[培训]上海｜薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25（三）-27日（五） [复制链接]

特邀专家介绍 %@TC- xx  

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b8vZ^8tBV  
易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，研究生导师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 ),xD5~_=q  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 _.BT%4  
随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 ^kz(/c/?  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 )t\aB_ =  
1. Essential Macleod软件介绍 p7r/`_'|  
1.1 介绍软件 .`v%9-5v  
1.2 创建一个简单的设计 9zIqSjos"  
1.3 绘图和制表来表示性能 *BF[thB:a  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 difX7)\  
1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） L2~'Z'q  
1.6 特定设计的公式技术 E7aG&K  
1.7 交互式绘图 =1,1}OucP  
2. 光学薄膜理论基础 Sw5-^2x0'  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 kBoQjOV`  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 ~gNFcJuy  
3. 材料管理 uaU2D-ft"  
3.1 材料模型 fz2}M:u  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 #5'
& |<  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 3hUP>F8  
3.4 基板光学常数的提取 y%kZ##  
4. 光学薄膜设计优化方法 Vry_X2  
4.1 参考波长与g
~#}T|  
4.2 四分之一规则 !7MRHI/0C  
4.3 导纳与导纳图 ~<s^HP2U{
 
4.4 斜入射光学导纳 2' ^7G@%  
4.5 光学薄膜设计的进展 jF/S2Ty2  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 0 ]L  
4.6.1 优化目标设置 W}MN-0  
4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法） v=cQ`nou  
4.6.3 膜层锁定和链接 `r~3Pf).4  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 "dvo@n|  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 +"=yd
F.9  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 HiH<'m"\.  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 w&Gc#-B  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 fBv: TC%  
5.5 如何在Function中编写脚本 |d*a~T0  
6. 光学薄膜系统案例 =6Gn? /{  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 MtN!Xx  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 -V[x q  
6.3 Stack应用范例说明 af9KtX+  
7. 薄膜性能分析 lI.oyR'  
7.1 电场分布 |5X[/Q*K`W  
7.2 公差与灵敏度分析 $AE5n>ZD$  
7.3 反演工程 1+XM1(|c`  
7.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真 0_MtmmL.  
8. 真空技术 5$cjCjY  
8.1 常用真空泵介绍 '\xE56v)F  
8.2 真空密封和检漏 RwOOe7mv  
9. 薄膜制备技术 \x]\W#C  
9.1 常见薄膜制备技术 5s`r&2 w  
10. 薄膜制备工艺 =+ >>l0=_v  
10.1 薄膜制备工艺因素 c%gL3kOT  
10.2 薄膜均匀性修正技术 ;+6><O!G  
10.3 光学薄膜监控技术 Z[ (d7  
11. 激光薄膜 eNVuw:Q+  
11.1 薄膜的损伤问题 !U1 vW}H  
11.2 激光薄膜的制备流程 pi/0~ke4"  
11.3 激光薄膜的制备技术 G :k'm^k  
12. 光学薄膜特性测量 1;V_E2?V  
12.1 薄膜光谱测量 " r o'?  
