%0= |WnF- 内容简介
F8/4PB8- Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了
软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前
薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的
光学薄膜设计技术》。
eV}Ow`~I5 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。
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Y9Pu 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。
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aks*^| >a@-OJ.yOk 讯技科技股份有限公司
6uR:/PTG 2015年9月3日
E3sl"d;~ 目录
\*a7DuVw Preface 1
[
98)7 内容简介 2
:/d#U:I 目录 i
B-'Xk{ 1 引言 1
BTGPP@p4 2 光学薄膜基础 2
} n_9d. 2.1 一般规则 2
8@Y]dzgjj 2.2 正交入射规则 3
*|ubH?71%Y 2.3 斜入射规则 6
57D /" 2.4 精确计算 7
29
')Y|$, 2.5 相干性 8
I@7^H48\ 2.6 参考文献 10
8^^Xr 3 Essential Macleod的快速预览 10
FL"7u2rh, 4 Essential Macleod的特点 32
B]0`b1t 4.1 容量和局限性 33
~S#Le 4.2 程序在哪里? 33
gQ/-.1Pz$ 4.3 数据文件 35
9xN4\y6F 4.4 设计规则 35
eBBqF!WDb 4.5 材料数据库和
资料库 37
( *U Mpdj 4.5.1材料损失 38
-05#/-Z= 4.5.1材料数据库和导入材料 39
EL5gMs 4.5.2 材料库 41
b&s"x?
7 4.5.3导出材料数据 43
4*G#fW- 4.6 常用单位 43
rp+&ax}Wh 4.7 插值和外推法 46
iO>2#p8$NR 4.8 材料数据的平滑 50
)lBke*j~ 4.9 更多光学常数模型 54
*Xn{{ 4.10 文档的一般编辑规则 55
7 S(5\9 4.11 撤销和重做 56
d
0$)Y|d> 4.12 设计文档 57
Ihw^g<X 4.10.1 公式 58
N>xs@_"o 4.10.2 更多关于膜层厚度 59
yM=%a3 4.10.3 沉积密度 59
fu"#C}{ 4.10.4 平行和楔形介质 60
OpW4@le_r 4.10.5 渐变折射率和散射层 60
dzKI?i)x 4.10.4 性能 61
6"/cz~h 4.10.5 保存设计和性能 64
pa`"f&JO 4.10.6 默认设计 64
_>S."cm}!k 4.11 图表 64
,n-M!y 4.11.1 合并曲线图 67
-1DQO|q# 4.11.2 自适应绘制 68
z ~#
.Ey 4.11.3 动态绘图 68
vB
hpD 4.11.4 3D绘图 69
3#!}W#xv 4.12 导入和导出 73
&k+jVymH 4.12.1 剪贴板 73
S bc 4.12.2 不通过剪贴板导入 76
T;-&3 4.12.3 不通过剪贴板导出 76
m+?$cyA>v 4.13 背景 77
d
*!) wt 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80
Lf4c[[@%gd 4.15 生成Rugate 84
j(AN]g: 4.16 参考文献 91
h;u8{t" 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92
2g$PEwXe 5.1 Jobs 92
o $7:*jU 5.2 创建一个新Job(工作) 93
kn:X^mDXC/ 5.3 输入材料 94
N \1
EWi 5.4 设计数据文件夹 95
( d#E16y 5.5 默认设计 95
AvfSR p 6 细化和合成 97
]+u`E 6.1 优化介绍 97
...|S]a 6.2 细化 (Refinement) 98
x\z*iv 6.3 合成 (Synthesis) 100
p%/Z 6.4 目标和评价函数 101
W|XW2`3p 6.4.1 目标输入 102
[K1RP. 6.4.2 目标 103
wJ,l"bnq 6.4.3 特殊的评价函数 104
VEj-%"\ 6.5 层锁定和连接 104
4^/MDM@ 6.6 细化技术 104
G~b/!clN 6.6.1 单纯形 105
4! ]28[2B6 6.6.1.1 单纯形
参数 106
"#Qqwsw7 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107
X,DG2HT 6.6.2.1 Optimac参数 108
j>Ce06G 6.6.3 模拟退火算法 109
c5Fl:=h 6.6.3.1
模拟退火参数 109
mwU|Hh)N] 6.6.4 共轭梯度 111
>c
%*:a 6.6.4.1 共轭梯度参数 111
DyhW_PH2J 6.6.5 拟牛顿法 112
%Bn"/0, 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112
=BW;n]ls 6.6.6 针合成 113
G0*>S`:4 6.6.6.1 针合成参数 114
n] {sBI3 6.6.7 差分进化 114
|>X5@ 6.6.8非局部细化 115
$2I^ ;5r[ 6.6.8.1非局部细化参数 115
eLPWoQXt 6.7 我应该使用哪种技术? 116
qtlXDgppO 6.7.1 细化 116
vo<'7, 6.7.2 合成 117
h\dq]yOl 6.8 参考文献 117
Y<0}z>^ 7 导纳图及其他工具 118
jiw5>RNt 7.1 简介 118
NNDW)@p6z 7.2 薄膜作为导纳的变换 118
X0G6Wp 7.2.1 四分之一
波长规则 119
#2
Gy=GvV 7.2.2 导纳图 120
t,H=;U# 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124
($s%5| 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125
lqdil l\ 7.5 斜入射导纳图 141
drRi<7
i 7.6 对称周期 141
p6P .I8g 7.7 参考文献 142
B'[FnJ8~ 8 典型的镀膜实例 143
V&e9?5@ 8.1 单层抗反射薄膜 145
EH1GdlhA 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146
PiQsVk 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147
8);G'7O 8.4 W-膜层 148
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