[培训]上海｜薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25（三）-27日（五） [复制链接]

特邀专家介绍 !Gp3/<"Wy$  
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易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，研究生导师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 vif8{S  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 }=hoATs  
随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 B`B%:#  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 F>
QT|
 
1. Essential Macleod软件介绍 H@MFj>~  
1.1 介绍软件 :pDY  
1.2 创建一个简单的设计 `MsYgd  
1.3 绘图和制表来表示性能 LBkcs4+  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 "b>KUzuYT  
1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） v"r9|m~'  
1.6 特定设计的公式技术 _ML~c&9jv  
1.7 交互式绘图 l-S'ATZ0p  
2. 光学薄膜理论基础 ZSRRlkU  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 !wd'::C  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 ],F}}pv  
3. 材料管理 k&A7alw  
3.1 材料模型 =kb6xmB^t  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 zNny\Z  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 %A62xnX  
3.4 基板光学常数的提取 XalJo@%-  
4. 光学薄膜设计优化方法 7<:Wq=e!r  
4.1 参考波长与g 43>9)
t  
4.2 四分之一规则 +^*5${g;@H  
4.3 导纳与导纳图 {@V3?pG?p  
4.4 斜入射光学导纳 Aw4?y[{H  
4.5 光学薄膜设计的进展 < m enABN4  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 TH>?Gi)"  
4.6.1 优化目标设置 (9}eF)+O  
4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法） qB F!b0lr  
4.6.3 膜层锁定和链接 fJWxJSdi  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 ;tp]^iB#  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 @fqV0l!GR  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 %i$M/C"(  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 -R&E,X7N  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 )@]6=*%  
5.5 如何在Function中编写脚本 z!s.9  
6. 光学薄膜系统案例 FgWkcV6B  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 2f19W# '0  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 {}_Nep/;  
6.3 Stack应用范例说明 " ^HK@
$  
7. 薄膜性能分析 v7;J%9=0D`  
7.1 电场分布 Fm<jg}>MAd  
7.2 公差与灵敏度分析 ]<kupaRQ  
7.3 反演工程 rGnI(m.  
7.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真 ~=:2~$gsn  
8. 真空技术 ~h)@e\Kc  
8.1 常用真空泵介绍 v/R[?H)  
8.2 真空密封和检漏 R9Sf!LR  
9. 薄膜制备技术 mRhd/|g*  
9.1 常见薄膜制备技术 &yxNvyA[u  
10. 薄膜制备工艺 <NG/i i=  
10.1 薄膜制备工艺因素 q=6Cc9FN  
10.2 薄膜均匀性修正技术 e1 x^PT  
10.3 光学薄膜监控技术 C8IkpAD  
11. 激光薄膜 C4QeDvpI  
11.1 薄膜的损伤问题 8!4~T,9G  
11.2 激光薄膜的制备流程 K8HIuQ!=  
11.3 激光薄膜的制备技术 R
x6l|'e  
12. 光学薄膜特性测量 yoBgr7g
S  
12.1 薄膜光谱测量 Jd5\&ma  
12.2 薄膜光学常数测量 48 W.qzC  
12.3 薄膜应力测量 \  Md 3  
12.4 薄膜损伤测量 d_Q*$Iz)3  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析内容简介 U;xu/xDRi  
