[培训]上海｜薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25（三）-27日（五） [复制链接]

特邀专家介绍 O2 +
K  
T 7qHw!)  
易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，研究生导师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 EymSrZw  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 #&L7FBJ"*v  
随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 vW?/:  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 C6@*l~j  
1. Essential Macleod软件介绍 {&B0kjf  
1.1 介绍软件 9zCuVUcd$.  
1.2 创建一个简单的设计 mD
D96y  
1.3 绘图和制表来表示性能 E:PPb9Kd  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 0,.|-OZ  
1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） Odhr=Hs  
1.6 特定设计的公式技术 oJ"D5d,  
1.7 交互式绘图 MpJ<.|h  
2. 光学薄膜理论基础 O2="'w'kR  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 ~.0'v [N  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 &o1k_!25  
3. 材料管理 8HIX$OX>2  
3.1 材料模型 <$25kb R5K  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 7-u'x[=m  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 Eelv i5  
3.4 基板光学常数的提取 n'JS-
  
4. 光学薄膜设计优化方法 W@'*G*f  
4.1 参考波长与g elpTak@  
4.2 四分之一规则 
:h3n[%  
4.3 导纳与导纳图 eL}X().  
4.4 斜入射光学导纳 j?k|-0  
4.5 光学薄膜设计的进展 2Yd@V}  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 EN}XIa>R  
4.6.1 优化目标设置 [fo#){3
K  
4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法） zfg+gd)Z
 
4.6.3 膜层锁定和链接 N`N?1!fM<}  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 *W>, 98  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 >Q[ Z{  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 zn_#}}e;G  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 gMkS
l8[  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 u&UmI-}  
5.5 如何在Function中编写脚本 M_2>b:#A*  
6. 光学薄膜系统案例 ;fN^MW@&[  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 IXR'JZ?f
H  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 hdSP#Y'-  
6.3 Stack应用范例说明 ;c DMcKKIA  
7. 薄膜性能分析 kp}[nehF  
7.1 电场分布 zDbO~.d  
7.2 公差与灵敏度分析 oayu*a.  
7.3 反演工程 ^&8hhxCPu|  
7.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真 Q6e7Z-8  
8. 真空技术 vH1,As  
8.1 常用真空泵介绍 /{R.   
8.2 真空密封和检漏 6?C';1  
9. 薄膜制备技术 "Jg.)1Jw  
9.1 常见薄膜制备技术 NJ-Ji> w  
10. 薄膜制备工艺 ;FF+uK  
10.1 薄膜制备工艺因素 a l6y=;\jZ  
10.2 薄膜均匀性修正技术 [
m6+I9  
10.3 光学薄膜监控技术 bqp^\yu-E  
11. 激光薄膜 Di4GaKa/  
11.1 薄膜的损伤问题 MuP>#Vk  
11.2 激光薄膜的制备流程 .QwB7+V4  
11.3 激光薄膜的制备技术 Q.h.d))  
12. 光学薄膜特性测量 Fu5Y<*x  
12.1 薄膜光谱测量 dC-~=}HR^  
12.2 薄膜光学常数测量 uozq^sy  
12.3 薄膜应力测量 Rt&5s)O'  
12.4 薄膜损伤测量 llWY7u"  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析内容简介 n]D io  
