时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 LeO5BmwHR
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天 AM 9:00-PM 16:00 Aja'`Mu
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 HW{+THNj
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 b/<n:*$
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
特邀专家介绍
o<%Sr*
)%UO@4 易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事
光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率
激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。
9/Q5(P 获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要
\t )Zk2 随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。
bC"#.e 本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲
tohYwXN 1. Essential Macleod软件介绍
KS%xo6k. 1.1 介绍
软件 5w{_WR6, 1.2 创建一个简单的设计
$'kIo*cZ 1.3 绘图和制表来表示性能
L+d_+:w 1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据
wn|Sdp 1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann)
?;}2Z) 1.6 特定设计的公式技术
x/5%a{~j2 1.7 交互式绘图
xNl_Q8Z?R^ 2. 光学薄膜理论基础
"z7.i{ 2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算
6i>xCb 2.2 后表面对光学薄膜特性的影响
(}c}=V 3. 材料管理
`)K1[& 3.1 材料模型
LD#]"k 3.2 介质薄膜光学常数的提取
|?{Zx&yUw 3.3 金属薄膜光学常数的提取
'N'EC`R 3.4 基板光学常数的提取
G9^!=
v@ 4. 光学薄膜设计
优化方法
s{hJ"lv: 4.1 参考
波长与g
V"\t 4.2 四分之一规则
VxaJ[s3PQ& 4.3 导纳与导纳图
Pm
V:J9 4.4 斜入射光学导纳
zq(AN< 4.5 光学薄膜设计的进展
* 496"kU 4.6 Macleod软件的设计与优化功能
_[IN9ZC 2G 4.6.1 优化目标设置
9G 9!=J 4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法)
CCQ<.iCU 4.6.3 膜层锁定和链接
LLV:E{`p 5. Essential Macleod中各个模块的应用
]6FpUF#<D 5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估
,zz+s[ZH7O 5.2 光通信用窄带滤光片模拟
mWCY%o@ 5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号
=][[TH 5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟
o{nBtxZ" 5.5 如何在Function中编写脚本
zJXU>'obe 6. 光学薄膜系统案例
#L[Atx 6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等
(t fADaJM 6.2 仿生蛾眼/复眼结构等
M0 =K#/ 6.3 Stack应用范例说明
qp'HRh@P2: 7. 薄膜性能分析
jD'\\jAUdm 7.1 电场分布
VbJGyjx 7.2 公差与灵敏度分析
57D /" 7.3 反演工程
29
')Y|$, 7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真
I@7^H48\ 8. 真空技术
8^^Xr 8.1 常用真空泵介绍
pz#oRuujY 8.2 真空密封和检漏
{N/(lB8 9. 薄膜制备技术
U
$e-e/ 9.1 常见薄膜制备技术
jt=mK,% 10. 薄膜制备工艺
9xN4\y6F 10.1 薄膜制备工艺因素
eBBqF!WDb 10.2 薄膜均匀性修正技术
( *U Mpdj 10.3 光学薄膜监控技术
-05#/-Z= 11. 激光薄膜
EL5gMs 11.1 薄膜的损伤问题
b&s"x?
7 11.2 激光薄膜的制备流程
4*G#fW- 11.3 激光薄膜的制备技术
rp+&ax}Wh 12. 光学薄膜特性测量
iO>2#p8$NR 12.1 薄膜
光谱测量
)lBke*j~ 12.2 薄膜光学常数测量
*Xn{{ 12.3 薄膜应力测量
7 S(5\9 12.4 薄膜损伤测量
UuzT*Y> 12.5 薄膜形貌、结构与组分分析
`o)rAD^e
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书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
K!0vvP2H
内容简介
q0SYV Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。
IBo)fE\O 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。
OZB(4{vnyC 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。
9jCn|+ hL+)XJu^J 讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
( Y'q%$ oGu-:X=`9 目录
v#8{pr Preface 1
M._9/
*C U 内容简介 2
_2R;@[f2 目录 i
~$Xz~#~ 1 引言 1
