[培训]上海｜薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25（三）-27日（五） [复制链接]

特邀专家介绍 rM bb%d:  

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3O#7OL68v  
易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，研究生导师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 2[M:WZ.1  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 mL6/NSSz  
随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 8% 1h
fj  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 )\VUAD%~e7  
1. Essential Macleod软件介绍 ]vT  
1.1 介绍软件 <,rjU
*"  
1.2 创建一个简单的设计 ItOVx!"@9  
1.3 绘图和制表来表示性能 !0Q(x  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 `$@1NL7>  
1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） y-sQ"HPN  
1.6 特定设计的公式技术 o"n^zG  
1.7 交互式绘图 TF=S \ Q  
2. 光学薄膜理论基础 t'9E~_!C  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 <o?qpW$,>  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 8<.KWr  
3. 材料管理 T_Y6AII  
3.1 材料模型 %],.?TS2V  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 1Kc*MS  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 mH8s'F  
3.4 基板光学常数的提取 %&gx@ \v  
4. 光学薄膜设计优化方法 uft~+w P  
4.1 参考波长与g Vs07d,@w>  
4.2 四分之一规则 WUa-hm2:  
4.3 导纳与导纳图 jsez$m%vs  
4.4 斜入射光学导纳 Vx0V6{JX  
4.5 光学薄膜设计的进展 {v`wQM[  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 SxH}/I|W  
4.6.1 优化目标设置 X^xu$d6   
4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法） OH)SdSBz  
4.6.3 膜层锁定和链接 "lmiGR*u  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 qHHWe<}OT  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 (1jkZ^7  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 v"$; aJ  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 )YnB6@=nyk  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 !J2Lp  
5.5 如何在Function中编写脚本 z
cZr )Oh  
6. 光学薄膜系统案例 :'!?dszS  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 KqtI^qC8  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 n$=n:$`q  
6.3 Stack应用范例说明 qx!IlO  
7. 薄膜性能分析 `>#X,Lw$g  
7.1 电场分布 Nxt/R%(  
7.2 公差与灵敏度分析 R jAeN#,?  
7.3 反演工程 ,bH  
7.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真 )m)>k` 0  
8. 真空技术 OdR  
8.1 常用真空泵介绍 mU\$piei  
8.2 真空密封和检漏 ,5L&$Q6  
9. 薄膜制备技术 `b%/.%]$  
9.1 常见薄膜制备技术 fO(.I  
10. 薄膜制备工艺 `$#64UZ>U1  
10.1 薄膜制备工艺因素 KM\`,1?x92  
10.2 薄膜均匀性修正技术 xHL{3^  
10.3 光学薄膜监控技术 @wa/p`gj5w  
11. 激光薄膜 JTs.NY <z  
11.1 薄膜的损伤问题 Dl"y|  
11.2 激光薄膜的制备流程 ?ke C  
11.3 激光薄膜的制备技术 yNN2}\[.  
12. 光学薄膜特性测量 (8
EZ,V:  
12.1 薄膜光谱测量 z1Ju;k(8  
12.2 薄膜光学常数测量 % vP{C  
12.3 薄膜应力测量 $==hr^H  
12.4 薄膜损伤测量
68_UQ.  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析内容简介 Aw|3W ]  
Macleod软件自带的用户手册功能全面，其介绍涵盖了软件的方方面面，能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而，为了顺应目前薄膜行业的需求，急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍，以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作，因此，我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 W&yw5rt**  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（原著第二版）是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结，结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod，其内容丰富，实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法，还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题，如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节，首先，从光学薄膜的基本理论出发（第2章），为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次，在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作，以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后，从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合，从而使大家将理论知识与实际经验结合起来，对实际镀膜提出实用的建议，以减少设计时间并降低生产成本。 tr'95'5W.  
