[培训]上海｜薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25（三）-27日（五） [复制链接]

特邀专家介绍 hQLh}}B  

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W C3b_ia  
易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，研究生导师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 oI9-jW  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 U/:x<Y$ tj  
随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 fj[tm  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 0hX@ta[Up  
1. Essential Macleod软件介绍 .KxE>lJbqM  
1.1 介绍软件 fVxRK\a\\  
1.2 创建一个简单的设计 l`vr({A  
1.3 绘图和制表来表示性能 C/!8NV1:4  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 y5:al7*P  
1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） n$jf(
$*  
1.6 特定设计的公式技术 )}SiM{g  
1.7 交互式绘图 *Bx'g| u  
2. 光学薄膜理论基础 &:Sb$+z  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 jIL$hqo  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 ;aUI3n%  
3. 材料管理 UdX aC= Q  
3.1 材料模型 ;/ao3Q  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 ,E8~^\HV  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 k?'PCV  
3.4 基板光学常数的提取 9Jp"E5Ql)  
4. 光学薄膜设计优化方法 uT{.\qHo  
4.1 参考波长与g 6T=zHFf~  
4.2 四分之一规则 KDy:A>_ G"  
4.3 导纳与导纳图 Vr<ypyC  
4.4 斜入射光学导纳 Mta;
6<  
4.5 光学薄膜设计的进展 C6wlRvWn  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 TkV$h(#!f&  
4.6.1 优化目标设置 gb@ |\n  
4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法） .@;,'Xw1~  
4.6.3 膜层锁定和链接 Nx"v|"  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 5A*'@Fr'G  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 ^p!bteA>  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 -~ycr[}x  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 |h65[9DMP  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 m7~[f7U  
5.5 如何在Function中编写脚本 9TILrK  
6. 光学薄膜系统案例 s\i.pd:Q  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 QtsyMm  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 Ss{  
6.3 Stack应用范例说明 Eb=;D1)y]  
7. 薄膜性能分析 }V %b  
7.1 电场分布 4C_-MJI  
7.2 公差与灵敏度分析 5s2334G  
7.3 反演工程 cP MUu9du  
7.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真 B^G{k3]t  
8. 真空技术 ld*RL:G  
8.1 常用真空泵介绍 @OPyT  
8.2 真空密封和检漏 QZ54Osdl  
9. 薄膜制备技术 to*<W,I  
9.1 常见薄膜制备技术 rKys:is  
10. 薄膜制备工艺 xj!_]XJ^w  
10.1 薄膜制备工艺因素 5PlTf?Ao  
10.2 薄膜均匀性修正技术 6">jf #pE  
10.3 光学薄膜监控技术 c~UYs\  
11. 激光薄膜 RU'DUf  
11.1 薄膜的损伤问题 4c=oAL  
11.2 激光薄膜的制备流程 !j.jvI%e;  
11.3 激光薄膜的制备技术 E5 0$y:  
12. 光学薄膜特性测量 P'6(HT>F?  