12.2 薄膜光学常数测量 A~<!@`NjB  
12.3 薄膜应力测量 m_@XoS yxI  
12.4 薄膜损伤测量 0H_ux
kB~  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析内容简介 Y|Gp\  
Macleod软件自带的用户手册功能全面，其介绍涵盖了软件的方方面面，能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而，为了顺应目前薄膜行业的需求，急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍，以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作，因此，我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 xdM'v{N#m  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（原著第二版）是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结，结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod，其内容丰富，实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法，还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题，如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节，首先，从光学薄膜的基本理论出发（第2章），为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次，在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作，以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后，从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合，从而使大家将理论知识与实际经验结合起来，对实际镀膜提出实用的建议，以减少设计时间并降低生产成本。 3,6f}:CG  
薄膜光学涵盖范围很广，书中并附设计光盘和参考文献，有兴趣者可依此深入研究，为精准起见，在不影响理解的情况下，尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助，通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限，书中错误纰漏之处在所难免，本书若有不周之处，尚请读者不吝赐教。 =|ODa/2p  
.SER,],P  
rVl 8?uy  
*vuI'EbM  
目录 N!3Tg564j  
Preface 1 (=Kv1 HaD  
内容简介 2 -eyF9++`  
目录 i *qk7e[IP  
1  引言 1 T]-MrnO  
2  光学薄膜基础 2 9 i/ (  
2.1  一般规则 2 <<A#4!f  
2.2  正交入射规则 3 U$& '>%#  
2.3  斜入射规则 6 e(|Z<6  
2.4  精确计算 7 83t/\x,Q  
2.5  相干性 8 P~=yTW  
2.6 参考文献 10 /:(A9b-B  
3  Essential Macleod的快速预览 10 7H< IO`  
4  Essential Macleod的特点 32 m:[I$b6AY  
4.1  容量和局限性 33 WGUw`sc\  
4.2  程序在哪里？ 33 9*ZlNZ  
4.3  数据文件 35 /[\g8U{5B}  
4.4  设计规则 35 'g,h  
4.5  材料数据库和资料库 37 ;<m`mb4x[  
4.5.1材料损失 38 d!0rq4v7  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 % _E?3  
4.5.2 材料库 41 \WE&5 9G  
4.5.3导出材料数据 43 B\)Te9k'  
4.6  常用单位 43 $m2#oI'D  
4.7  插值和外推法 46 d9;&Y?fp  
4.8  材料数据的平滑 50 c:7F 2+p  
4.9 更多光学常数模型 54 Y'iyfnk  
4.10  文档的一般编辑规则 55 6{1=3.CL  
4.11 撤销和重做 56 :e;6oC*"q  
4.12  设计文档 57 &TQ~!ZMOR"  
4.10.1  公式 58 Z6i~Dy3  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 J*$%d1  
4.10.3  沉积密度 59 iKJqMES  
4.10.4 平行和楔形介质 60 ~at@3j}W  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 aPEI_P+Ls  
4.10.4  性能 61 $a*7Q~4  
4.10.5  保存设计和性能 64 n2B%}LLa  
4.10.6  默认设计 64 I\k<PglRA  
4.11  图表 64 X%IqZ{{  
4.11.1  合并曲线图 67 5buW\_G)  
4.11.2  自适应绘制 68 bkDVW  
4.11.3  动态绘图 68 49&i];:%7%  
4.11.4  3D绘图 69 BL16?&RK  
4.12  导入和导出 73 a- rR`  
4.12.1  剪贴板 73 eb\SpdM6  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 /)Cfm1$ic  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 [_(J8~va  
4.13  背景 77 S=!WFKcJR  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 }]o8}$&(  
4.15  生成Rugate 84 ]wU/yc)e  
4.16  参考文献 91 lTMY|{9  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 v-3VzAd=*&  
5.1  Jobs 92 .s*N1 U?h  
5.2  创建一个新Job（工作） 93 ?o;ip  
5.3  输入材料 94 [:cD  
5.4  设计数据文件夹 95 bt)C+|i  
5.5  默认设计 95 : "|/  
6  细化和合成 97 *O~y6|U?  
6.1  优化介绍 97 <.n,:ir  
6.2  细化 (Refinement) 98 OA&'T*)-A6  
6.3  合成 (Synthesis) 100 F~ 5,-atDM  
6.4  目标和评价函数 101 vu*e*b$}  
6.4.1  目标输入 102 &<98nT  
6.4.2  目标 103 \+R%KA/F  
6.4.3  特殊的评价函数 104 Q
/4-7  
6.5  层锁定和连接 104 >S7t  
6.6  细化技术 104 cj>UxU][eS  
6.6.1  单纯形 105 QX<n^W  
6.6.1.1 单纯形参数 106 BJux5Nh  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 . fja;aG  
6.6.2.1 Optimac参数 108 Z&Ob,Ru  
6.6.3  模拟退火算法 109 A r]*?:4y[  
6.6.3.1　模拟退火参数 109 Lxp}o7>K  
6.6.4  共轭梯度 111 u>fMO9X}2  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 HRyFjAR\?  
