[培训]上海｜薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25（三）-27日（五） [复制链接]

特邀专家介绍
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&2y4k"B&)  
易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，研究生导师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 8u+kA mI  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 g[O?wH-a  
随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 V ql4*OJW  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 /RxP:>hVv  
1. Essential Macleod软件介绍 "Gp[.=.z?  
1.1 介绍软件 r%?-MGc  
1.2 创建一个简单的设计 _-TplGSO=c  
1.3 绘图和制表来表示性能 2|,L 9  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 
:3n@].  
1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） x,,y}_YX  
1.6 特定设计的公式技术 CaJ-oy8  
1.7 交互式绘图 Q v9q~l  
2. 光学薄膜理论基础 2'Dl$DH  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 :+,;5  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 U=.PL\  
3. 材料管理 `N *:,8j  
3.1 材料模型 Plp.\N%f3  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 J,y
KO(}<C  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 ={O ~  
3.4 基板光学常数的提取 @.e X8~3=  
4. 光学薄膜设计优化方法 R+M=)Z  
4.1 参考波长与g f+^6.%  
4.2 四分之一规则 <:v+<)K  
4.3 导纳与导纳图 5l6/5  
4.4 斜入射光学导纳 EL?(D  
4.5 光学薄膜设计的进展 "tz6O0D  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 
Y<xqws  
4.6.1 优化目标设置 N'v3 |g  
4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法） U>E: Ub0r  
4.6.3 膜层锁定和链接 1MLL  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 ~T1W-ig4[*  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 I\.|\^  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 tK%ie
\  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 %":3xj'EEI  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 ?G,4N<]Nu  
5.5 如何在Function中编写脚本 !DZ=`a?y  
6. 光学薄膜系统案例 egaX[j r  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 jSY[Y:6md  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 1>J.kQR^  
6.3 Stack应用范例说明 p R'J4~  
7. 薄膜性能分析 ,n/]ALz>~  
7.1 电场分布 f^$,;  
7.2 公差与灵敏度分析 c{=Sy;i@  
7.3 反演工程 .EKlw##  
7.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真 0|P=S|%~  
8. 真空技术 ,X?/FAcb
 
8.1 常用真空泵介绍 ?"x4u#x  
8.2 真空密封和检漏 F0:]@0>r  
9. 薄膜制备技术 4[gmA  
9.1 常见薄膜制备技术 7rjl-FUA~  
10. 薄膜制备工艺 =l`)b  
10.1 薄膜制备工艺因素 o1.~g'!^  
10.2 薄膜均匀性修正技术 .@V
Z3"  
10.3 光学薄膜监控技术 {[H_Vl@  
11. 激光薄膜 *)RmX$v3  
11.1 薄膜的损伤问题 0'Pjnk-i  
11.2 激光薄膜的制备流程 U#3N90,N=  
11.3 激光薄膜的制备技术 axC|,8~tq  
12. 光学薄膜特性测量 *()['c#CC  
12.1 薄膜光谱测量 g*V.u]U!i  
12.2 薄膜光学常数测量 rnIjpc F  
12.3 薄膜应力测量 T~[:oil  
12.4 薄膜损伤测量 /Y0~BQC7!  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析内容简介 kKyU?/aj  
