&NKb},~ 内容简介
t)|~8xpP Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了
软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前
薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的
光学薄膜设计技术》。
"7q!u,u 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。
4mjlat(d 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。
ee/3=/H|; A^ofs*"Y 讯技科技股份有限公司
%rlMjF'tG 2015年9月3日
O!!N@Q2g 目录
'Zs3b4n8 Preface 1
xv"v=' 内容简介 2
j(A>M_f; 目录 i
6(=B`Z}a 1 引言 1
8Kw,
1O: 2 光学薄膜基础 2
n:|a;/{I]9 2.1 一般规则 2
Vy=P* 2.2 正交入射规则 3
O^J=19Ri 2.3 斜入射规则 6
LLc^SP j 2.4 精确计算 7
4< +f|(fIA 2.5 相干性 8
nll=Vd[ 2.6 参考文献 10
cJerYRjsL 3 Essential Macleod的快速预览 10
Q6T"8K/ 4 Essential Macleod的特点 32
$Qz<:?D 4.1 容量和局限性 33
:.9Y 4.2 程序在哪里? 33
:wq][0) 4.3 数据文件 35
V0NLwl
O 4.4 设计规则 35
tD*k
4.5 材料数据库和
资料库 37
m%0_fNSJ 4.5.1材料损失 38
0K'{w]Q 4.5.1材料数据库和导入材料 39
k%3)J"|/ 4.5.2 材料库 41
6f2?)jOW^N 4.5.3导出材料数据 43
Qs '_\|/- 4.6 常用单位 43
D6~KLSKm 4.7 插值和外推法 46
}uNj#Uf 4.8 材料数据的平滑 50
denxcDFu/~ 4.9 更多光学常数模型 54
iX o( 4.10 文档的一般编辑规则 55
_Pno9| 4.11 撤销和重做 56
IQ$!y,VJ 4.12 设计文档 57
AyWdJ<OU 4.10.1 公式 58
uh2 Fr 4.10.2 更多关于膜层厚度 59
:zX^H9'E<( 4.10.3 沉积密度 59
|sI@m@ 4.10.4 平行和楔形介质 60
eL>wKu:r 4.10.5 渐变折射率和散射层 60
e^em^1H(
% 4.10.4 性能 61
X- tw) 4.10.5 保存设计和性能 64
Siq]Ii0F;> 4.10.6 默认设计 64
0cSm^a 4.11 图表 64
XD?Lu
_. 4.11.1 合并曲线图 67
V~VUl) 4.11.2 自适应绘制 68
]
)iP?2{ 4.11.3 动态绘图 68
gg.]\#3g 4.11.4 3D绘图 69
i}:hmy' 4.12 导入和导出 73
&@,lF{KTL 4.12.1 剪贴板 73
43E)ltR=] 4.12.2 不通过剪贴板导入 76
2 431v@ 4.12.3 不通过剪贴板导出 76
c(uDkX 4.13 背景 77
je@&|9h 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80
Td,d9M 4.15 生成Rugate 84
>|, <9z`D 4.16 参考文献 91
T ay226 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92
tmOy"mq67 5.1 Jobs 92
V@]SKbK}wN 5.2 创建一个新Job(工作) 93
)u+O~Y95&i 5.3 输入材料 94
"f8,9@ 5.4 设计数据文件夹 95
Rz&`L8Bz 5.5 默认设计 95
&a4FGzR# 6 细化和合成 97
sBYDo{01 6.1 优化介绍 97
\?oT.z5VG& 6.2 细化 (Refinement) 98
Ux1j +}y 6.3 合成 (Synthesis) 100
Dt<MEpbur 6.4 目标和评价函数 101
c0Bqm 6.4.1 目标输入 102
VH4wsEH] 6.4.2 目标 103
L*dGo,oN 6.4.3 特殊的评价函数 104
KB^8Z@(+ 6.5 层锁定和连接 104
%19~9Tw 6.6 细化技术 104
Zo-,TKgY' 6.6.1 单纯形 105
jI'?7@32` 6.6.1.1 单纯形
参数 106
q6N{N>-D 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107
z6 }p4 6.6.2.1 Optimac参数 108
gaQ E'qp> 6.6.3 模拟退火算法 109
B8eZ}9X 6.6.3.1
模拟退火参数 109
bl&9O 6.6.4 共轭梯度 111
@54$IhhT~ 6.6.4.1 共轭梯度参数 111
oQrfrA&=M 6.6.5 拟牛顿法 112
\9@}0}%` 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112
Y[vP]7- 6.6.6 针合成 113
]Tb?z& 6.6.6.1 针合成参数 114
T[^&ZS]s 6.6.7 差分进化 114
p[o]ouTcS 6.6.8非局部细化 115
;zze.kb&F
6.6.8.1非局部细化参数 115
G~DHNO6 6.7 我应该使用哪种技术? 116
-~aG_Bp!($ 6.7.1 细化 116
N<@K(?' 6.7.2 合成 117
rz,,ku4qt 6.8 参考文献 117
s-5#P,Lw 7 导纳图及其他工具 118
wh8;:<| 7.1 简介 118
lz6CK
7.2 薄膜作为导纳的变换 118
q+4dHS)x 7.2.1 四分之一
波长规则 119
7XT(n v 7.2.2 导纳图 120
E.;Hm; 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124
/s%-c!o^ 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125
S"@6, 7.5 斜入射导纳图 141
*1!'ZfT; 7.6 对称周期 141
I
L7kpH+y 7.7 参考文献 142
4"Qb^y 8 典型的镀膜实例 143
+zbCYA 8.1 单层抗反射薄膜 145
'hPW#*#W< 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146
*g
%bdO 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147
N%'(8%; 8.4 W-膜层 148
Tc!n@!RA| 8.5 V-膜层 149
x^c,cV+* 8.6 V-膜层高折射基底 150
#tpz74O 8.7 V-膜层高折射率基底b 151
yPT o,,ca= 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152
A$7K5 8.9 四层抗反射薄膜 153
6T+y m9 8.10 Reichert抗反射薄膜 154
(=WbLNBS 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155
AX&Emz- 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156
Xjxa
2D 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157
$<XQv $YS 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158
>Ik%_:CC` 8.15十五层宽带抗反射膜 159
1u5^a^O(| 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161
nC
!NZ 8.17 1/4波长堆栈 162
7p\&