.6.1.1 单纯形
参数 106
Q]Ymv:M, 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107
cK;,=\ 6.6.2.1 Optimac参数 108
RJo"yB$1e6 6.6.3 模拟退火算法 109
r+}5;fQJ 6.6.3.1
模拟退火参数 109
x*G-?Xza) 6.6.4 共轭梯度 111
.o(XnY)cgJ 6.6.4.1 共轭梯度参数 111
/.'tfy$ 6.6.5 拟牛顿法 112
jIq@@8 @o 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112
H8V${&!ho 6.6.6 针合成 113
*?zyF@K{% 6.6.6.1 针合成参数 114
u}eqU% 6.6.7 差分进化 114
_&Hq`KJm 6.6.8非局部细化 115
%>dCAj" 6.6.8.1非局部细化参数 115
X}~5%B( 6.7 我应该使用哪种技术? 116
Z'P>sV 6.7.1 细化 116
DS@ZE Q`F 6.7.2 合成 117
%Ts6M,Fpp 6.8 参考文献 117
R. sRH/6 7 导纳图及其他工具 118
,cbCt 7.1 简介 118
`CWI%V 7.2 薄膜作为导纳的变换 118
%_rdO(
7.2.1 四分之一
波长规则 119
:u%Jrc(W 7.2.2 导纳图 120
dE<}X7J% 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124
3yWu-U \k 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125
@a08*"lbp 7.5 斜入射导纳图 141
PdUlwT?8C 7.6 对称周期 141
EJM6TI" 7.7 参考文献 142
<5R`E( 8 典型的镀膜实例 143
3D)gy9T&l 8.1 单层抗反射薄膜 145
>vDa`| g 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146
:^c' P<HM 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147
#kO.'oIl 8.4 W-膜层 148
)20jZm* 8.5 V-膜层 149
*hhPCYOm 8.6 V-膜层高折射基底 150
9] i$`y 8.7 V-膜层高折射率基底b 151
]SqLF!S(= 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152
'y(;:Kc 8.9 四层抗反射薄膜 153
T6gugDQ~. 8.10 Reichert抗反射薄膜 154
Q\pTyNAYn 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155
hJrcy!P<a 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156
1o&]=( 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157
RTPxAp+\5 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158
-dCM
eC 8.15十五层宽带抗反射膜 159
MIblx 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161
DB1GW, 8.17 1/4波长堆栈 162
D(EY"s37 8.18 陷波滤波器 163
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