Akb#1Ww4 2 光学薄膜基础 2
BRi\&&<4 2.1 一般规则 2
{D={>0 2.2 正交入射规则 3
DW\';" 2.3 斜入射规则 6
Y1h8O%? 2.4 精确计算 7
EuOrwmdj 2.5 相干性 8
h;u8{t" 2.6 参考文献 10
2g$PEwXe 3 Essential Macleod的快速预览 10
)! Jo7SR 4 Essential Macleod的特点 32
( d#E16y 4.1 容量和局限性 33
AvfSR p 4.2 程序在哪里? 33
Po~{Mpe 4.3 数据文件 35
[AstD9 4.4 设计规则 35
2f2Vy:&O_ 4.5 材料数据库和
资料库 37
*UJ.cQ} 4.5.1材料损失 38
H$bu*o-Z 4.5.1材料数据库和导入材料 39
]|KOc& y:I 4.5.2 材料库 41
w~{NNK;"j 4.5.3导出材料数据 43
{ss^L 4.6 常用单位 43
(S3\O `5 4.7 插值和外推法 46
FZf{kWH 4.8 材料数据的平滑 50
;~CAHn|Fe 4.9 更多光学常数模型 54
:08b&myx 4.10 文档的一般编辑规则 55
U$-Gc[=| 4.11 撤销和重做 56
j?<>y/IR 4.12 设计文档 57
2#%@j6 4.10.1 公式 58
I.As{0cc 4.10.2 更多关于膜层厚度 59
}#]2u|G 4.10.3 沉积密度 59
<]1Z 4.10.4 平行和楔形介质 60
BC.~wNz6 4.10.5 渐变折射率和散射层 60
}TfZ7~o[ 4.10.4 性能 61
9f1,E98w_ 4.10.5 保存设计和性能 64
"jS@ug 4.10.6 默认设计 64
cih[A2lp 4.11 图表 64
xvn@zi 4.11.1 合并曲线图 67
W/e6O?? O 4.11.2 自适应绘制 68
}ADdKK- 4.11.3 动态绘图 68
4}-{sS}MP 4.11.4 3D绘图 69
1X.E: 4.12 导入和导出 73
hq+j8w}<- 4.12.1 剪贴板 73
Vcjmj 4.12.2 不通过剪贴板导入 76
Ns
ezUk8' 4.12.3 不通过剪贴板导出 76
YytO*^e}} 4.13 背景 77
'9@} =pE 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80
+OEqDXR+_ 4.15 生成Rugate 84
sKDsps^$ 4.16 参考文献 91
s9^r[l@W0U 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92
X^Dklqqy 5.1 Jobs 92
A><w1-X&=o 5.2 创建一个新Job(工作) 93
+8p4\l$<` 5.3 输入材料 94
m^?a / 5.4 设计数据文件夹 95
l5;
SY 5.5 默认设计 95
lJlyfN 6 细化和合成 97
y(81| c# 6.1 优化介绍 97
hJ|zX 6.2 细化 (Refinement) 98
$?`-} wY 6.3 合成 (Synthesis) 100
<yNu/B.M 6.4 目标和评价函数 101
9feVy\u
6.4.1 目标输入 102
_`|te|ccF 6.4.2 目标 103
e 97Ll=> 6.4.3 特殊的评价函数 104
*m$lAWB5D 6.5 层锁定和连接 104
)(CZK&< 6.6 细化技术 104
cl,\N\ 6.6.1 单纯形 105
z.d1>w 6.6.1.1 单纯形
参数 106
76 ]X 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107
,76xa%k(U| 6.6.2.1 Optimac参数 108
>G#SfE$0 6.6.3 模拟退火算法 109
9szUN;:ZZ 6.6.3.1 模拟退火参数 109
VAD9mS^~ 6.6.4 共轭梯度 111
yq7gBkS 6.6.4.1 共轭梯度参数 111
Q3h_4{w 6.6.5 拟牛顿法 112
`PoFKtVXM 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112
E^K<b7 6.6.6 针合成 113
Qvc$D{z 6.6.6.1 针合成参数 114
'GyO 6.6.7 差分进化 114
cVb&Jzd 6.6.8非局部细化 115
>v?&&FhHK< 6.6.8.1非局部细化参数 115
v~.nP}
E^ 6.7 我应该使用哪种技术? 116
(g HCu
6.7.1 细化 116
L|hoA9/] 6.7.2 合成 117
Q%T[&A}3B 6.8 参考文献 117
84U?\f@u 7 导纳图及其他工具 118
Sdo mG?;kV 7.1 简介 118
y]U]b G{ 7.2 薄膜作为导纳的变换 118
Z~S%|{&Br 7.2.1 四分之一波长规则 119
j:>_1P/ 7.2.2 导纳图 120
7$zeRYD+ 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124
{wL30D^ 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125
Ea,L04K 7.5 斜入射导纳图 141
mxPzB#t4 7.6 对称周期 141
]Y.GU 7` 7.7 参考文献 142
z?3t^UPW 8 典型的镀膜实例 143
L^E#"f 8.1 单层抗反射薄膜 145
R\T1R"1 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146
u5Tu~ 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147
ATG;*nIP 8.4 W-膜层 148
'W_u1l/ 8.5 V-膜层 149
"ZYdJHM 8.6 V-膜层高折射基底 150
gVscdg5 8.7 V-膜层高折射率基底b 151
w\}@+w3b~ 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152
m%s&$ 8.9 四层抗反射薄膜 153
WeiDg,]e$b 8.10 Reichert抗反射薄膜 154
<
M o 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155