12.1 薄膜光谱测量 /< CjBW:
 
12.2 薄膜光学常数测量 GcPhT  
12.3 薄膜应力测量  <XxFR  
12.4 薄膜损伤测量 >AW=N  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析内容简介 M('cG  
Macleod软件自带的用户手册功能全面，其介绍涵盖了软件的方方面面，能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而，为了顺应目前薄膜行业的需求，急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍，以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作，因此，我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 S:"t]gbF =  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（原著第二版）是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结，结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod，其内容丰富，实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法，还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题，如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节，首先，从光学薄膜的基本理论出发（第2章），为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次，在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作，以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后，从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合，从而使大家将理论知识与实际经验结合起来，对实际镀膜提出实用的建议，以减少设计时间并降低生产成本。 +xlxhF  
薄膜光学涵盖范围很广，书中并附设计光盘和参考文献，有兴趣者可依此深入研究，为精准起见，在不影响理解的情况下，尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助，通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限，书中错误纰漏之处在所难免，本书若有不周之处，尚请读者不吝赐教。 w{"GA~=  
{q:o}<-L+  
0Fh*8a}?b  
(d
F4F4`{  
目录 M
r(~ *  
Preface 1 B"I>mw  
内容简介 2 xW,(d5RtZ  
目录 i VBssn]w  
1  引言 1 ZCMB]bL-e  
2  光学薄膜基础 2 _ QM  
2.1  一般规则 2 tH"SOGfSt  
2.2  正交入射规则 3 v=|BqG`  
2.3  斜入射规则 6 GJItGq`)  
2.4  精确计算 7 %6"b< MAO  
2.5  相干性 8 5b[:B~J  
2.6 参考文献 10 V|.aud=7z  
3  Essential Macleod的快速预览 10
v|Tg %  
4  Essential Macleod的特点 32 GfU+'k;9  
4.1  容量和局限性 33 5@Q4[+5&_  
4.2  程序在哪里？ 33 %f&(U/  
4.3  数据文件 35 @:xO5L}Io  
4.4  设计规则 35 WJU` g  
4.5  材料数据库和资料库 37 ;NRT a*  
4.5.1材料损失 38 zux+ooU  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 7`tnoTUv  
4.5.2 材料库 41 -i'T!Qg1  
4.5.3导出材料数据 43 Q[p0bD
:  
4.6  常用单位 43 xIrpGLPSh  
4.7  插值和外推法 46 h ;5 -X7  
4.8  材料数据的平滑 50 EBM\p+x&  
4.9 更多光学常数模型 54 %~ecrQ;  
4.10  文档的一般编辑规则 55 @6$r|:]G-  
4.11 撤销和重做 56 -H`G6oMOO  
4.12  设计文档 57 $_Qo  
4.10.1  公式 58 _:'m/K3Ee  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 Oyq<y~}  
4.10.3  沉积密度 59 S/d})8~.  
4.10.4 平行和楔形介质 60 G"TPu_g  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 n/8Kb.Vf  
4.10.4  性能 61 0 $e;#}  
4.10.5  保存设计和性能 64 <'~8mV1  
4.10.6  默认设计 64 n/@/yJ<EFi  
4.11  图表 64 B;;D(NH  
4.11.1  合并曲线图 67 0v0Y( Mo@  
4.11.2  自适应绘制 68 &F'v_9  
4.11.3  动态绘图 68 OqBw&zm  
4.11.4  3D绘图 69 :/%Vpdd@  
4.12  导入和导出 73 oAyk  
4.12.1  剪贴板 73 7^iF,
N  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 X_'.@q<!CV  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 ITc/aX  
4.13  背景 77 sD{b0mZT  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 o@LjSQ5!  
4.15  生成Rugate 84 N`Bt|#R
  
4.16  参考文献 91 "}SERC7  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 4rM77Uw>  
5.1  Jobs 92 % C 3jxt  
5.2  创建一个新Job（工作） 93 }7=a,1T  
5.3  输入材料 94 ZVp\5V*  
5.4  设计数据文件夹 95 GPR`=]n& &  
5.5  默认设计 95 @L<[38  
6  细化和合成 97 {sm={q  
6.1  优化介绍 97 Y[~6f,?^  
6.2  细化 (Refinement) 98 RaU.yCYyu  
6.3  合成 (Synthesis) 100 8nnkv,wa  
6.4  目标和评价函数 101 m]-8?B1`Y  
6.4.1  目标输入 102 Yn<0D|S;X  
6.4.2  目标 103 D8?$Fn=  
6.4.3  特殊的评价函数 104 Q"hI!PO+  
6.5  层锁定和连接 104 Q5,@P?  
