[培训]上海｜薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25（三）-27日（五） [复制链接]

特邀专家介绍 k{lo'  
Te~jYkCd  
易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，研究生导师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 5%(whSKZF  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 7P}l^WX  
随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 p7Zeudmj  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 Ws1|idAT  
1. Essential Macleod软件介绍 =liyd74%`  
1.1 介绍软件 V`LE 'E  
1.2 创建一个简单的设计 |v@_~HV
 
1.3 绘图和制表来表示性能 v;G/8>GRy  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 6Iv};f"Y  
1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） IKnf  
1.6 特定设计的公式技术 OmZZTeGg1s  
1.7 交互式绘图 X]2Ib'(  
2. 光学薄膜理论基础 UMBeY[?  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 U&:-Vf~&  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 l{.PyU5)  
3. 材料管理 ~,};FI  
3.1 材料模型
.#Z'CZO|  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 #K@!jh)y^  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 I4w``""c  
3.4 基板光学常数的提取 lul  
4. 光学薄膜设计优化方法 ^`dMjeF  
4.1 参考波长与g 4clCZ@\K^  
4.2 四分之一规则 .t>SbGC  
4.3 导纳与导纳图 YGM7?o  
4.4 斜入射光学导纳 3hBYx@jTO  
4.5 光学薄膜设计的进展 NX(IX6^y  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 Gs|a$^V|o  
4.6.1 优化目标设置 Gw-{`<CxE  
4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法） i !sVQ(:  
4.6.3 膜层锁定和链接 F?MVQ!K*  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 ? eI)m  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 u81F^72U  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 y]obO|AH  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 K%BFR,)g  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 G.iQ\'1_h  
5.5 如何在Function中编写脚本 5>CeFy  
6. 光学薄膜系统案例 _C1u}1hW#  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 ^-s7>F`jx  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 &WAU[{4W  
6.3 Stack应用范例说明 i=>`=. ~  
7. 薄膜性能分析 5syzh S  
7.1 电场分布 ?wmu
0rR  
7.2 公差与灵敏度分析 ZJGIib  
7.3 反演工程 R6>*n!*D@  
7.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真 xDekC~Zq  
8. 真空技术 H3d|eO4+W  
8.1 常用真空泵介绍 SJj_e-  
8.2 真空密封和检漏 _}']h^@Z  
9. 薄膜制备技术 d/3&3>/  
9.1 常见薄膜制备技术 2fc+PE  
10. 薄膜制备工艺 _f "I%QTL  
10.1 薄膜制备工艺因素 v[x 5@$  
10.2 薄膜均匀性修正技术 n31nORx50  
10.3 光学薄膜监控技术 F{7 BY~d  
11. 激光薄膜 hhylsm  
11.1 薄膜的损伤问题 Ebi~gGo  
11.2 激光薄膜的制备流程 ;9=4]YZt  
11.3 激光薄膜的制备技术 P??pWzb6HH  
12. 光学薄膜特性测量 >[T6/#M  
12.1 薄膜光谱测量 5qqU8I  
12.2 薄膜光学常数测量 w8>bct3@  
12.3 薄膜应力测量 PiR`4Tu  
12.4 薄膜损伤测量 B@\0b|  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析内容简介 WYCDEoqU2  
Macleod软件自带的用户手册功能全面，其介绍涵盖了软件的方方面面，能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而，为了顺应目前薄膜行业的需求，急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍，以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作，因此，我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 hdM?Uoo(4a  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（原著第二版）是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结，结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod，其内容丰富，实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法，还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题，如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节，首先，从光学薄膜的基本理论出发（第2章），为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次，在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作，以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后，从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合，从而使大家将理论知识与实际经验结合起来，对实际镀膜提出实用的建议，以减少设计时间并降低生产成本。 biffBC:q  
薄膜光学涵盖范围很广，书中并附设计光盘和参考文献，有兴趣者可依此深入研究，为精准起见，在不影响理解的情况下，尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助，通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限，书中错误纰漏之处在所难免，本书若有不周之处，尚请读者不吝赐教。 P:XX8&#  
r[j@@[)"  
T%}x%9VO7  
,<OS:]  
目录 G
Wj !n  
Preface 1 ^MT20pL  
内容简介 2 .:;q8FL/  
目录 i &\/}.rF  
1  引言 1 hE2{m{^A  
2  光学薄膜基础 2 K~5(j{Kb8  
2.1  一般规则 2 MI8c>5?  
