XRXKO>4q 内容简介
W"Hjn/xSS Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了
软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前
薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的
光学薄膜设计技术》。
fl _k5Q'&p 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。
*bRer[7y 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。
`q* 0^} &&$/>[0=. 讯技科技股份有限公司
Ag}V>i' 2015年9月3日
fZ$<'(t 目录
}'$6EgX Preface 1
nN>D=a"&F 内容简介 2
~J?O ~p`& 目录 i
uA=6 HpDB 1 引言 1
nV 38Mj2U 2 光学薄膜基础 2
'&Ox,i]t 2.1 一般规则 2
{%D!~,4Ht 2.2 正交入射规则 3
g`)3m,\ 2.3 斜入射规则 6
k$:QpTg[ 2.4 精确计算 7
!VpZo*+ 2.5 相干性 8
g0I<Fan 2.6 参考文献 10
hY+3PNiI@ 3 Essential Macleod的快速预览 10
S`2M QL 4 Essential Macleod的特点 32
Gp9>R~$ 4.1 容量和局限性 33
5&7)hMppI 4.2 程序在哪里? 33
}<7Dyn, 4.3 数据文件 35
EceZ1b 4.4 设计规则 35
I9*o[Jp5 4.5 材料数据库和
资料库 37
Fp4?/-] 4.5.1材料损失 38
}Bw=2 ~ 4.5.1材料数据库和导入材料 39
]Vhhx`0 4.5.2 材料库 41
T[a1S ?_*T 4.5.3导出材料数据 43
6nt$o)[ 4.6 常用单位 43
8(ny^]v| 4.7 插值和外推法 46
RK(uC-l 4.8 材料数据的平滑 50
\<|a>{`7]i 4.9 更多光学常数模型 54
AKx\U?ei7 4.10 文档的一般编辑规则 55
}D
dg 4.11 撤销和重做 56
;hF >iw 4.12 设计文档 57
2#_9x7g+ 4.10.1 公式 58
z/ T| 4.10.2 更多关于膜层厚度 59
p9R`hgx 4.10.3 沉积密度 59
. hHt+ 4.10.4 平行和楔形介质 60
yGgHd=? 4.10.5 渐变折射率和散射层 60
qMYR\4"$ 4.10.4 性能 61
a$#,'UB 4.10.5 保存设计和性能 64
M_MiY|%V/K 4.10.6 默认设计 64
oV?tp4& 4.11 图表 64
J x-^WB 4.11.1 合并曲线图 67
COv#dOw 4.11.2 自适应绘制 68
i051qpj 4.11.3 动态绘图 68
JeMhiY} 4.11.4 3D绘图 69
w$A*|^w1 4.12 导入和导出 73
5{#9b^ 4.12.1 剪贴板 73
FU!U{qDI 4.12.2 不通过剪贴板导入 76
m#,
F%s 4.12.3 不通过剪贴板导出 76
/r@P\_ 4.13 背景 77
eC9~
wc 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80
Mp75 L5 4.15 生成Rugate 84
Wr`=P, 4.16 参考文献 91
l,h#RTfry 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92
Bp^>R`, 5.1 Jobs 92
d(,-13 5.2 创建一个新Job(工作) 93
OW)8Z60 5.3 输入材料 94
+>z/54R 5.4 设计数据文件夹 95
&gF{<$$ 5.5 默认设计 95
+x
G] (? 6 细化和合成 97
)_+" 6.1 优化介绍 97
v7O{8K+ 6.2 细化 (Refinement) 98
[KWF7GQi 6.3 合成 (Synthesis) 100
fouy?? 6.4 目标和评价函数 101
S7aS Ut! 6.4.1 目标输入 102
wX#\\Jgi 6.4.2 目标 103
dcU|y%k% 6.4.3 特殊的评价函数 104
WSDNTfpI 6.5 层锁定和连接 104
f:7Y 6.6 细化技术 104
F
xFK 6.6.1 单纯形 105
~SM2W% 6.6.1.1 单纯形
参数 106
(4ow0}1 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107
Q
C~~ 6.6.2.1 Optimac参数 108
rC_K
L 6.6.3 模拟退火算法 109
:KX/` 6.6.3.1
模拟退火参数 109
z-7F,$ 6.6.4 共轭梯度 111
P_-zkw 6.6.4.1 共轭梯度参数 111
ddnWr"_ 6.6.5 拟牛顿法 112
HxZ4t 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112
_I{&5V~z 6.6.6 针合成 113
xO1d^{~^^ 6.6.6.1 针合成参数 114
e-qr d 6.6.7 差分进化 114
nkJ*$cT1o 6.6.8非局部细化 115
2#/ KS^ 6.6.8.1非局部细化参数 115
wO8^|Yf 6.7 我应该使用哪种技术? 116
+Ya-h~7;g# 6.7.1 细化 116
M*c\=( 6.7.2 合成 117
Crpkq/ M 6.8 参考文献 117
Om}&`AP}; 7 导纳图及其他工具 118
"45BOw&72G 7.1 简介 118
qh.c#t 7.2 薄膜作为导纳的变换 118
{GWcw<g.B 7.2.1 四分之一
波长规则 119
sE/9~L 7.2.2 导纳图 120
iZSjT"l^ 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124
KL5rF,DME 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125
r`<evwIe 7.5 斜入射导纳图 141
\Z+v\5nmO 7.6 对称周期 141
9s*Lzi[} 7.7 参考文献 142
/E]4N=T 8 典型的镀膜实例 143
tD4IwX 8.1 单层抗反射薄膜 145
,\=u(Y\I[ 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146
W_sDF; JP 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147
e6F:['j 8.4 W-膜层 148
Rdnd| 8.5 V-膜层 149
8L=QfKr 8.6 V-膜层高折射基底 150
yaX,s4p 8.7 V-膜层高折射率基底b 151
=<e# 2 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152
'
>\* 8.9 四层抗反射薄膜 153
'rR\H2b
8.10 Reichert抗反射薄膜 154
G^2"\4R]p 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155
7#g C(&\A 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156
aD&10b9` 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157
P$pl 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158
uO^{+=;A= 8.15十五层宽带抗反射膜 159
jG.*tuf 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161
Sl$dXB@ 8.17 1/4波长堆栈 162
?QuFRl,ZJ 8.18 陷波滤波器 163
zJ9,iJyuD 8.19 厚度调制陷波滤波器 164
yTDoS|B+) 8.20 褶皱 165
omRd'\ RO 8.21 消偏振分光器1 169
kb%W3c9HO 8.22 消偏振分光器2 171
5 ;|9bWH 8.23 消偏振立体分光器 172
V_
]4UE 8.24 消偏振截止滤光片 173
%^5$=w 8.25 立体偏振分束器1 174
Me`"@{r|# 8.26 立方偏振分束器2 177
9J|YP}% 8.27 相位延迟器 178
=
Oq; 8.28 红外截止器 179
6u.b?_u 8.29 21层长波带通滤波器 180
uj:w^t ][ 8.30 49层长波带通滤波器 181
u8W*_;%: 8.31 55层短波带通滤波器 182
72{kig9c 8.32 47 红外截止器 183
K^w9@&