FL|\D 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156
f`W)Z$fN5 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157
Kj{(jT 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158
p!Xn iY 8.15十五层宽带抗反射膜 159
*}h#'+ 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161
V1-URC24vd 8.17 1/4波长堆栈 162
,L&d\M"f 8.18 陷波滤波器 163
WcHL:38 8.19 厚度调制陷波滤波器 164
(ebC80M 8.20 褶皱 165
,j!%,!n o 8.21 消偏振分光器1 169
FGey%:p9$ 8.22 消偏振分光器2 171
|MMaaW^" 8.23 消偏振立体分光器 172
uvMcB9 8.24 消偏振截止滤光片 173
kMx^L;:n 8.25 立体偏振分束器1 174
%o 8.26 立方偏振分束器2 177
[k<.BCE 8.27 相位延迟器 178
xf4CM,Z7( 8.28 红外截止器 179
xP7#`S6W 8.29 21层长波带通滤波器 180
<L'6CBbP 8.30 49层长波带通滤波器 181
r
"uQ| 8.31 55层短波带通滤波器 182
/UG]hJ-wn 8.32 47 红外截止器 183
!)4'[5t"U 8.33 宽带通滤波器 184
=9!|%j 8.34 诱导透射滤波器 186
or
qL0i 8.35 诱导透射滤波器2 188
=1r!'<"h 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190
K6EG"Vv! 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192
Z{}+7P 8.35 增益平坦滤波器 193
vdaG?+_o 8.38 啁啾反射镜 1 196
6>NK2} ` 8.39 啁啾反射镜2 198
K41Gn 8.40 啁啾反射镜3 199
K0fuN)C 8.41 带保护层的铝膜层 200
OK" fFv 8.42 增加铝反射率膜 201
rbl7-xhC7 8.43 参考文献 202
_Kwp8_kTr 9 多层膜 204
(.pi ,+Ws 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204
hA=}R.gi 9.2 内部透过率 204
1k0*WCfZ 9.3 内部透射率数据 205
U
ATF}x
9.4 实例 206
%?X6TAtH 9.5 实例2 210
g#%Egb1 9.6 圆锥和带宽计算 212
;DgQ8"f 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214
AL{iQxQ6 10 光学薄膜的颜色 216
:|%1i>O 10.1 导言 216
\C<'2KZR, 10.2 色彩 216
hS'!JAM>Q 10.3 主波长和纯度 220
25Uw\rKeO 10.4 色相和纯度 221
1| dXbyUd 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222
yu}yON 10.6 色差 226
9]%2Yb8SC 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227
q8!X^1F7 10.8 颜色渲染指数 234
: "^/?Sd 10.9 色差计算 235
7g>|e 10.10 参考文献 236
l T#WM] 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238
i`}!<{k 11.1 短脉冲 238
7/zaf 11.2 群速度 239
(L*<CV 11.3 群速度色散 241
#.{ddY{ 11.4 啁啾(chirped) 245
}R!t/8K 11.5 光学薄膜—相变 245
;(@' +" 11.6 群延迟和延迟色散 246
H=*lj.x 11.7 色度色散 246
w0X})&,{`m 11.8 色散补偿 249
'{w[).c. 11.9 空间
光线偏移 256
F~sUfqiJ' 11.10 参考文献 258
? sv[vR( 12 公差与误差 260
qVW3oj<2 12.1 蒙特卡罗模型 260
ws<pBC,m 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267
9aBz%* xo 12.2.1 误差工具 267
`=l o. c 12.2.2 灵敏度工具 271
u7SC_3R 12.2.2.1 独立灵敏度 271
eD|"?@cE 12.2.2.2 灵敏度分布 275
M5:j)oW 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276
vNHvuwK 12.3 参考文献 276
!0_/=mA^ 13 Runsheet 与Simulator 277
o@L2c3?c5 13.1 原理介绍 277
D63?f\ 13.2 截止滤光片设计 277
~^PNMZk 14 光学常数提取 289
[!#}# 14.1 介绍 289
2UG>(R: 14.2 电介质薄膜 289
RI<&cgWn+< 14.3 n 和k 的提取工具 295
&4wwp !J 14.4 基底的参数提取 302
~ike&k{ 14.5 金属的参数提取 306
WfHa 14.6 不正确的模型 306
LYr9a( 14.7 参考文献 311
y eam-8 15 反演工程 313
RivhEc1h% 15.1 随机性和系统性 313
EE*|# 15.2 常见的系统性问题 314
Qxfds`4V9i 15.3 单层膜 314
1vYa&! 15.4 多层膜 314
,$Cr9R&/ 15.5 含义 319
y@SI )&D
15.6 反演工程实例 319
D`fIw`
_ 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320
XQ2YUe]DJ 15.6.2 反演工程提取折射率 327
X]D:vuB 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329
BMtk/r/ 16.1 光学性质的热致偏移 329
~iPXn1 16.2 应力工具 335