2.2  正交入射规则 3 ?PB}2*R  
2.3  斜入射规则 6 \jkDRR[  
2.4  精确计算 7 c1f`?i}.  
2.5  相干性 8 'xM\txZ;  
2.6 参考文献 10 @ eP[*Q  
3  Essential Macleod的快速预览 10 )GC[xo4bg  
4  Essential Macleod的特点 32 6XVJ/q
Z  
4.1  容量和局限性 33 "rQ?2?  
4.2  程序在哪里？ 33 :J5CmU$  
4.3  数据文件 35 ooYs0/,{  
4.4  设计规则 35 oX/#Mct{s  
4.5  材料数据库和资料库 37 /dVcNo3"  
4.5.1材料损失 38 etP`q:6^c  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 0R,Y[).U  
4.5.2 材料库 41 [vCZD8"Y8  
4.5.3导出材料数据 43 zjx'nK{eI  
4.6  常用单位 43 xoE,3Sn  
4.7  插值和外推法 46 +n8,=}  
4.8  材料数据的平滑 50 LA837%)  
4.9 更多光学常数模型 54 90$`AMR  
4.10  文档的一般编辑规则 55 ]b&
qC (  
4.11 撤销和重做 56 <,T#* fg  
4.12  设计文档 57 MS%h`Ypo  
4.10.1  公式 58 UFa00t^5  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 kca  Y  
4.10.3  沉积密度 59 pC)S
9Kl  
4.10.4 平行和楔形介质 60 gJZ9XLPC  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 FkoN+\d  
4.10.4  性能 61 _P]k6z+  
4.10.5  保存设计和性能 64 =Sn!'@%U]  
4.10.6  默认设计 64 v#KE"m  
4.11  图表 64 Aa%ks+1  
4.11.1  合并曲线图 67 SRk-3:  
4.11.2  自适应绘制 68 kI$X~s$r  
4.11.3  动态绘图 68 W&a<Q)o*I  
4.11.4  3D绘图 69 zhde1JE  
4.12  导入和导出 73 &$NVEmW-J  
4.12.1  剪贴板 73 9hs7B!3pc>  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 7Rom#Kl:  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 RFm9dHI27  
4.13  背景 77 KfNR)  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 +f?xVW<h  
4.15  生成Rugate 84 L_7-y92<W  
4.16  参考文献 91 ~7=w,+  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 V|dKKb[Lve  
5.1  Jobs 92 = P{]3K  
5.2  创建一个新Job（工作） 93 N+ R/ti  
5.3  输入材料 94 YJrZ  
5.4  设计数据文件夹 95 ='
r4zz  
5.5  默认设计 95 W*|U  
6  细化和合成 97 %(wa~:m+S-  
6.1  优化介绍 97 {mV,bg,}~  
6.2  细化 (Refinement) 98 y#;@~S1W  
6.3  合成 (Synthesis) 100 #9Dixsl*Q  
6.4  目标和评价函数 101 xo_Es?  