6.6.5  拟牛顿法 112 gD6S%O  
6.6.5.1 拟牛顿参数： 112 2~$S @c  
6.6.6  针合成 113 Ux=~-}<-w  
6.6.6.1 针合成参数 114 rH`\UZ{cc  
6.6.7 差分进化 114 @\y{q;  
6.6.8非局部细化 115 Z8$BgP  
6.6.8.1非局部细化参数 115 _gqqPny4$  
6.7  我应该使用哪种技术？ 116 47Z3nl?  
6.7.1 　细化 116 ]!{S2x&"  
6.7.2　 合成 117 0 MK}  
6.8  参考文献 117 u?`{s88_mF  
7  导纳图及其他工具 118 MWv@]P_0p!  
7.1  简介 118 $VHIU1JjZ  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 9?,i+\)qK@  
7.2.1  四分之一波长规则 119 `#ruZM066  
7.2.2  导纳图 120 GfELL`yz  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 NF8<9  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 dBd7#V:}yV  
7.5  斜入射导纳图 141 4}m9,  
7.6  对称周期 141 3LETzsJ  
7.7  参考文献 142 v ^h:E  
8  典型的镀膜实例 143 g9" wX?*  
8.1  单层抗反射薄膜 145 (s;W>,~q  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 EU[eG^/0@  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 /*y5W-'d^  
8.4  W-膜层 148 X3}eq|r9  
8.5  V-膜层 149 k 3m_L-  
8.6  V-膜层高折射基底 150 rgVRF44X{  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 3T
u]-.  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 `CVkjLiy  
8.9  四层抗反射薄膜 153 e El)wZ,A  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 M
MFg{8  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 1GK.:s6.f  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 $$m0mK
  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 YYn8!FIe  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 z+yq%O  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 4tCM2it%  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 }8 z:L<  
8.17  1/4波长堆栈 162 +u Iq]tqe  
8.18  陷波滤波器 163 eI$V2  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 0fewMS*  
8.20  褶皱 165 BjfVNF;hk:  
8.21  消偏振分光器1 169 cK1^j
H<|  
8.22  消偏振分光器2 171 :+/8n+@#  
8.23  消偏振立体分光器 172 cRf F!EV  
8.24  消偏振截止滤光片 173 CImp
,k0  
8.25  立体偏振分束器1 174 %FYhq:j  
8.26  立方偏振分束器2 177 g}0K@z3  
8.27  相位延迟器 178 Br
9j)1;  
8.28  红外截止器 179 =T9h7c R  
8.29  21层长波带通滤波器 180 #sc!H4  
8.30  49层长波带通滤波器 181 P_5aHeiJ  
8.31  55层短波带通滤波器 182 Eto"B"  
8.32  47 红外截止器 183 Sh!c]r>\Q  
8.33  宽带通滤波器 184 lq:q0>vyI  
8.34  诱导透射滤波器 186 3cghg._  