Macleod软件自带的用户手册功能全面，其介绍涵盖了软件的方方面面，能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而，为了顺应目前薄膜行业的需求，急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍，以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作，因此，我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 ]vn*eqd  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（原著第二版）是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结，结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod，其内容丰富，实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法，还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题，如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节，首先，从光学薄膜的基本理论出发（第2章），为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次，在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作，以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后，从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合，从而使大家将理论知识与实际经验结合起来，对实际镀膜提出实用的建议，以减少设计时间并降低生产成本。 W83PMiN"T-  
薄膜光学涵盖范围很广，书中并附设计光盘和参考文献，有兴趣者可依此深入研究，为精准起见，在不影响理解的情况下，尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助，通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限，书中错误纰漏之处在所难免，本书若有不周之处，尚请读者不吝赐教。 /~f[>#  
[[6"qq  
YZSQOLN{  
o9]32l  
目录 dJJq]^|  
Preface 1 ~9yKMUf  
内容简介 2 ,Tegrz&G  
目录 i r=vY-p  
1  引言 1 6-TYOUm  
2  光学薄膜基础 2 Jvsy 6R  
2.1  一般规则 2 f5b|,JJ  
2.2  正交入射规则 3 !X~NL+  
2.3  斜入射规则 6 dzAumWoh  
2.4  精确计算 7 5p S$rf  
2.5  相干性 8 =N{?ll6x7g  
2.6 参考文献 10 YGLq
~A  
3  Essential Macleod的快速预览 10 [MwL=9;!H  
4  Essential Macleod的特点 32 yI#qkl-  
4.1  容量和局限性 33 <#nU 06 fN  
4.2  程序在哪里？ 33 UXdc'i g  
4.3  数据文件 35 S Z/yijf  
4.4  设计规则 35 YI"!&a'yj  
4.5  材料数据库和资料库 37 
q0Q[]|L  
4.5.1材料损失 38 &oB*gGRw=7  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 ?QJx!'Y,p  
4.5.2 材料库 41 iQ8{N:58DN  
4.5.3导出材料数据 43 Y$n+\K  
4.6  常用单位 43 (@xC-
*  
4.7  插值和外推法 46 F1-"yX1B  
4.8  材料数据的平滑 50 W,Q>3y
*
 
4.9 更多光学常数模型 54 xZ;eV76  
4.10  文档的一般编辑规则 55 DzE^FY  
4.11 撤销和重做 56 [7gz?9VyLF  
4.12  设计文档 57 MZ-;'w&Z  
4.10.1  公式 58 5CN=a2&  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 y] D\i5Xv  
4.10.3  沉积密度 59 2#lpIj  
4.10.4 平行和楔形介质 60 ;w"h
n*  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 <ml?DXT  
4.10.4  性能 61 -
bOtF%  
4.10.5  保存设计和性能 64 n/Fxjf0W  
4.10.6  默认设计 64 z[
QDJMt>  
4.11  图表 64 4_j_!QH87  
4.11.1  合并曲线图 67 6O6B8  
4.11.2  自适应绘制 68 qg`ae  
4.11.3  动态绘图 68 .u#Hg'oP  
4.11.4  3D绘图 69 *qSvSY*  
4.12  导入和导出 73 $#s5y~z  
4.12.1  剪贴板 73 [|eIax xR,  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 l:eC+[_;>  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 3I( n];  
4.13  背景 77 f['lY1#V1  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 jFe8s@7  
4.15  生成Rugate 84 Bl6I@w  
4.16  参考文献 91 '*rS,y  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 .U|'KCM9m  
5.1  Jobs 92 _zM?"16I}  
5.2  创建一个新Job（工作） 93 JJWPte/  
5.3  输入材料 94 U9b[t  
5.4  设计数据文件夹 95 k`N*_/(|n  
5.5  默认设计 95 VpHwc!APq  
6  细化和合成 97 uIO,9> ee  
6.1  优化介绍 97 2INpo  
6.2  细化 (Refinement) 98 :KX*j$5U  
6.3  合成 (Synthesis) 100 2(3Q#3V  
6.4  目标和评价函数 101 H#hpaP;  
6.4.1  目标输入 102 E`^D9:3:)  
6.4.2  目标 103 v+Y^mV`|  
6.4.3  特殊的评价函数 104 ll$mRC  
6.5  层锁定和连接 104 w2'z~\dG8  