6.4.1  目标输入 102 /!0{9F<  
6.4.2  目标 103 X'>]z'0W  
6.4.3  特殊的评价函数 104 <%rG*vzi  
6.5  层锁定和连接 104 o%tvwv  
6.6  细化技术 104 u7<s_M3%N  
6.6.1  单纯形 105 [&FWR  
6.6.1.1 单纯形参数 106 Kth^WHL  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 }mw31=2bD  
6.6.2.1 Optimac参数 108 ~A=Z/46*Z  
6.6.3  模拟退火算法 109 P/FO,S-V  
6.6.3.1　模拟退火参数 109 jW+L0RkX  
6.6.4  共轭梯度 111 L$FLQyDR  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 cB7=4:U  
6.6.5  拟牛顿法 112 Iih~rWJ  
6.6.5.1 拟牛顿参数： 112 &wZ:$lK#o  
6.6.6  针合成 113 5lC"10  
6.6.6.1 针合成参数 114 KArnNmJ9  
6.6.7 差分进化 114 aOj5b>>  
6.6.8非局部细化 115 qN_jsJ  
6.6.8.1非局部细化参数 115 z|SLH<~  
6.7  我应该使用哪种技术？ 116 scUWI"  
6.7.1 　细化 116 KdOy3O_5N  
6.7.2　 合成 117 ]E)gMf   
6.8  参考文献 117 8a1G0HRQ  
7  导纳图及其他工具 118 ,Tyh._sa  
7.1  简介 118 %-:6#bz  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 _dq.hW7  
7.2.1  四分之一波长规则 119 !W8'apG&[  
7.2.2  导纳图 120 kqA`
d  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 Os1(28rl  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 _A\c 6#  
7.5  斜入射导纳图 141 E-irB/0  
7.6  对称周期 141 @&2bLJJ+  
7.7  参考文献 142 z6R<*$4  
8  典型的镀膜实例 143 R '/Ilz`  
8.1  单层抗反射薄膜 145 YXa^jFp  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 @$;"nVZ4v  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 ^r$P&}Z\b  
8.4  W-膜层 148 e p;_'  
8.5  V-膜层 149 C(_xqn  
8.6  V-膜层高折射基底 150 H6*d#!  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 y4Plm.  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 810u+%fu  
8.9  四层抗反射薄膜 153 VHB5
 
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 /W/ =OPe  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 Wel-a< e  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 ,y?0Iwf  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 .t0Q>:}&b  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 jO$3>q  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 ?E2/ CM  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 +B
%ZB9  
8.17  1/4波长堆栈 162 [*#ms=Zdc  
8.18  陷波滤波器 163 [:sV;37s  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 )}7rM6hv  
8.20  褶皱 165 p}}o#a~V),  
8.21  消偏振分光器1 169 kL,AY-Iu{@  
8.22  消偏振分光器2 171 &B7X LO[  
8.23  消偏振立体分光器 172 HkEfBQmh  
8.24  消偏振截止滤光片 173 {cKKTDN  
8.25  立体偏振分束器1 174 TgVvp0F;  
8.26  立方偏振分束器2 177 o|AV2FM)  
8.27  相位延迟器 178 $ T.c>13  
8.28  红外截止器 179 Yyby 1  
8.29  21层长波带通滤波器 180 N'
!a{rF  
8.30  49层长波带通滤波器 181 -}{c;pT  
8.31  55层短波带通滤波器 182 z6b
!,lp  
8.32  47 红外截止器 183 {(AYs*5  
8.33  宽带通滤波器 184 u-At k-2M  
8.34  诱导透射滤波器 186 Y_)!U`>N?  
8.35  诱导透射滤波器2 188 ,Rk
;*MEMJ  
8.36  简单密集型光波复用（DWDM）滤波器 190 !,PG!Gnl  
8.37  高级密集型光波复用技术（DWDM）滤波器 192 O!kBp(?]  