Macleod软件自带的用户手册功能全面，其介绍涵盖了软件的方方面面，能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而，为了顺应目前薄膜行业的需求，急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍，以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作，因此，我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 fs!dI  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（原著第二版）是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结，结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod，其内容丰富，实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法，还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题，如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节，首先，从光学薄膜的基本理论出发（第2章），为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次，在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作，以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后，从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合，从而使大家将理论知识与实际经验结合起来，对实际镀膜提出实用的建议，以减少设计时间并降低生产成本。 $C[z]}iOi  
薄膜光学涵盖范围很广，书中并附设计光盘和参考文献，有兴趣者可依此深入研究，为精准起见，在不影响理解的情况下，尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助，通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限，书中错误纰漏之处在所难免，本书若有不周之处，尚请读者不吝赐教。 %N8I'*u  
P#O"{+`  
)4g_S?l=  
6FB0g8  
目录 FZ-Wgh 0z  
Preface 1 qez
WfR`  
内容简介 2 pv]@}+<Dt  
目录 i xs"i_se  
1  引言 1 T)! }Wvv  
2  光学薄膜基础 2 ;8]HCC@:  
2.1  一般规则 2 PL
:(Se%  
2.2  正交入射规则 3 gT)(RS`_)  
2.3  斜入射规则 6 B"43o7C  
2.4  精确计算 7 S@qPf0dL<  
2.5  相干性 8 J}V4.R5d  
2.6 参考文献 10 "hyfo,r  
3  Essential Macleod的快速预览 10 cC*WZ]  
4  Essential Macleod的特点 32 8SjCU+V  
4.1  容量和局限性 33 EavBUX
$O  
4.2  程序在哪里？ 33 ;As~TGiT  
4.3  数据文件 35 v`S5[{6
 
4.4  设计规则 35 .}dLqw  
4.5  材料数据库和资料库 37 7Jb&~{
DVk  
4.5.1材料损失 38 [+[W\6
 
4.5.1材料数据库和导入材料 39 yX&# rI  
4.5.2 材料库 41 :w^:Z$-hf  
4.5.3导出材料数据 43 \]
x`f3F  
4.6  常用单位 43 LK h=jB^bT  
4.7  插值和外推法 46 0F$|`v"0  
4.8  材料数据的平滑 50 534pX7
dg  
4.9 更多光学常数模型 54  4!!|P  
4.10  文档的一般编辑规则 55 uz3cho'  
4.11 撤销和重做 56 QYA4C1h'  
4.12  设计文档 57 [<B,6nAl  
4.10.1  公式 58 :DH@zR  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 SzLlJUVX  
4.10.3  沉积密度 59 *"^X)Y{c+l  
4.10.4 平行和楔形介质 60 ]T
rJ*~  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 3U6QYD55]]  
4.10.4  性能 61 /E6)>y66  
4.10.5  保存设计和性能 64 11PL1zzH  
4.10.6  默认设计 64 %<yW(s9{  
4.11  图表 64 
KDN#CU  
4.11.1  合并曲线图 67 oIrc))j,$  
4.11.2  自适应绘制 68 kH 9k<{  
4.11.3  动态绘图 68 #hBqgG:>  
4.11.4  3D绘图 69 'M%iS4b{IM  
4.12  导入和导出 73 Zl5DlRuw  
4.12.1  剪贴板 73 h#zm+([B*  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 ZRhk2DA#FF  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 AG >D,6Y  
4.13  背景 77 ~vF*&^4Vh  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 H;=yR]E  
4.15  生成Rugate 84 hTBJ
\1 -  
4.16  参考文献 91 ;8H&FsR  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 u/tJ])~@  
5.1  Jobs 92 RrLiH>  
5.2  创建一个新Job（工作） 93 aMqt2{f+  
5.3  输入材料 94 9No6\{[M  
5.4  设计数据文件夹 95 c:${qY:!  
5.5  默认设计 95 (0`rfYv5.R  
6  细化和合成 97 Qe~C}j%  
6.1  优化介绍 97 *42KLns  
6.2  细化 (Refinement) 98 @#wG)TA  
6.3  合成 (Synthesis) 100 _3 !s{  
6.4  目标和评价函数 101 42`Uq[5Y  
6.4.1  目标输入 102 B)k/]vz)*D  
6.4.2  目标 103 f?.}S]u5  
6.4.3  特殊的评价函数 104 ccv  
6.5  层锁定和连接 104 0yjYjIk"T  
6.6  细化技术 104 %YxKWZ/?  