Macleod软件自带的用户手册功能全面，其介绍涵盖了软件的方方面面，能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而，为了顺应目前薄膜行业的需求，急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍，以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作，因此，我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 AV40:y\RW  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（原著第二版）是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结，结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod，其内容丰富，实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法，还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题，如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节，首先，从光学薄膜的基本理论出发（第2章），为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次，在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作，以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后，从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合，从而使大家将理论知识与实际经验结合起来，对实际镀膜提出实用的建议，以减少设计时间并降低生产成本。 ;LCTCt`  
薄膜光学涵盖范围很广，书中并附设计光盘和参考文献，有兴趣者可依此深入研究，为精准起见，在不影响理解的情况下，尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助，通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限，书中错误纰漏之处在所难免，本书若有不周之处，尚请读者不吝赐教。 bIgh@= 2  
r&}(9Cq&"y  
D.'h?^kA  
#6Jc}g<?g  
目录 +I t#Z3  
Preface 1 ]@v}y&  
内容简介 2 &+ KyPY+  
目录 i 'E4AV58.  
1  引言 1 & _; y.!  
2  光学薄膜基础 2 HTmI1  
2.1  一般规则 2 V=pMq?Nr  
2.2  正交入射规则 3 UMV)wy|j  
2.3  斜入射规则 6 ^ eQFg>  
2.4  精确计算 7 qnB<k,8T  
2.5  相干性 8 'Qa5n\HX$  
2.6 参考文献 10 U@G"`RYl  
3  Essential Macleod的快速预览 10 *G9sy_  
4  Essential Macleod的特点 32 UuU/c-.  
4.1  容量和局限性 33 /<);=&[  
4.2  程序在哪里？ 33 "~F3*lk#E  
4.3  数据文件 35 0ZMJ(
C  
4.4  设计规则 35 HPg3`Ul  
4.5  材料数据库和资料库 37 |EKu2We*  
4.5.1材料损失 38 #05jC6  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 >M]6uf  
4.5.2 材料库 41 E<>*(x/\e  
4.5.3导出材料数据 43 o*">KqU`b  
4.6  常用单位 43 C|MQ $~5:w  
4.7  插值和外推法 46 H&#{l)  
4.8  材料数据的平滑 50 MtS
3p>4  
4.9 更多光学常数模型 54 ~ 3^='o  
4.10  文档的一般编辑规则 55 b_TS<,  
4.11 撤销和重做 56 Lxv6!?v|  
4.12  设计文档 57
.`jo/,?+O  
4.10.1  公式 58 ~vHk
&r]|  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 cvnB!$eji  
4.10.3  沉积密度 59 *O,H5lwU  
4.10.4 平行和楔形介质 60 k|xtrW`qo;  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 :_5/u|{  
4.10.4  性能 61 =<c#owe:m  
4.10.5  保存设计和性能 64 !*aPEf270  
4.10.6  默认设计 64 {%C*{,#+8q  
4.11  图表 64 j%L&jH6@  
4.11.1  合并曲线图 67 c~0{s>  
4.11.2  自适应绘制 68 -'`TL$  
4.11.3  动态绘图 68 $<nCXVqL,  
4.11.4  3D绘图 69 .f:n\eT):  
4.12  导入和导出 73 1|{bDlmt  
4.12.1  剪贴板 73 g:7,~}_}^  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 6sJw@OaJ  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 qnM|w~G  
4.13  背景 77 ljC(L/I  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 =^&%9X  
4.15  生成Rugate 84 a2w T6jY  
4.16  参考文献 91 08s_v=cF  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 eg/<[ A:  
5.1  Jobs 92 6KHN&P  
5.2  创建一个新Job（工作） 93 `Out(Hn  
5.3  输入材料 94 3*ixlO:qGk  
5.4  设计数据文件夹 95 QSw<%pcJE@  
5.5  默认设计 95  /ASaB  
6  细化和合成 97 *T`-|H*6@  
6.1  优化介绍 97 S?ujRp  
6.2  细化 (Refinement) 98 c$:1:B9\  
6.3  合成 (Synthesis) 100 WOLuw%
  