6.6  细化技术 104 z5iC
Q4C<  
6.6.1  单纯形 105 T>| hID  
6.6.1.1 单纯形参数 106 sB*dv06b0  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 G5t7KI  
6.6.2.1 Optimac参数 108 _/>I-\xWA  
6.6.3  模拟退火算法 109 XZ@+aG_%q  
6.6.3.1　模拟退火参数 109 {{P 3Z[  
6.6.4  共轭梯度 111 B\rY\  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 yY UAH-  
6.6.5  拟牛顿法 112 V(ww F  
6.6.5.1 拟牛顿参数： 112 b~>@x{  
6.6.6  针合成 113 |iBf6smF  
6.6.6.1 针合成参数 114 fuA] y4A  
6.6.7 差分进化 114 6q>iPK Jt  
6.6.8非局部细化 115 &4WA/'>R  
6.6.8.1非局部细化参数 115 Pz2Q]}(w  
6.7  我应该使用哪种技术？ 116 fI0"#iv}  
6.7.1 　细化 116 m)<+?Bv y  
6.7.2　 合成 117 (oy@j{G)c6  
6.8  参考文献 117 dPpQCxf  
7  导纳图及其他工具 118 !+@70|gFF  
7.1  简介 118 @]
~.-(IMh  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118  8(K:2  
7.2.1  四分之一波长规则 119 o!+'<IQ'  
7.2.2  导纳图 120 3)=ix. wW  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 H'!OEZ  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 JiXE{(  
7.5  斜入射导纳图 141 Q Rr9|p{  
7.6  对称周期 141 N@<-R<s^  
7.7  参考文献 142 O!dS;p-F  
8  典型的镀膜实例 143 >ZPu$=[W  
8.1  单层抗反射薄膜 145 sxF2ku4A  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 Zi}h\R a  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 Sb2_&5  
8.4  W-膜层 148 TeZu*c  
8.5  V-膜层 149 NkGtZ.!pk  
8.6  V-膜层高折射基底 150 AdDR<IW  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 Ei]SksV>*  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 hTv*4J&@|  
8.9  四层抗反射薄膜 153 Pr%KcR ;  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 =>'j
_|  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 q*4@d)_&  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 j&S.k  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 `]GL3cIh:  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 7W4m&+  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 m$_l{|4z  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 {*hGe_^  
8.17  1/4波长堆栈 162 a|t{1]^w`  
8.18  陷波滤波器 163 $d-yG553  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 Z)(#D($-  
8.20  褶皱 165 _[&.`jTF
n  
8.21  消偏振分光器1 169 'cS| BT  
8.22  消偏振分光器2 171 17l?li  
8.23  消偏振立体分光器 172 P>~Usuf4  
8.24  消偏振截止滤光片 173 IR2Qc6+{  
8.25  立体偏振分束器1 174 TZ n2,N  
8.26  立方偏振分束器2 177 ;QG8@ms|  
8.27  相位延迟器 178 vzSjfv  
8.28  红外截止器 179 ^zqQ8{oV  
8.29  21层长波带通滤波器 180 ^oq|^O  
8.30  49层长波带通滤波器 181 &l-d_dh  
8.31  55层短波带通滤波器 182 "#8^":,4  
8.32  47 红外截止器 183 A`(C
uw-o  
8.33  宽带通滤波器 184 JCZ&TK  
8.34  诱导透射滤波器 186 D2o|.e<r  
8.35  诱导透射滤波器2 188 4UW)XLu6T7  
8.36  简单密集型光波复用（DWDM）滤波器 190 7bGt'gvv  
8.37  高级密集型光波复用技术（DWDM）滤波器 192 x=W s)&H_Y  
8.35  增益平坦滤波器 193 OO
nj(%g  
8.38  啁啾反射镜 1 196 a.O"I3{?h  
8.39  啁啾反射镜2 198 WyQ8}]1b  
8.40  啁啾反射镜3 199 z8D,[`  
8.41  带保护层的铝膜层 200 {~g7&+9x*
 
8.42  增加铝反射率膜 201 -g9CW[  
8.43  参考文献 202 =7:}/&  
9  多层膜 204 n@C#,v#^0  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 W S9:*
YH  
9.2  内部透过率 204 i6;rh-M?.  