6.6.1  单纯形 105 Va[&~lA)  
6.6.1.1 单纯形参数 106 xgOt%7sb  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 z{.&sr>+v  
6.6.2.1 Optimac参数 108 KMT$/I{p,  
6.6.3  模拟退火算法 109 41R~.?  
6.6.3.1　模拟退火参数 109 qLBQ!>lR  
6.6.4  共轭梯度 111 65B&>`H~  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 dhLd2WSyH  
6.6.5  拟牛顿法 112 covCa)kf  
6.6.5.1 拟牛顿参数： 112 FUI/ A>  
6.6.6  针合成 113 L<  
6.6.6.1 针合成参数 114 s2sJJdN  
6.6.7 差分进化 114 D[T\_3W  
6.6.8非局部细化 115 .9DhD=8aIO  
6.6.8.1非局部细化参数 115 CS%ut-K<5M  
6.7  我应该使用哪种技术？ 116 j+.E#:tu"  
6.7.1 　细化 116 yJx,4be  
6.7.2　 合成 117  uvDOTRf  
6.8  参考文献 117 7\dt<VV  
7  导纳图及其他工具 118 w_@6!zm  
7.1  简介 118 C B;j[.  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 lyowH{.N"3  
7.2.1  四分之一波长规则 119 0>Kgz!I  
7.2.2  导纳图 120 6/a%%1c1  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 c7rC!v  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 pJ?y  
7.5  斜入射导纳图 141 Na\&}GSf^  
7.6  对称周期 141 p@$92> '  
7.7  参考文献 142 sVO|Ghy65  
8  典型的镀膜实例 143 R]Fa?uQW  
8.1  单层抗反射薄膜 145 .Sm 8t$  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 $7-4pW$y  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 <{V{2V#  
8.4  W-膜层 148 .ErR-p=-  
8.5  V-膜层 149 )x5w`N]lm  
8.6  V-膜层高折射基底 150 Y(JZP\Tf_N  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 j1JdG<n  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 ,[n=PJVw/  
8.9  四层抗反射薄膜 153 8v)Z/R-  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 V2Z
^W^  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 c:DV8'fT  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 %)}_OXWf:  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 uL-$^],  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 * se),CP!s  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 2$Z4 >!  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 ud(w0eX  
8.17  1/4波长堆栈 162 Lz-(1~o  
8.18  陷波滤波器 163 pfk)_;>,  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 voN,u>U  
8.20  褶皱 165 -z/>W+k  
8.21  消偏振分光器1 169 Dk~ JH9#  
8.22  消偏振分光器2 171 `yXHb  
8.23  消偏振立体分光器 172 K>+c2;
t;  
8.24  消偏振截止滤光片 173 N8wA">u  
8.25  立体偏振分束器1 174 o<S(ODOfi  
8.26  立方偏振分束器2 177 Xp^71A?>  
8.27  相位延迟器 178 Mc|UD*Z  
8.28  红外截止器 179 c5Hm94,p  
8.29  21层长波带通滤波器 180 h>Nu
Qo*  
8.30  49层长波带通滤波器 181 e=6C0fr  
8.31  55层短波带通滤波器 182 ^@maF<Jb  
8.32  47 红外截止器 183 _'r&'s;<z  
8.33  宽带通滤波器 184 9H%L;C5<  
8.34  诱导透射滤波器 186 :jWQev"/  
8.35  诱导透射滤波器2 188 ma2-66M~j  
8.36  简单密集型光波复用（DWDM）滤波器 190 DTV"~>@  
8.37  高级密集型光波复用技术（DWDM）滤波器 192 ^paM{'J\\)  
8.35  增益平坦滤波器 193 nrZZkQNI  
8.38  啁啾反射镜 1 196 9<!Ie^o?  
