Pwh0Se5Z 内容简介
XLNR%)l Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了
软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前
薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的
光学薄膜设计技术》。
YZH&KGY 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。
8hx 3pvmk 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。
%+,7=Wt- Y +9OP 讯技科技股份有限公司
dW8M^A& 2015年9月3日
-h/KrB 目录
rFPfTpS Preface 1
{v>orP? 内容简介 2
hRvjiK\ 目录 i
Yuo 1 引言 1
ADQ#qA,/ 2 光学薄膜基础 2
*3>$f.QU 2.1 一般规则 2
K^'NG! 2.2 正交入射规则 3
c/q -WEKL 2.3 斜入射规则 6
?Q XS? 2.4 精确计算 7
T@ecWRro 2.5 相干性 8
7CKh?> 2.6 参考文献 10
c<gvUVHIxR 3 Essential Macleod的快速预览 10
{tlt5p!4 4 Essential Macleod的特点 32
[Q=NGHB1/ 4.1 容量和局限性 33
.% rB-vO:g 4.2 程序在哪里? 33
P}Ud7Vil;l 4.3 数据文件 35
X( H-U
q*( 4.4 设计规则 35
^Q'^9M2) 4.5 材料数据库和
资料库 37
.;&1"b8G 4.5.1材料损失 38
u(!@6%?- 4.5.1材料数据库和导入材料 39
(\=iKE4# 4.5.2 材料库 41
aMaFxEW 4.5.3导出材料数据 43
I2$.o0=3Y 4.6 常用单位 43
`1eGsd,f 4.7 插值和外推法 46
$Jt+>.44 4.8 材料数据的平滑 50
j\Z/R1RcW 4.9 更多光学常数模型 54
`V1D&}H+G 4.10 文档的一般编辑规则 55
U[Pll~m2b 4.11 撤销和重做 56
!h "6h 4.12 设计文档 57
Jn>6y:s 4.10.1 公式 58
0WjPo 4.10.2 更多关于膜层厚度 59
%j3*j 4.10.3 沉积密度 59
lQolE P.pc 4.10.4 平行和楔形介质 60
#l!Sz247 4.10.5 渐变折射率和散射层 60
6H\apgHm 4.10.4 性能 61
Uu9*nH_ 4.10.5 保存设计和性能 64
Y^Olcz 4.10.6 默认设计 64
b :,S 4.11 图表 64
M@n9i@UsO 4.11.1 合并曲线图 67
z&6TdwhV 4.11.2 自适应绘制 68
,`3kDqS_4 4.11.3 动态绘图 68
uD2v6x236 4.11.4 3D绘图 69
!\0UEC 4.12 导入和导出 73
+H7lkbW 4.12.1 剪贴板 73
7;UUS1 4.12.2 不通过剪贴板导入 76
-2dk8]KB] 4.12.3 不通过剪贴板导出 76
CqRG !J 4.13 背景 77
'7!b#if 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80
u5,\Kz 4.15 生成Rugate 84
q~^qf 4.16 参考文献 91
-}B&>w,5 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92
*[(}rpp M 5.1 Jobs 92
i5>]$j1/ 5.2 创建一个新Job(工作) 93
AC$:.KLI 5.3 输入材料 94
Myj 68_wf 5.4 设计数据文件夹 95
GJL lMi 5.5 默认设计 95
ib4 shaN` 6 细化和合成 97
/idQfff 6.1 优化介绍 97
[_&\wHX 6.2 细化 (Refinement) 98
vj+x( 6.3 合成 (Synthesis) 100
<4gT8kQ$x 6.4 目标和评价函数 101
`@acQs;0 6.4.1 目标输入 102
F0O/SI(cA 6.4.2 目标 103
@c<*l+Qc 6.4.3 特殊的评价函数 104
Pw^lp'dO 6.5 层锁定和连接 104
~f[AEE~,s+ 6.6 细化技术 104
bN6FhKg| 6.6.1 单纯形 105
v>2gx1F"? 6.6.1.1 单纯形
参数 106
kAF[K,GG 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107
Jv*(DFt!v 6.6.2.1 Optimac参数 108
@w)Vt$+b] 6.6.3 模拟退火算法 109
r.5}Q? 6.6.3.1
模拟退火参数 109
] Fx9!S 6.6.4 共轭梯度 111
y^o*wz:D* 6.6.4.1 共轭梯度参数 111
<5s51b < 6.6.5 拟牛顿法 112
z9k3@\7 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112
rpk
)i:k\ 6.6.6 针合成 113
1N#KVvK 6.6.6.1 针合成参数 114
6]=R#d 7U 6.6.7 差分进化 114
>AT{\W!N 6.6.8非局部细化 115
,DN>aEu1 6.6.8.1非局部细化参数 115
i )Hjmf3 6.7 我应该使用哪种技术? 116
m"{D}(TA 6.7.1 细化 116
JsfX&dX0 6.7.2 合成 117
8._
A[{.f 6.8 参考文献 117
GZ.Fq 7 导纳图及其他工具 118
8y-Sd\0g 7.1 简介 118
hJavi>374 7.2 薄膜作为导纳的变换 118
##gq{hgjb$ 7.2.1 四分之一
波长规则 119
hrpql_9. 7.2.2 导纳图 120
Tl.dr 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124
,4bqjkX5q 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125
qRXb9c 7.5 斜入射导纳图 141
6]=$c<.& 7.6 对称周期 141
Gz]p2KBg 7.7 参考文献 142
f?_UT}n 8 典型的镀膜实例 143
oT5N_\ 8.1 单层抗反射薄膜 145
*C~O[:6D 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146
(x{6N^J.t 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147
~kdxJP" 8.4 W-膜层 148
\/3Xb 8.5 V-膜层 149
>tf y\P Y: 8.6 V-膜层高折射基底 150
lKo07s6u 8.7 V-膜层高折射率基底b 151
wf4?{H 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152
}B=`nbgIG7 8.9 四层抗反射薄膜 153
sLGut7@Sg 8.10 Reichert抗反射薄膜 154
?mdgY1 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155
K:!|xr(1d 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156
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