8.35  诱导透射滤波器2 188 `TJhH<z"%  
8.36  简单密集型光波复用（DWDM）滤波器 190 3l?|+sU>O  
8.37  高级密集型光波复用技术（DWDM）滤波器 192 1]:,Xa+|S  
8.35  增益平坦滤波器 193 >"2jCR$/  
8.38  啁啾反射镜 1 196 zTcz+3x  
8.39  啁啾反射镜2 198 |,,#DSe  
8.40  啁啾反射镜3 199 vm|u~Yd,s  
8.41  带保护层的铝膜层 200 ht2Fie  
8.42  增加铝反射率膜 201 C!^A\T7p  
8.43  参考文献 202 8s6[
-F5  
9  多层膜 204 4uiq'-  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 `'s_5Ek  
9.2  内部透过率 204 vSnVq>-q&  
9.3 内部透射率数据 205 A.r7 ks  
9.4  实例 206 &'/"=lK  
9.5  实例2 210 Nx.9)MjI  
9.6  圆锥和带宽计算 212 `e,}7zGR  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 [`GSc6j  
10  光学薄膜的颜色 216 1TQ?Fxj  
10.1  导言 216 o)5zvnu7  
10.2  色彩 216 anW['!T9{s  
10.3  主波长和纯度 220 J-<P~9m~I  
10.4  色相和纯度 221 ?sQg{1"Zr  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 3q/Us0jr  
10.6 色差 226 clU ?bF~e1  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 6HCg<_j]  
10.8  颜色渲染指数 234 g*b`o87PI  
10.9  色差计算 235 8j>V?'Szk  
10.10  参考文献 236 ^)9/Wz _x  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 n3$=&  
11.1  短脉冲 238 F\N0<o  
11.2  群速度 239  t/t6o&  
11.3  群速度色散 241 (X@\2M4@T#  
11.4  啁啾(chirped) 245 9!jF$  
11.5  光学薄膜—相变 245 %q|*}l  
11.6  群延迟和延迟色散 246 D 1.59mHsD  
11.7  色度色散 246 iqR6z\p&  
11.8  色散补偿 249 M@es8\&S.  
11.9  空间光线偏移 256 ,mm97I  
11.10  参考文献 258 :? B4q#]N  
12  公差与误差 260 7=N%$]DKZ  
12.1  蒙特卡罗模型 260 g s
m%4>sc  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 6k0Awcr  
12.2.1  误差工具 267 }T.>p#z  
12.2.2  灵敏度工具 271 SlB`ktcfI  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 T2rwK2  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 sd\}M{U  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 GImPPF  
12.3  参考文献 276 VL*5  
13  Runsheet 与Simulator 277 |I1,9ex  
13.1  原理介绍 277 KOe]JDU  
13.2  截止滤光片设计 277 G)~>d/  
14  光学常数提取 289 R^`}DlHX  
14.1  介绍 289 )>h3IR  
14.2  电介质薄膜 289 &PPnI(s^K  
14.3  n 和k 的提取工具 295 5P<"I["  
14.4  基底的参数提取 302 =T3{!\tH  
14.5  金属的参数提取 306 s;P _LaIp)  
14.6  不正确的模型 306 ~Zsj@d  
14.7  参考文献 311 o%+w:u.  
15  反演工程 313 8*8Y\"  
15.1  随机性和系统性 313 8#$HKWUK  
15.2  常见的系统性问题 314 x=rMjz-`_  
15.3  单层膜 314 ;sA 5&a>!  