薄膜光学涵盖范围很广，书中并附设计光盘和参考文献，有兴趣者可依此深入研究，为精准起见，在不影响理解的情况下，尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助，通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限，书中错误纰漏之处在所难免，本书若有不周之处，尚请读者不吝赐教。 RI%l& Hm  
nC*/?y*9  
vu#:D1/BB  
ims *|~{sr  
目录 +ypT"y  
Preface 1 B}!n6j`  
内容简介 2 #/1Bam6
 
目录 i `kz_q/K  
1  引言 1 nrxN_0 R%  
2  光学薄膜基础 2 U{_O=S u  
2.1  一般规则 2 =AAH}  
2.2  正交入射规则 3 ~_oTEXT^O  
2.3  斜入射规则 6 lW2qVR  
2.4  精确计算 7 6zI?K4o  
2.5  相干性 8 J{1O\i  
2.6 参考文献 10 MR~BWH?@1  
3  Essential Macleod的快速预览 10 "vJADQ4F  
4  Essential Macleod的特点 32 Q^F-8  
4.1  容量和局限性 33 6D+k[oHZm  
4.2  程序在哪里？ 33 o^NQ]BdH8  
4.3  数据文件 35 9wwvh'T&NK  
4.4  设计规则 35 Y{S/A*X  
4.5  材料数据库和资料库 37 of
i']J{R  
4.5.1材料损失 38 =o-qu^T^u  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 .9E`x>C  
4.5.2 材料库 41 Q{a!D0
;4v  
4.5.3导出材料数据 43 2n7[Op  
4.6  常用单位 43 -^Lj~O  
4.7  插值和外推法 46 mPh;  
4.8  材料数据的平滑 50 #"OKO6]  
4.9 更多光学常数模型 54 p;H1,E:Re#  
4.10  文档的一般编辑规则 55 -WYJ1B0v  
4.11 撤销和重做 56 +GGj*sD  
4.12  设计文档 57 "8rP?B(  
4.10.1  公式 58 ae<KUThm.  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 !XicX9n  
4.10.3  沉积密度 59 N" 8o
0>  
4.10.4 平行和楔形介质 60 C/w;g3  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 /bb4nM_E/  
4.10.4  性能 61 LRI_s>7  
4.10.5  保存设计和性能 64 ML]?`qv '  
4.10.6  默认设计 64 0O:TKgb&C.  
4.11  图表 64 b9vKux  
4.11.1  合并曲线图 67 xv ja  
4.11.2  自适应绘制 68 nxJhK T  
4.11.3  动态绘图 68 xM*v!J,  
4.11.4  3D绘图 69 .xD-eWw3R  
4.12  导入和导出 73 `#UTOYx4  
4.12.1  剪贴板 73 =1,g#HS  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 ~9n@MPS^!  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 0<)8 ?ow  
4.13  背景 77 *rbH|o8  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 qzLRA.#f^  
4.15  生成Rugate 84 F0yh7MItV  
4.16  参考文献 91 AD5tuY  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 #e
aey+~  
5.1  Jobs 92 J>'o,"D  
5.2  创建一个新Job（工作） 93 z~W@`'f  
5.3  输入材料 94 |#sP1w'l]  
5.4  设计数据文件夹 95 C

+IXP  
5.5  默认设计 95 r`krv-,O$  
6  细化和合成 97 h%O`,iD2  
6.1  优化介绍 97 uaGg8  
6.2  细化 (Refinement) 98 ALG #)$|  
6.3  合成 (Synthesis) 100 }Bb(wP^B.  