9.3 内部透射率数据 205 p!T
ac%D+k  
9.4  实例 206 e2nZwPH  
9.5  实例2 210 $'#}f?  
9.6  圆锥和带宽计算 212 vu*{+YpH  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 ;U tEHvE*  
10  光学薄膜的颜色 216 X^m@*,[s  
10.1  导言 216 8)
`  
10.2  色彩 216 ">fRM=fl  
10.3  主波长和纯度 220 fR2,NKM@  
10.4  色相和纯度 221 /<O9^hA|  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 FS?1O"_  
10.6 色差 226 R iLq
MSq  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 NLgeBLB  
10.8  颜色渲染指数 234 kAxJ#RG  
10.9  色差计算 235 F[v^43-^_  
10.10  参考文献 236 fl_a@QdB#  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 ;gRPTk$X3  
11.1  短脉冲 238 4d
SAGLpp  
11.2  群速度 239 #fyY37-  
11.3  群速度色散 241 `"iPJw14  
11.4  啁啾(chirped) 245 73nmDZO|  
11.5  光学薄膜—相变 245 k5)IBO  
11.6  群延迟和延迟色散 246 k.Z?BNP  
11.7  色度色散 246 hH?ke(&=f  
11.8  色散补偿 249 ,zBc-Cm  
11.9  空间光线偏移 256 ydzvjp=  
11.10  参考文献 258 % <%r  
12  公差与误差 260 Hu!<GB~  
12.1  蒙特卡罗模型 260 KZ [:o,jp>  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 _9/Af1X  
12.2.1  误差工具 267 k@9q5lu;T  
12.2.2  灵敏度工具 271 MY&?*pV)  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 +
k   
12.2.2.2 灵敏度分布 275 ,#.^2O9-^  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 # kmI#W"^  
12.3  参考文献 276 I]d?F:cdX  
13  Runsheet 与Simulator 277 6y@o[=m  
13.1  原理介绍 277 C[JPohm  
13.2  截止滤光片设计 277 u,@x7a,z  
14  光学常数提取 289 6 )Qe*S  
14.1  介绍 289 7^h*rL9  
14.2  电介质薄膜 289 gLg\W3TOi  
14.3  n 和k 的提取工具 295 -]MZP:s  
14.4  基底的参数提取 302 +$GP(Uu,  
14.5  金属的参数提取 306 |Gb~[6u   
14.6  不正确的模型 306 T!5g:;~y >  
14.7  参考文献 311 w6k^|."  
15  反演工程 313 ?kc,}/4  
15.1  随机性和系统性 313 IBv9xP]BZ  
15.2  常见的系统性问题 314 tpKQ$)ed  
15.3  单层膜 314 YW-Ge  
15.4  多层膜 314 DTx>^<Tk  
15.5  含义 319 ?)+I'lW!  
15.6  反演工程实例 319 SjU0Xb)[  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 gO!:WD  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 oVnHbvP1X  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 UrB{jS?  