8.39  啁啾反射镜2 198 !vSj1w  
8.40  啁啾反射镜3 199 [%6"UH r  
8.41  带保护层的铝膜层 200 8z"*CJ@  
8.42  增加铝反射率膜 201 &14Er,K  
8.43  参考文献 202 xCiq;FFR  
9  多层膜 204 TqXB2`
7Ri  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 <bOi}  
9.2  内部透过率 204 w`K=J!5y2g  
9.3 内部透射率数据 205 [,ns/*f3R  
9.4  实例 206 g)~"-uQQ  
9.5  实例2 210 Y]{~ogsn$:  
9.6  圆锥和带宽计算 212 xrl!$xE GX  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 DlbNW& V  
10  光学薄膜的颜色 216 -]~vEfq+T  
10.1  导言 216 <@2g.+9  
10.2  色彩 216 niJtgK:H^  
10.3  主波长和纯度 220 <MBpV^Y}  
10.4  色相和纯度 221 qm=N@@R&  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 $4&e{fLt|v  
10.6 色差 226 \B~}s}  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 <2>Qr(bb  
10.8  颜色渲染指数 234 Z |CL:)h  
10.9  色差计算 235 =L&}&pT  
10.10  参考文献 236 Ves x$!F#  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 +(3U_]Lu  
11.1  短脉冲 238 .a`(?pPr,  
11.2  群速度 239 6Z3L=j  
11.3  群速度色散 241 ;/g Bjp]H  
11.4  啁啾(chirped) 245 f+Ht  
11.5  光学薄膜—相变 245 Gg=Y}S7:  
11.6  群延迟和延迟色散 246 a6i%7Om  
11.7  色度色散 246 1MnT*w  
11.8  色散补偿 249 bs=x
>F  
11.9  空间光线偏移 256 Sr?2~R0&  
11.10  参考文献 258 Wc qUF"A  
12  公差与误差 260 KN-)m ta&  
12.1  蒙特卡罗模型 260 [b6P }DW  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 Ryrvu1 k  
12.2.1  误差工具 267 ^
6(Nu|6\@  
12.2.2  灵敏度工具 271 48Z0aA~+  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 z->[:)c  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 U sS"WflB  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 a08`h.dyN  
12.3  参考文献 276 zLda&#+  
13  Runsheet 与Simulator 277 ic(`Ev  
13.1  原理介绍 277 ;Wu6f"+Y#  
13.2  截止滤光片设计 277 7dbGUbT  
14  光学常数提取 289 !m<v@SmL\  
14.1  介绍 289 J
cDcYB  
14.2  电介质薄膜 289 K{WLo5
HP  
14.3  n 和k 的提取工具 295 ,`O.0e4pn  
14.4  基底的参数提取 302 tlJ@@v&=  
14.5  金属的参数提取 306 Q'qz(G0  
14.6  不正确的模型 306 L6=`x
a,  
14.7  参考文献 311 T>2_r6;  
15  反演工程 313 L
aCVI  
15.1  随机性和系统性 313 K~ob]I<GiB  
15.2  常见的系统性问题 314 +#V.6i  
15.3  单层膜 314 zt|DHVy  
15.4  多层膜 314 oW \k%Vj  
15.5  含义 319 gJC~$/2  
15.6  反演工程实例 319 Ufr,6IX  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 U8
gf_R'  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 b>Em~NMu_  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 Z_.xglq{  
16.1  光学性质的热致偏移 329 ]5Mq^@mD'  
16.2  应力工具 335 f5ttQ&@FF  
16.3  均匀性误差 339
GI _.[  
16.3.1  圆锥工具 339 #l?E2 U4WL  
16.3.2  波前问题 341 #Li6RSeW  
16.4  参考文献 343 O-jpS?@  
17  如何在Function（模块）中编写操作数 345 l1I
\kh
S  
17.1  引言 345 [;RO=  
17.2  操作数 345 o;5ns  
18  如何在Function中编写脚本 351 \\UO
p
l  
18.1  简介 351 gql^Inx<  
18.2  什么是脚本？ 351 cWS 0B
$$  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 si=m5$V  
18.4  基础 352 2{;~Bgd  
18.4.1  Classes（类别） 352 DO{Lj#@  
18.4.2  对象 352 O=;}VZ<9  
18.4.3  信息（Messages） 352 ;5PBZ<w  
18.4.4  属性 352 RR9G$}WS(  
18.4.5  方法 353 nc/F@HCB  
18.4.6  变量声明 353 dlJc~|  
18.5  创建对象 354 eWWt
Mnq  
18.5.1  创建对象函数 355 F+Q(^Nk  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 Sxzt|{  