6.6  细化技术 104 (FjgnsW  
6.6.1  单纯形 105 zi?'3T%Ie  
6.6.1.1 单纯形参数 106 n~&R_"mv(  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 rd,mbH[<C  
6.6.2.1 Optimac参数 108 /a$+EQ$  
6.6.3  模拟退火算法 109 Tc88U8Gc  
6.6.3.1　模拟退火参数 109 4[J3HLQ  
6.6.4  共轭梯度 111 2 !;4mij,  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 ;n;^f&;sJ  
6.6.5  拟牛顿法 112 68HX,t  
6.6.5.1 拟牛顿参数： 112 \PLV]%3,  
6.6.6  针合成 113 9>i6oF]Oq  
6.6.6.1 针合成参数 114 $k`8Zx w  
6.6.7 差分进化 114 7 YK+TGmU^  
6.6.8非局部细化 115 T?\CAk>  
6.6.8.1非局部细化参数 115 m|]^f;7z  
6.7  我应该使用哪种技术？ 116 GcU/  
6.7.1 　细化 116 @l(Y6m|v\  
6.7.2　 合成 117 'd t}i<  
6.8  参考文献 117 O h"^  
7  导纳图及其他工具 118 R&4E7wrdP  
7.1  简介 118 ]Qu12Wg}P  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 H*\[:tPa  
7.2.1  四分之一波长规则 119 q~^:S~q  
7.2.2  导纳图 120 fiZv+R<x1  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 OpL6Y+<  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 + kF[Oh#  
7.5  斜入射导纳图 141 Wl#^Eu\g1W  
7.6  对称周期 141 {cv;S2  
7.7  参考文献 142 c}QJ-I  
8  典型的镀膜实例 143 ^J RTi'v  
8.1  单层抗反射薄膜 145 UeICn@)\y  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 v)d0MxSC  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 !X8UP{J)L  
8.4  W-膜层 148 m@,>d_|-K-  
8.5  V-膜层 149 tbPPI)lu  
8.6  V-膜层高折射基底 150 $dnHUBB  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 u.[JYZ  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 q],R6GcVr  
8.9  四层抗反射薄膜 153 5HbTgNI  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 ,\M_q">npc  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 Q'a N|^w"f  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 od}x7RI%m  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 u W|x)g11a  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 U]D.z}0  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 "<2bjy  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 >Y+KL  
8.17  1/4波长堆栈 162 *_QHtZG  
8.18  陷波滤波器 163 z`5I1#PVA  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 ,jnRt%W  
8.20  褶皱 165 /a(zLHyz)  
8.21  消偏振分光器1 169 i/J NG  
8.22  消偏振分光器2 171 LgNNtZ&F  
8.23  消偏振立体分光器 172 be/1-=m  
8.24  消偏振截止滤光片 173  7q:bBS  
8.25  立体偏振分束器1 174 N1!5J
(V4  
8.26  立方偏振分束器2 177 >>bYg  
8.27  相位延迟器 178 5dp#\J@  
8.28  红外截止器 179 @c!67Z  
8.29  21层长波带通滤波器 180 J3x7i8  
8.30  49层长波带通滤波器 181 #P-HV  
8.31  55层短波带通滤波器 182 h<K;VpL6  
8.32  47 红外截止器 183 JYr7;n'!  
8.33  宽带通滤波器 184 'c[LTpn4=  
8.34  诱导透射滤波器 186 j_yFH#^W:  
8.35  诱导透射滤波器2 188 `Y\/US70{c  
8.36  简单密集型光波复用（DWDM）滤波器 190 I|IlFu?O=  
8.37  高级密集型光波复用技术（DWDM）滤波器 192 $M`;."