6.4  目标和评价函数 101 MHbRG_zW  
6.4.1  目标输入 102 s810714  
6.4.2  目标 103 `K@   
6.4.3  特殊的评价函数 104 jy*wj7fj1  
6.5  层锁定和连接 104 Wt8 RC  
6.6  细化技术 104 Soa.thP
 
6.6.1  单纯形 105 z#\Z
|OKU  
6.6.1.1 单纯形参数 106 z(]*'0)P  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 !pN,,H6Y  
6.6.2.1 Optimac参数 108 e*g; +nz  
6.6.3  模拟退火算法 109 Qh*|mW  
6.6.3.1　模拟退火参数 109 |hpm|eZG"h  
6.6.4  共轭梯度 111 gC3{:MC-G  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 YcGqT2oLP  
6.6.5  拟牛顿法 112 XJlun l)(K  
6.6.5.1 拟牛顿参数： 112 %'>. R  
6.6.6  针合成 113 ?;*mSQA`J  
6.6.6.1 针合成参数 114 55;xAsG  
6.6.7 差分进化 114 $v^F>*I1
 
6.6.8非局部细化 115 ,4\vi|  
6.6.8.1非局部细化参数 115 |%tR#!&[:g  
6.7  我应该使用哪种技术？ 116 v-l):TL+=  
6.7.1 　细化 116 Y,8M[UIK  
6.7.2　 合成 117 F|PYDC  
6.8  参考文献 117 FCIT+8K  
7  导纳图及其他工具 118 >GjaA1,  
7.1  简介 118 9+/<[w7  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 N( /PJJ~  
7.2.1  四分之一波长规则 119 fLys$*^)^  
7.2.2  导纳图 120 x=H*"L=  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 hA"N&v~  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 ('gjfl  
7.5  斜入射导纳图 141 %xg"e O2x  
7.6  对称周期 141 sz)3 z  
7.7  参考文献 142 W<x2~HW(  
8  典型的镀膜实例 143 mxWaXb  
8.1  单层抗反射薄膜 145 +Q'/c0o  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 [A3hrSw  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 +28
FB[W  
8.4  W-膜层 148 ;hg]5r_  
8.5  V-膜层 149 fg,~[%1  
8.6  V-膜层高折射基底 150 n3)g{K^  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 w,l1&=d  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 9M7{.XR,  
8.9  四层抗反射薄膜 153 $EtZ5?qS  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 h)YqC$A-s  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 !g}9xIL  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 0h; -Y
g  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157
zX5
p'8-  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 sQ`8L+oY  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 {g);HnmPN  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 1di?@F2f  
8.17  1/4波长堆栈 162 1LE8,Gm&  
8.18  陷波滤波器 163 p%G\5.GcJL  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 51rM6 BT  
8.20  褶皱 165 zcA"\  
8.21  消偏振分光器1 169 OixQlAb{  
8.22  消偏振分光器2 171 xWV_Do)z  
8.23  消偏振立体分光器 172 8RocObY_W  
8.24  消偏振截止滤光片 173 P= ]ZXj[  
8.25  立体偏振分束器1 174 L$jRg  
8.26  立方偏振分束器2 177 MBa/-fD  
8.27  相位延迟器 178 mG2}JWA  
8.28  红外截止器 179 mp5]=6~:m  
8.29  21层长波带通滤波器 180 2S/^"IM["  
8.30  49层长波带通滤波器 181 [szwPNQ_  
8.31  55层短波带通滤波器 182 !E*-\}[  
8.32  47 红外截止器 183 iBc( @EJ  
8.33  宽带通滤波器 184 0.Iw/e   
8.34  诱导透射滤波器 186 }we"IqLb  
8.35  诱导透射滤波器2 188 |D^[]*cEH  
8.36  简单密集型光波复用（DWDM）滤波器 190 v=/V<3  
8.37  高级密集型光波复用技术（DWDM）滤波器 192 l,d8%\  
8.35  增益平坦滤波器 193 b|xz`wUH0$  
8.38  啁啾反射镜 1 196 on(W^ocnD  
8.39  啁啾反射镜2 198 VR_1cwKBM  
8.40  啁啾反射镜3 199 @c&)K^v8  
8.41  带保护层的铝膜层 200 ,>Yz1P)L  
8.42  增加铝反射率膜 201 N/y.=]  
8.43  参考文献 202 t%=ylEPW  
9  多层膜 204 >Cf]uiR  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 PPmZ[N9(;  
9.2  内部透过率 204 r_o2d8  
9.3 内部透射率数据 205 Y[pGaiN:  
9.4  实例 206 FS']3uJ/  
9.5  实例2 210 +]AE}UXZoh  
9.6  圆锥和带宽计算 212 i1scoxX3\  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 q!FJP9x  
10  光学薄膜的颜色 216 b9:E0/6   
10.1  导言 216 ebQYk$@  
10.2  色彩 216 v[~ U*#i  
10.3  主波长和纯度 220 I]} MK?  