18.5.3 丢弃对象 356 eRm 9LOp  
18.5.4  总结 356 yYN_]&ag  
18.6  脚本中的表格 357 iwx*mC{|A  
18.6.1  方法1 357 ~lH_d[  
18.6.2  方法2 357 mP[ZlS~"  
18.7 2D Plots in Scripts 358 6h9Hf$'  
18.8 3D Plots in Scripts 359 ;&i4QAo-  
18.9  注释 360 jWNF3\  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360  ;U<}2M!g  
18.11  一个更高级的脚本 362 f)#rBAkt  
18.12  <esc>键 364 bTepTWv  
18.13 包含文件 365 GX0S9s  
18.14  脚本被优化调用 366 8ZL9>"%l  
18.15  脚本中的对话框 368 f{+n$Cos  
18.15.1  介绍 368 _oAWj]~rO  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 =s/UF_JN  
18.15.3  输入框函数 370 ?w5>Z/V  
18.15.4  自定义对话框 371 ={[9kR i  
18.15.5  对话框编辑器 371 Tx:S{n7&  
18.15.6  控制对话框 377 Gk-49|qIV  
18.15.7  更高级的对话框 380 Z%$tV3a?  
18.16 Types语句 384 GMOnp$@H^s  
18.17 打开文件 385 )PCh;P0C  
18.18 Bags 387 7v]9) W=y  
18.13  进一步研究 388 Q nmv?YXS  
19  vStack 389 zr@HYl  
19.1  vStack基本原理 389 D&*'|}RZ  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 B x-"<^<  
19.3  五棱镜 393 F~;UD<<"H  
19.4 光束距离 396 6BH P#B2j  
19.5 误差 399 oxZXY]$y
 
19.6  二向分色棱镜 399 HA`qU  
19.7  偏振泄漏 404 G/4~_\YMq  
19.8  波前误差—相位 405 #M@Ki1  
19.9  其它计算参数 405 0'zX6%  
20  报表生成器 406 eJ+@<+vr;x  
20.1  入门 406 L=9^Y/8Q  
20.2  指令(Instructions) 406 n7VQi+i'  
20.3  页面布局指令 406 T%O2=h\} E  
20.4  常见的参数图和三维图 407 2#)z%K6T  
20.5  表格中的常见参数 408 gn)>(MG  
20.6  迭代指令 408 " 3tk"#.#  
20.7  报表模版 408 ,-`A6ehg  
20.8  开始设计一个报表模版 409 fjh,e  
21  一个新的project 413 nxhn|v  
21.1  创建一个新Job 414 jUGk=/*]e  
21.2  默认设计 415 Gc,6;!+(  
21.3  薄膜设计 416 A Qm!7,  
21.4  误差的灵敏度计算 420 'Rq2x-72}  
21.5  显色指数计算 422 N}CeQ'l[R  
21.6  电场分布 424 Pq3m(+gf  
后记 426 nA#N,^Rr  
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书籍名称：《Essential Macleod中文手册》 s`I]>e  
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《Essential Macleod中文手册》 O#n=mJ  
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目  录 XOT|:  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 /Y0oA3am  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 -(JBgM"  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 kK_9I (7c  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 UH`cWVLpr  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 a_(T9pr  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 <%"o-xZq7C  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 Lk2;\D>  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 qQp;i{X  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 IN?6~O p  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 e)f!2'LL  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 bBY7^k  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 SQ-CdpT<  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 Dio)orc  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 :!L>_ f  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 %*];XpAE  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 &f-x+y  
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价  格：400元