15.4  多层膜 314 L$c 1<7LU  
15.5  含义 319 9HR1m3  
15.6  反演工程实例 319 fV4eGIR&  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 j6^.Q/{^  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 ds(X[7XGW  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 S".|j$  
16.1  光学性质的热致偏移 329 _K?v^oM#  
16.2  应力工具 335 W\B@0Iso  
16.3  均匀性误差 339 uD{-a$6z  
16.3.1  圆锥工具 339 < k(n%  
16.3.2  波前问题 341 @8J*vY =e  
16.4  参考文献 343 "n3n-Y#'  
17  如何在Function（模块）中编写操作数 345 "8a V~]~Dj  
17.1  引言 345 T#rUbi>""  
17.2  操作数 345 R|Bi%q|4P  
18  如何在Function中编写脚本 351 ){/n7*#Th%  
18.1  简介 351 ]gHrqi%  
18.2  什么是脚本？ 351 "xC$Ko _  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 `vt+VUNf  
18.4  基础 352 =^M Q 4  
18.4.1  Classes（类别） 352 A\mSS  
18.4.2  对象 352 evEdFY  
18.4.3  信息（Messages） 352 zfUj%N  
18.4.4  属性 352 @QJPcF"  
18.4.5  方法 353 a$uDoi  
18.4.6  变量声明 353 De$Ic"Z9L  
18.5  创建对象 354 hHMp=8J7  
18.5.1  创建对象函数 355 tWZ8(E$  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 ?jO<<@*2S  
18.5.3 丢弃对象 356 S5m.oHJI*  
18.5.4  总结 356 ^,'KmZm=  
18.6  脚本中的表格 357 p&(z'
d  
18.6.1  方法1 357 %j0c|u  
18.6.2  方法2 357 }rVLWt
 
18.7 2D Plots in Scripts 358 J|V*g]#kP  
18.8 3D Plots in Scripts 359 3KD:JKn^  
18.9  注释 360 =`}|hI   
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 \HoVS  
18.11  一个更高级的脚本 362 2CtCG8o  
18.12  <esc>键 364 _NuHz  
18.13 包含文件 365 /$qB&OWJn  
18.14  脚本被优化调用 366 ,uO?f1  
18.15  脚本中的对话框 368 =AK6^v&on  
18.15.1  介绍 368 Z~ q="CA4  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 F9_X^#%L  
18.15.3  输入框函数 370 r,,*kE  
18.15.4  自定义对话框 371 J=t}N+:F`b  
18.15.5  对话框编辑器 371 *W}nw$tnBX  
18.15.6  控制对话框 377 q/7T-"q/G  
18.15.7  更高级的对话框 380 4}Os>M{k  
18.16 Types语句 384 ayf;'1  
18.17 打开文件 385 'Um\m  
18.18 Bags 387 4GJx1O0Ol  
18.13  进一步研究 388 <aMihT)dd  
19  vStack 389 $KRpu<5i}  
19.1  vStack基本原理 389 O St~P^1  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 Hg]iZ,8?  
19.3  五棱镜 393 noWwX  
19.4 光束距离 396 0oyZlv*  
19.5 误差 399 jA3Ir;a  
19.6  二向分色棱镜 399 a,t]>z95  
19.7  偏振泄漏 404 &C/,~pJ1S  
19.8  波前误差—相位 405 A{hST~
s  
19.9  其它计算参数 405 .GDY J9vi  
20  报表生成器 406 vf<Tq  
20.1  入门 406 ]waCYrG<sY  
20.2  指令(Instructions) 406 v Dph}Z  
20.3  页面布局指令 406 vdulrnGqL  
20.4  常见的参数图和三维图 407 xtS0D^  
20.5  表格中的常见参数 408 =-uk7uZM  
20.6  迭代指令 408 b\"2O4K,)  
20.7  报表模版 408 ?P2d 9b  
20.8  开始设计一个报表模版 409 &2Cu"O'.i  
21  一个新的project 413 O;;vz+ j  
21.1  创建一个新Job 414 D7N` %A8   
21.2  默认设计 415 0 KWi<G1  
21.3  薄膜设计 416 %X\rP,  
21.4  误差的灵敏度计算 420 '$CJZ`nt  
21.5  显色指数计算 422 8+~|!)a  
21.6  电场分布 424 L_YY,  
后记 426 aQfrDM<*XS  
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--^  
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书籍名称：《Essential Macleod中文手册》 VV~Kgy  
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《Essential Macleod中文手册》 ^p7Er!  
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目  录 Xn8r3Nb$A  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 F;dUqXUu  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 Qte'f+  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 D\GP+Ota  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 Y]1b39O  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 sJ/?R:  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 @Nt$B'+S&  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 c_bIadE{  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 >/F,Z%!&q  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 4#@zn 2l  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 J\
kv}v  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 t[cZ|+^]  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 jJCd2O]  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 W 7Y5~%@  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 ;GxKPy  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 I_@XHhyVZ  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 [L
@ vC>G  
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价  格：400元