8.35  增益平坦滤波器 193 Qhsh{muw(  
8.38  啁啾反射镜 1 196 ?x"<0k1g  
8.39  啁啾反射镜2 198 @%fNB,H`
 
8.40  啁啾反射镜3 199 diGPTV-?$  
8.41  带保护层的铝膜层 200 6fQNF22E  
8.42  增加铝反射率膜 201 3Qfj=; 4  
8.43  参考文献 202 [GX5jD#  
9  多层膜 204 vu;pILN  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 a8FC#kfq  
9.2  内部透过率 204 <|~X,g;f  
9.3 内部透射率数据 205  [ K;3Qf)  
9.4  实例 206 B_anO{3$4  
9.5  实例2 210 $uF}GP_)  
9.6  圆锥和带宽计算 212 34Q l7LQp[  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 lphQZ{8  
10  光学薄膜的颜色 216 r:2G11[  
10.1  导言 216 +HQX]t:Y  
10.2  色彩 216 (2Z-NVU#  
10.3  主波长和纯度 220 %:sQ[^0  
10.4  色相和纯度 221 Tf)qd\  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 x-,+skZs  
10.6 色差 226 9"
KEHf!  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 r'#5ncB  
10.8  颜色渲染指数 234 Q}2aBU.
f  
10.9  色差计算 235 Wqy|Y*$qT  
10.10  参考文献 236 &xo,49`!  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 ^+^#KC8]W  
11.1  短脉冲 238 Fx*iAH\e  
11.2  群速度 239 >}%  
11.3  群速度色散 241 1WRQjT=o  
11.4  啁啾(chirped) 245 *Fb]lM7D  
11.5  光学薄膜—相变 245 j BS$xW  
11.6  群延迟和延迟色散 246 {M96jjiInf  
11.7  色度色散 246 +] >o@  
11.8  色散补偿 249 D |kdk;Xv  
11.9  空间光线偏移 256 oW3j|V  
11.10  参考文献 258 s4/4o_[W  
12  公差与误差 260 _8Cw_  
12.1  蒙特卡罗模型 260 FCnOvF65  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 9&}$C]`  
12.2.1  误差工具 267 X?&(i s  
12.2.2  灵敏度工具 271 ]KdSwIbi  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 j\iE3:94$  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 GKTt!MK  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 uT:'Kkb!  
12.3  参考文献 276 n]^zIe^6  
13  Runsheet 与Simulator 277 SEa'>UG  
13.1  原理介绍 277 Fcz7   
13.2  截止滤光片设计 277 7yM=$"'d  
14  光学常数提取 289 oJb${k<3  
14.1  介绍 289 )voJq\Y)%  
14.2  电介质薄膜 289 Is1P,`*!  
14.3  n 和k 的提取工具 295 <ZO"0oz%  
14.4  基底的参数提取 302 /.P9n9  
14.5  金属的参数提取 306 `Y>'*4a\  
14.6  不正确的模型 306 Z0HfrK#oU  
14.7  参考文献 311 blO(Th&  
15  反演工程 313 R8LJC]6Bh  
15.1  随机性和系统性 313 Cw6\'p%l-\  
15.2  常见的系统性问题 314 @oE^(  
15.3  单层膜 314 (7Su{tq  
15.4  多层膜 314 M3 MB{cA2  
15.5  含义 319 q@k/"ee*?  
15.6  反演工程实例 319 3L}eFg,d  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 *-uA\  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 q:h7Jik  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 U )kl!  