10.4  色相和纯度 221 D@0eYX4s  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 .&L#%
C  
10.6 色差 226 AA@J~qd u  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 PAqziq.  
10.8  颜色渲染指数 234 =b;v:HC  
10.9  色差计算 235 L1aN"KGMF  
10.10  参考文献 236 
ZM5[ o m  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 B\4SB  
11.1  短脉冲 238 =JEnK_@?K\  
11.2  群速度 239 } #$Y^ +UN  
11.3  群速度色散 241 9}":}!  
11.4  啁啾(chirped) 245 9m8`4%y=  
11.5  光学薄膜—相变 245 ^D6JckW  
11.6  群延迟和延迟色散 246 HeR-;L  
11.7  色度色散 246 }-Zfljj  
11.8  色散补偿 249 ?SS?I  
11.9  空间光线偏移 256 $3FFb#r  
11.10  参考文献 258 cU*7E39
 
12  公差与误差 260 }G-qOt  
12.1  蒙特卡罗模型 260 B-Fu/
n  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 $H-s(3vq  
12.2.1  误差工具 267 _hXadLt  
12.2.2  灵敏度工具 271 -BB5bsjA  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 {U&Mo97rzX  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 "ua/65cq9  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 whv
M^  
12.3  参考文献 276 :pOX,  
13  Runsheet 与Simulator 277 0xH$!?{b  
13.1  原理介绍 277 _a c_8m  
13.2  截止滤光片设计 277 %*LdacjZ  
14  光学常数提取 289 "IB)=Hc  
14.1  介绍 289 RJ@d_~%U  
14.2  电介质薄膜 289 >j\zj] -"  
14.3  n 和k 的提取工具 295 sHAzg^n}r  
14.4  基底的参数提取 302 #
E*jX-JT  
14.5  金属的参数提取 306 Dx iCq(;  
14.6  不正确的模型 306 G&:YgwG  
14.7  参考文献 311 9t;aJFI  
15  反演工程 313 3A'd7FJ0G  
15.1  随机性和系统性 313 K\o!  
15.2  常见的系统性问题 314 jLcW;7OAC  
15.3  单层膜 314 I:='LH,  
15.4  多层膜 314 G!%1<SLi.  
15.5  含义 319 KLbP;:sr  
15.6  反演工程实例 319 R1?g6. Mq  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 E-&=I> B5  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 F4d L{0;j  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 eK`n5Z&Y\  
16.1  光学性质的热致偏移 329 <udp:s3#T  
16.2  应力工具 335 hC~lH eH  
16.3  均匀性误差 339 [f^~Z'TIN/  
16.3.1  圆锥工具 339 t?{E_70W  
16.3.2  波前问题 341 ~/ "aD  
16.4  参考文献 343 6\'v_A O  
17  如何在Function（模块）中编写操作数 345 eF:6k qg  
17.1  引言 345 Q +qN`  
17.2  操作数 345 C9({7[k^%  
18  如何在Function中编写脚本 351 1G$kO90  
18.1  简介 351 
HQTB4_K\  
18.2  什么是脚本？ 351 4uDz=B+8y  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 \'j%q\Bl;  
18.4  基础 352 #2Mz.=#G  
18.4.1  Classes（类别） 352 t5[{ihv~:  
18.4.2  对象 352 YdIV_&-W  
18.4.3  信息（Messages） 352 ~pwp B2
c  
18.4.4  属性 352 jG8ihi  
18.4.5  方法 353 R (4 :_ xc  
18.4.6  变量声明 353 c5^i5de  
18.5  创建对象 354 Vk8:;Hj  
18.5.1  创建对象函数 355 (;cbgHo%}  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 ,I'Y)SLx  
18.5.3 丢弃对象 356 oZP:}= F  
18.5.4  总结 356 /zPN9 db  
18.6  脚本中的表格 357 dIMs{!  