{Iz"]Wh<f 16.3 均匀性误差 339
FOhq&\nkU 16.3.1 圆锥工具 339
dsOt(yNo 16.3.2 波前问题 341
%)Z,?DzZ 16.4 参考文献 343
+R7pdi 17 如何在Function(模块)中编写操作数 345
/Ny#+$cfk 17.1 引言 345
3a&HW
JBSx 17.2 操作数 345
T
oT(' 18 如何在Function中编写脚本 351
=sso )/3 18.1 简介 351
>[&ser 18.2 什么是脚本? 351
I%b5a`7 18.3 Function中脚本和操作数对比 351
w}s5=>QG% 18.4 基础 352
e jR_3K^ 18.4.1 Classes(类别) 352
\}\#
fg 18.4.2 对象 352
Dk&(QajL 18.4.3 信息(Messages) 352
j{johV+`8 18.4.4 属性 352
=:t<!dp 18.4.5 方法 353
fQ1Dp 18.4.6 变量声明 353
W*?qOq
{ 18.5 创建对象 354
A
H=%6oT2 18.5.1 创建对象函数 355
m2&Vm~Py6b 18.5.2 使用ThisSession和其它对象 355
49HP2E 18.5.3 丢弃对象 356
qO/3:- 18.5.4 总结 356
'V8o["P 18.6 脚本中的表格 357
Igw2n{})w 18.6.1 方法1 357
Hy -)yR 18.6.2 方法2 357
1Y%lt5,* 18.7 2D Plots in Scripts 358
.V\~#Ro$G 18.8 3D Plots in Scripts 359
n/`!G?kvI 18.9 注释 360
tvBLfqIr 18.10 脚本管理器调用Scripts 360
^=a:{["@! 18.11 一个更高级的脚本 362
pMY7{z 18.12 <esc>键 364
G$luGxl[ 18.13 包含文件 365
&gr
T@ 18.14 脚本被优化调用 366
S(^YTb7 18.15 脚本中的对话框 368
N<<O(r 18.15.1 介绍 368
C,%Dp0 18.15.2 消息框-MsgBox 368
7IQaXcl 18.15.3 输入框函数 370
<FAbImE} 18.15.4 自定义对话框 371
j&U7xv 18.15.5 对话框编辑器 371
Efoy]6P\ 18.15.6 控制对话框 377
4.Fh4Y:$' 18.15.7 更高级的对话框 380
Hzc}NyJ 18.16 Types语句 384
66sgs16k 18.17 打开文件 385
rCsC}2O 18.18 Bags 387
6G#[Mc yn 18.13 进一步研究 388
/D yig 19 vStack 389
K4H27SH 19.1 vStack基本原理 389
.tHjGx
19.2 一个简单的系统——直角棱镜 391
}_-tJ. 19.3 五棱镜 393
6)W8H X~+ 19.4 光束距离 396
>rSCf= 19.5 误差 399
,% 'r:@' 19.6 二向分色棱镜 399
2Dt^W.! 19.7 偏振泄漏 404
k<Xb<U 19.8 波前误差—相位 405
(/Jy9=~ 19.9 其它计算参数 405
/reGT!u 20 报表生成器 406
y+= s/c 20.1 入门 406
P: L6Zo-J 20.2 指令(Instructions) 406
X}5"ZLa7l 20.3 页面布局指令 406
u\/TR#b 20.4 常见的参数图和三维图 407
#f;6Ia># 20.5 表格中的常见参数 408
[O} D^qp 20.6 迭代指令 408
w~+\Mf z 20.7 报表模版 408
IwS<p- 20.8 开始设计一个报表模版 409
vl6|i)D 21 一个新的project 413
J_j4Zb% K 21.1 创建一个新Job 414
M+^ NF\ 21.2 默认设计 415
iQ1[60?)T 21.3 薄膜设计 416
P #8+1iC1 21.4 误差的灵敏度计算 420
I,05'edCQ 21.5 显色指数计算 422
WvoIh4] 21.6 电场分布 424
-e?n4YO*\ 后记 426
HRQfT>"/ 2^75|Q %rf6> 书籍名称:《Essential Macleod中文手册》
#;lEx'lKN n5efHJU 《Essential Macleod中文手册》
nv7)X2jja h,-i\8gq 目 录
9b&;4Yq!f ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析
lp5'-Jo 第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3
X+HPdrT 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17
Sn
7h$ 第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44
:oYSvK7> 第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100
@3 + 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111
aqI m W 第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120
WX`wz>KK^ 第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167
d_f*'M2Gv 第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200
<Wj/A/ 第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213
#6mw CA| 第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251
O3dQno 第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284
j~=<O<P 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297
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