16.1  光学性质的热致偏移 329 LCBP9Rftvd  
16.2  应力工具 335 6S K;1Bp-{  
16.3  均匀性误差 339 U'~M(9uv:  
16.3.1  圆锥工具 339 _L?MYkD  
16.3.2  波前问题 341 j.=&qYc0"  
16.4  参考文献 343 r@")MOGc  
17  如何在Function（模块）中编写操作数 345 HiAj3  
17.1  引言 345 C
kd j|  
17.2  操作数 345 WH|TdU$V  
18  如何在Function中编写脚本 351 jW]Q-  
18.1  简介 351 3dO~Na`S  
18.2  什么是脚本？ 351 ;]v{3m  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 uuHg=8(  
18.4  基础 352 &/dYJv$[9  
18.4.1  Classes（类别） 352 U{1%ldOJ%  
18.4.2  对象 352 75v7w  
18.4.3  信息（Messages） 352 F*u"LTH  
18.4.4  属性 352 (KG2X  
18.4.5  方法 353 ?D>%+rK8c  
18.4.6  变量声明 353 ^^ >j2=  
18.5  创建对象 354 1t+uMhy*y  
18.5.1  创建对象函数 355 /{6&99SJcc  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 1S[4@rZ  
18.5.3 丢弃对象 356 \_io:{M  
18.5.4  总结 356 Q|KD$2rB  
18.6  脚本中的表格 357 r+=%Ag  
18.6.1  方法1 357 )6U6~!k  
18.6.2  方法2 357 /1@py
~ZX  
18.7 2D Plots in Scripts 358 ^8.s"4{  
18.8 3D Plots in Scripts 359 M!i["($_  
18.9  注释 360 xA
wP  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 #W$6[#7=I  
18.11  一个更高级的脚本 362 G*s5GG@Z.  
18.12  <esc>键 364 -%fc)y&$  
18.13 包含文件 365 /,d]`N!  
18.14  脚本被优化调用 366 @`mr|-Rp@  
18.15  脚本中的对话框 368 N)X3pWC8  
18.15.1  介绍 368 !LR9}Xon  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 >O]u4G!  
18.15.3  输入框函数 370 *""iX
i[  
18.15.4  自定义对话框 371 mX2X.ww(4  
18.15.5  对话框编辑器 371 &3Y"Zd!  
18.15.6  控制对话框 377 -6W$@,K  
18.15.7  更高级的对话框 380 zK_Q^M`  
18.16 Types语句 384 HXm
&`  
18.17 打开文件 385 (N6=+dNY  
18.18 Bags 387 |zbM$37?k  
18.13  进一步研究 388 %OJ"@6A  
19  vStack 389 bblEZ%  
19.1  vStack基本原理 389 'QSj-  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 &>n:7  
19.3  五棱镜 393 5X PoQ^  
19.4 光束距离 396 \J(kevX  
19.5 误差 399 8\F|{vt#  
19.6  二向分色棱镜 399 h[bC#(  
19.7  偏振泄漏 404 g-pEt#  
19.8  波前误差—相位 405 -G[TlH06  
19.9  其它计算参数 405 {3T&6LA  
20  报表生成器 406 }0[<xo>K  
20.1  入门 406 vs^)=  
20.2  指令(Instructions) 406 !k<k]^Z\  
20.3  页面布局指令 406 q*K[?  
20.4  常见的参数图和三维图 407 zr ~4@JTS  
20.5  表格中的常见参数 408 #/"Tb^c9  
20.6  迭代指令 408 ug_c}Nv=Y  
20.7  报表模版 408 B='(0Uxy-  
20.8  开始设计一个报表模版 409 Alv"D  
21  一个新的project 413 !5qV}5  
21.1  创建一个新Job 414 O]XgA0]  
21.2  默认设计 415 tUksIUYD\  
21.3  薄膜设计 416 |H(i)yu"5'  
21.4  误差的灵敏度计算 420 _'|C-j`u$  
21.5  显色指数计算 422 x"7PnN|~  
21.6  电场分布 424 a51}~V1  
后记 426 )EK\3q  
4d_Az'7`4  
HXN. ,[  
书籍名称：《Essential Macleod中文手册》 33ZHrZ  
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《Essential Macleod中文手册》 g)ofAG2  
@X2zIFm  
目  录 9!PM1<p  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 l1.eAs5U  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 _}gfec4o  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 zjTCq; G  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 nf-6[dg  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 )8taMC:H^  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 9e7):ZupO  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 _&N:%;9uD  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 }R~C<3u\2  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 </B:Zjn  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 5s%FHa  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 ac,<+y7A  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 o4^#W;%w  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 )h]tKYx  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 sZwa#CQKq  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 YkQ=rurE  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 -M+o;  
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价  格：400元