18.6.1  方法1 357 O:#t> ;  
18.6.2  方法2 357 Gz$Ds
aG  
18.7 2D Plots in Scripts 358 ^yjc"r%B  
18.8 3D Plots in Scripts 359 Ewu 7tq Z  
18.9  注释 360 Ow mI*`  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 hDzKB))<w  
18.11  一个更高级的脚本 362 #%B1,.A  
18.12  <esc>键 364 rOH8W  
18.13 包含文件 365  =DvnfT<  
18.14  脚本被优化调用 366 Q]7r?nEEhW  
18.15  脚本中的对话框 368 6BNOF66kH  
18.15.1  介绍 368 ,8EeSnI  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 W<v?D6dFq  
18.15.3  输入框函数 370 ]r6,^"  
18.15.4  自定义对话框 371 n%@xnB$ZX  
18.15.5  对话框编辑器 371 }Geip@Ot  
18.15.6  控制对话框 377 "k5 C?~  
18.15.7  更高级的对话框 380 *#dXW\8qu  
18.16 Types语句 384 HI)ks~E/  
18.17 打开文件 385 u!X[xe;  
18.18 Bags 387 _9""3O  
18.13  进一步研究 388 y}
nM'$p  
19  vStack 389 !9OAMHa*9  
19.1  vStack基本原理 389 6e
/2X<O  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 Nl PP|=o  
19.3  五棱镜 393 NuW9.6$Jrf  
19.4 光束距离 396 \Qz>us=G  
19.5 误差 399 NTls64AS.  
19.6  二向分色棱镜 399 qEX59v  
19.7  偏振泄漏 404 _sJp"4?  
19.8  波前误差—相位 405 DJT)7l{  
19.9  其它计算参数 405 jHTaG%oh  
20  报表生成器 406 9akCvY#Q  
20.1  入门 406 @U:WWTzf  
20.2  指令(Instructions) 406 HO}aLp  
20.3  页面布局指令 406 q1`uS^3`  
20.4  常见的参数图和三维图 407 +#,t  
20.5  表格中的常见参数 408
XNd:x{  
20.6  迭代指令 408 Oa 
CkU  
20.7  报表模版 408 2mVH*\D  
20.8  开始设计一个报表模版 409 ^FF{71;
 
21  一个新的project 413 [}}oHm3&  
21.1  创建一个新Job 414 :G,GHU'/78  
21.2  默认设计 415 E+UOuf*(  
21.3  薄膜设计 416 WcbJ4Ore  
21.4  误差的灵敏度计算 420 U~!97,|ic  
21.5  显色指数计算 422 j?3J-}XC  
21.6  电场分布 424 N@Bqe{r6j  
后记 426 mWta B>f  
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y/4 4((O  
书籍名称：《Essential Macleod中文手册》 !V7VM_}@Y  
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《Essential Macleod中文手册》 -P@o>#Em  
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目  录 pcoJ\&&W  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 Jel%1'Dc^  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 |#f P8OK  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 6@; w%Ea  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 z| i$eF;x3  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 jKM-(s!(  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 DM~Q+C=Yr  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 G2 xYa$&][  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 ]J?5qR:xCy  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 C  `k^So)  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 ukzXQe;l1  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 ?gH[tN:=  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 
x{5I  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 FV!  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 FzFY2h;n]B  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 &.K=,+0_R/  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 *.n9D  
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价  格：400元