 
8.35  增益平坦滤波器 193 $cOD6Xr)d  
8.38  啁啾反射镜 1 196 <u?hdwW\  
8.39  啁啾反射镜2 198 YB{E=\~  
8.40  啁啾反射镜3 199 >ij4z N  
8.41  带保护层的铝膜层 200 $JB:rozE  
8.42  增加铝反射率膜 201 _Af4ct;ng  
8.43  参考文献 202 ,A!e
"=HF  
9  多层膜 204 pmyM&'#Id  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 4<g72| y  
9.2  内部透过率 204 ~fp+@j-A  
9.3 内部透射率数据 205 'D"K`Vw  
9.4  实例 206 !;*2*WuO;  
9.5  实例2 210 U9o*6`"o  
9.6  圆锥和带宽计算 212 m90R8 V  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 eH!|MHe  
10  光学薄膜的颜色 216 bus=LAJt=  
10.1  导言 216 K2rS[Kdfaq  
10.2  色彩 216 7oe@bS/Z  
10.3  主波长和纯度 220 x\hn;i<  
10.4  色相和纯度 221 z){UuiUM+=  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 ).!14Gjo  
10.6 色差 226 <Ihed|  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 8*#][wC2  
10.8  颜色渲染指数 234 : |*,Lwvd  
10.9  色差计算 235 LEngZ~sV/  
10.10  参考文献 236 Eb[H3v48,  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 /^33 e+j  
11.1  短脉冲 238 <oaBh)=7  
11.2  群速度 239 5652'p  
11.3  群速度色散 241 inv{dg/2  
11.4  啁啾(chirped) 245 +Q!xEfpO;  
11.5  光学薄膜—相变 245 y[WYH5&DJ  
11.6  群延迟和延迟色散 246 TnBGMI,g'  
11.7  色度色散 246 iRwW>a3/  
11.8  色散补偿 249 Rf(x^J{  
11.9  空间光线偏移 256 ,o>pmaoLs  
11.10  参考文献 258 DET!br'z5  
12  公差与误差 260 'Tf#S@o  
12.1  蒙特卡罗模型 260 5-5(`OZ{'  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 UE,~_hp  
12.2.1  误差工具 267 )|h;J4V  
12.2.2  灵敏度工具 271 BdoC6H  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 T3t~=b>&L  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 LB*#  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 /yw\(|T  
12.3  参考文献 276 t6%xit+  
13  Runsheet 与Simulator 277 aBVEk2 p  
13.1  原理介绍 277 C|d!'"p  
13.2  截止滤光片设计 277 tD~PvUJ  
14  光学常数提取 289 svq9@!go  
14.1  介绍 289 K]pKe"M  
14.2  电介质薄膜 289 $|cp;~ 1  
14.3  n 和k 的提取工具 295 R3{*v =ov  
14.4  基底的参数提取 302 9{UP)17  
14.5  金属的参数提取 306 'q};L6  
14.6  不正确的模型 306 X|1_0  
14.7  参考文献 311 H8<7#
 
15  反演工程 313 gLxT6v5wk.  
15.1  随机性和系统性 313 J'\eS./w|  
15.2  常见的系统性问题 314 b?2X>QJ  
15.3  单层膜 314 lGnql1(  
15.4  多层膜 314 Q 9gFTLQ  
15.5  含义 319 yrE,,N%I  
15.6  反演工程实例 319  ny  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 V:F+HM
Bk  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 tgvpf/cQ  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 S1az3VJI\  
16.1  光学性质的热致偏移 329 o3i,B),K  
16.2  应力工具 335 L VU)W^  
16.3  均匀性误差 339 -l40)^ E}  
16.3.1  圆锥工具 339 /_:T\`5uO  
16.3.2  波前问题 341 FU(}=5n  
16.4  参考文献 343 }[KDE{,V  
17  如何在Function（模块）中编写操作数 345 [aWDD[#j~  
17.1  引言 345 T[4[/n>i  
17.2  操作数 345 1O]5/Eu  
18  如何在Function中编写脚本 351 fNAo$O4cm  
18.1  简介 351 "BLv4s|y7L  
18.2  什么是脚本？ 351 RI5g+Du?  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 oc3dd"8}@  
18.4  基础 352 @tE&<[e  
18.4.1  Classes（类别） 352 a*W_fxb  
18.4.2  对象 352 [V2omSZo  
18.4.3  信息（Messages） 352 <wUD  
18.4.4  属性 352 (DG@<K,6  
18.4.5  方法 353 co$Hi9JE  
18.4.6  变量声明 353 o%/-5-  
18.5  创建对象 354 S6Xb*6  
18.5.1  创建对象函数 355 Fi?32e4KI5  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 un$ Z7W/  
18.5.3 丢弃对象 356
2xL!PR-  
18.5.4  总结 356 a+YR5*&[OO  
18.6  脚本中的表格 357 Q3NPwM  
18.6.1  方法1 357 3WO#^}t  
18.6.2  方法2 357 rR,+G%[(=4  
18.7 2D Plots in Scripts 358 |8DH4*y!  