16.1  光学性质的热致偏移 329 DzvGR)>/  
16.2  应力工具 335 &e
X^ll  
16.3  均匀性误差 339 2`h  
16.3.1  圆锥工具 339 eZRu{`AF*  
16.3.2  波前问题 341 mINir-  
16.4  参考文献 343 Y3f2RdGl  
17  如何在Function（模块）中编写操作数 345 y8O<_VOO}"  
17.1  引言 345 :U#4H;kk~j  
17.2  操作数 345 N6S}u@{J~N  
18  如何在Function中编写脚本 351  0GiL(e|  
18.1  简介 351 6imQjtI  
18.2  什么是脚本？ 351 '[Ch8
Yf\  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 s$OnQc2/  
18.4  基础 352 GV
zG  
18.4.1  Classes（类别） 352 B976{;QvXV  
18.4.2  对象 352 Z6r_T  
18.4.3  信息（Messages） 352 yi3Cd@t({{  
18.4.4  属性 352 mE_?E&T`|  
18.4.5  方法 353 Yf,U2A\  
18.4.6  变量声明 353 '|l1-yD_  
18.5  创建对象 354 q:ZF6o`Z83  
18.5.1  创建对象函数 355 FOd)zU*L2  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 Ny)!uqul*  
18.5.3 丢弃对象 356 {%3sj"suB  
18.5.4  总结 356 keWqL]  
18.6  脚本中的表格 357 bIahjxd:  
18.6.1  方法1 357 RI jz7ZG  
18.6.2  方法2 357 c2<JS:!*  
18.7 2D Plots in Scripts 358 F2RU7o'f.  
18.8 3D Plots in Scripts 359 qY$/i#  
18.9  注释 360 0SLS;s.GX  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 $@cg+Xrg1  
18.11  一个更高级的脚本 362 $&iw(BIq  
18.12  <esc>键 364 jO#5ZhG  
18.13 包含文件 365 ht%:e?@i  
18.14  脚本被优化调用 366 BiUbg6T.G  
18.15  脚本中的对话框 368 H[&X${ap  
18.15.1  介绍 368 d'Z  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 Ks@  
18.15.3  输入框函数 370 VdV18-ea  
18.15.4  自定义对话框 371 ]%VR Nm
 
18.15.5  对话框编辑器 371 !B &%!06  
18.15.6  控制对话框 377 *^q%b/f  
18.15.7  更高级的对话框 380 @NS=  
18.16 Types语句 384 3jB5F0
^r1  
18.17 打开文件 385 4 u!)QG  
18.18 Bags 387 yH0BNz8V  
18.13  进一步研究 388 `w J^   
19  vStack 389
as?~N/}  
19.1  vStack基本原理 389 n2$(MDdL`  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 <k0$3&D  
19.3  五棱镜 393 n$fYgZKn  
19.4 光束距离 396 2Po e-=  
19.5 误差 399 rmOcA  
19.6  二向分色棱镜 399 ir%?J&C+t  
19.7  偏振泄漏 404 #sK:q&/G`  
19.8  波前误差—相位 405 L`Lro:E?kL  
19.9  其它计算参数 405 3~7X2}qU  
20  报表生成器 406 t
_PAXj  
20.1  入门 406 }x^q?;7xW  
20.2  指令(Instructions) 406 7LM?<lp]  
20.3  页面布局指令 406 &xG>"sJ  
20.4  常见的参数图和三维图 407 V~> x\  
20.5  表格中的常见参数 408 O]SjShp  
20.6  迭代指令 408 VuqJ&U.-  
20.7  报表模版 408 i,DnXgmz@  
20.8  开始设计一个报表模版 409 n:-:LSa+3  
21  一个新的project 413 /K{`gc  
21.1  创建一个新Job 414 ppjS|l*`  
21.2  默认设计 415 #G;0yB:76  
21.3  薄膜设计 416 f?OFMac  
21.4  误差的灵敏度计算 420 3(De> gs$  
21.5  显色指数计算 422 Hvto]~=GQ  
21.6  电场分布 424 F|t3%dpj  
后记 426 9 -\.|5;:  
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书籍名称：《Essential Macleod中文手册》 a&3p
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《Essential Macleod中文手册》 Gf(|?" H  
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目  录 p_x@FA(  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 %Y7\0q~Z  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 \zA G#{  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 ]chfa  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 U,?[x2LF  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 ^gY^I`"e6  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 kf3 u',}R  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 2E Ufd\  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 Z=P]UD  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 n2NxO0  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 &R? \q*  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 KiXRBFo  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 Z%]s+V)st  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 ,P&.qg i=(  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 .DzFtc  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 sEQAC9M  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 n&? --9r  
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价  格：400元