18.8 3D Plots in Scripts 359 |5}rX!wS4  
18.9  注释 360 8 l'bRyuS  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 ;gxN@%}@  
18.11  一个更高级的脚本 362 o273|*  
18.12  <esc>键 364 H-/; l54E  
18.13 包含文件 365 ( Lok  
18.14  脚本被优化调用 366 inr%X
S/m  
18.15  脚本中的对话框 368 SE,o7_k'S  
18.15.1  介绍 368 .%x"t>]  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 Sc;iAi (  
18.15.3  输入框函数 370 )(:+q(m  
18.15.4  自定义对话框 371 *Fa)\.XX  
18.15.5  对话框编辑器 371 <&qpl0U)Y  
18.15.6  控制对话框 377 ;mf4U85  
18.15.7  更高级的对话框 380 h` irO5  
18.16 Types语句 384 p3M#XC_H]  
18.17 打开文件 385 /~o7Q$)-b  
18.18 Bags 387 YBYBOH  
18.13  进一步研究 388 8iMF8\  
19  vStack 389 <ICZ"F`S  
19.1  vStack基本原理 389 _o@(wGeu#  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 g,t3OnxS?  
19.3  五棱镜 393 ~`*1*;Q<H|  
19.4 光束距离 396 u @{E{  
19.5 误差 399 W]@gQ(Ef  
19.6  二向分色棱镜 399 <^,o$b  
19.7  偏振泄漏 404 z
Y7*[!c2  
19.8  波前误差—相位 405 `3f_d}b  
19.9  其它计算参数 405 ,N;))3  
20  报表生成器 406 5kGxhD  
20.1  入门 406 [D*J[?yt  
20.2  指令(Instructions) 406 Vk MinE  
20.3  页面布局指令 406 &Q\_;  
20.4  常见的参数图和三维图 407 Q0pC4WJ`  
20.5  表格中的常见参数 408 ES^>[2Y  
20.6  迭代指令 408 Uj4Lu  
20.7  报表模版 408 u] F70C^~  
20.8  开始设计一个报表模版 409 qSFc=Wwc  
21  一个新的project 413 1vB-M6(  
21.1  创建一个新Job 414 ayV6m  
21.2  默认设计 415 [8,PO  
21.3  薄膜设计 416 H7{Q@D8  
21.4  误差的灵敏度计算 420 DRH'A!r!  
21.5  显色指数计算 422 t9G}Yd[T  
21.6  电场分布 424 OJv}kwV  
后记 426 |0tg:\.  
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BX@pt;$ek7  
书籍名称：《Essential Macleod中文手册》 V -q%r  
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《Essential Macleod中文手册》 sCVI 2S!L  
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目  录 c]6V"Bo}A  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 'Pf_5q  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 g(mxhD!k  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 ;KZrl`  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 wb]*u7G t/  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 Y.q>EUSH  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 o:_^gJ+|  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 M(qxq(#{U  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 {I`B[,*  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 }c} ( 5  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 Ee&hG[sx  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 +AB6lv  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 \;-qdV_JB  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 >B0D/:R9  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 =K&#.r  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 {]=v]O|,  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 $Z/klSEf  
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价  格：400元