6.4  目标和评价函数 101 ^03j8Pc-c  
6.4.1  目标输入 102 lDc-W =X=  
6.4.2  目标 103 &<y2q/U}  
6.4.3  特殊的评价函数 104 (#D*Pl  
6.5  层锁定和连接 104 <eN_1NTH_  
6.6  细化技术 104 `F t]MR  
6.6.1  单纯形 105 Pq9|WV#F5/  
6.6.1.1 单纯形参数 106 m8R9{LC  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 ritBU:6  
6.6.2.1 Optimac参数 108 3S*AxAeg  
6.6.3  模拟退火算法 109 0'5/K ,  
6.6.3.1　模拟退火参数 109 ;G |i^  
6.6.4  共轭梯度 111 6$U]9D  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 =,y |00l  
6.6.5  拟牛顿法 112 =(v^5
 
6.6.5.1 拟牛顿参数： 112 #KxbM-1=  
6.6.6  针合成 113 hRC
 
6.6.6.1 针合成参数 114 XV3C`:b  
6.6.7 差分进化 114 _"@CGXu  
6.6.8非局部细化 115 sRSz}]  
6.6.8.1非局部细化参数 115 A4C+5R  
6.7  我应该使用哪种技术？ 116 fKH7xu!V4+  
6.7.1 　细化 116 %`MQmXgM  
6.7.2　 合成 117 ldha|s.*  
6.8  参考文献 117 pM;vH]|  
7  导纳图及其他工具 118 O.aG[wm8  
7.1  简介 118 IU FH:w]  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 G!w"{Bk?9  
7.2.1  四分之一波长规则 119 Jn:ZYqc  
7.2.2  导纳图 120 M_v?9L  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 F{06 _T  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 ">f erhN9  
7.5  斜入射导纳图 141 l^GP3S  
7.6  对称周期 141 Hnknly  
7.7  参考文献 142 ,.iRnR  
8  典型的镀膜实例 143 ]i(-I <`  
8.1  单层抗反射薄膜 145 \B F*m"lz  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 Y8M]Lwj  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 'c2W}$q  
8.4  W-膜层 148 **9x?s  
8.5  V-膜层 149 L86n}+ P\  
8.6  V-膜层高折射基底 150 :B3[:Mp
L}  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 )?+$x[f!*  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 P-F)%T[  
8.9  四层抗反射薄膜 153 [Wd-Zn%  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 .2d9?p3Y  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 vEf4HZ&w  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 ah
x>q  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 4BnSqwa_  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 !cKz7?w  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 Lg8nj< TF  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 bvfk  
8.17  1/4波长堆栈 162 mc=LP>uoS  
8.18  陷波滤波器 163 ~wg:!VWA)  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 zvABU+{jD  
8.20  褶皱 165 V5+SWXZ  
8.21  消偏振分光器1 169 coYij  
8.22  消偏振分光器2 171 %ZHP2j %~  
8.23  消偏振立体分光器 172 UOQEk22  
8.24  消偏振截止滤光片 173 %X#zj"  
8.25  立体偏振分束器1 174 DN4$Jva  
8.26  立方偏振分束器2 177 fXrXV~'8  
8.27  相位延迟器 178 6'\6OsH  
8.28  红外截止器 179 8DP+W$  
8.29  21层长波带通滤波器 180 s4&^D<  
8.30  49层长波带通滤波器 181 U qG .:@T  
8.31  55层短波带通滤波器 182 8r3A~  
8.32  47 红外截止器 183 UK9@oCIB  
8.33  宽带通滤波器 184 o7IxJCL=Q  
8.34  诱导透射滤波器 186 ss;R8:5  
8.35  诱导透射滤波器2 188  KWLbD#  
8.36  简单密集型光波复用（DWDM）滤波器 190 j ";2o(  
8.37  高级密集型光波复用技术（DWDM）滤波器 192 hiNEJ_f  
8.35  增益平坦滤波器 193 l5L.5$N  
8.38  啁啾反射镜 1 196  XL7h}  
8.39  啁啾反射镜2 198 =zwOq(Bh W  
8.40  啁啾反射镜3 199 ^CwR!I.D}4  
8.41  带保护层的铝膜层 200 %Uz(Vd
#K  
8.42  增加铝反射率膜 201 d)~Fmi;  
8.43  参考文献 202 C8F7bG8c  
9  多层膜 204 4CGPOc  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 NcY608C  
9.2  内部透过率 204 yf&7P;A  
9.3 内部透射率数据 205 @&[T _l  
9.4  实例 206 1S@vGq}  
9.5  实例2 210 {Zp\^/  
9.6  圆锥和带宽计算 212 )BRKZQN  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 6e7{Iy  
10  光学薄膜的颜色 216 IIy~[4dW  
10.1  导言 216 ?-1r$31p  
10.2  色彩 216 YM5fyv?  
10.3  主波长和纯度 220 :;t #\%L/  
10.4  色相和纯度 221 fGmT_C0t  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 eb*#'\~'  
10.6 色差 226 =y=cW1TG  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 z({hiVs  
10.8  颜色渲染指数 234 xW92ch+t  
10.9  色差计算 235 9cJH"  
10.10  参考文献 236 %vBhLaE  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 `5H$IP1XhA  
11.1  短脉冲 238 Wh&8pH:  
11.2  群速度 239 t(="h6i  
11.3  群速度色散 241 ETB6f  
11.4  啁啾(chirped) 245 !ti6  
11.5  光学薄膜—相变 245 4b:s<$TZ  
11.6  群延迟和延迟色散 246 m*mm\wN5  
11.7  色度色散 246  6m6zA/  
11.8  色散补偿 249 a ^%"7Ri  
11.9  空间光线偏移 256 >MPr=W%E  
11.10  参考文献 258 1T:Y0  
12  公差与误差 260 3"rzb]=R  
12.1  蒙特卡罗模型 260 n8.kE)?  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 ]THPSw_y8  
12.2.1  误差工具 267 T~b>B`_  
12.2.2  灵敏度工具 271 cHa]xmy%r'  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 p019)X|vx  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 s@fTj$h  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 *3D%<kVl  
12.3  参考文献 276 /Wf^hA  
13  Runsheet 与Simulator 277 &.Zb,r$Y  
13.1  原理介绍 277 `SVmQSwO[  
13.2  截止滤光片设计 277 ]D,MiDph  
14  光学常数提取 289 Q);n<Z:X~  
14.1  介绍 289 B
<-
kzt  
14.2  电介质薄膜 289 )Z %T27r,^  
14.3  n 和k 的提取工具 295 UQ4% Xp  
14.4  基底的参数提取 302 >"Q@bQ:e  
14.5  金属的参数提取 306 z~A]9|/61v  
14.6  不正确的模型 306 sdS^e`S  
14.7  参考文献 311 oHs2L-G  
15  反演工程 313 cCR+D.F  
15.1  随机性和系统性 313 =w$}m_AM  
15.2  常见的系统性问题 314 8#Q$zLK42N  
15.3  单层膜 314 /x1MPP>fu
 
15.4  多层膜 314 ]~\sA
  
15.5  含义 319 57 #6yXQ  
15.6  反演工程实例 319 I<A6Z&*un  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 $U/YR&vcw  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 z.}[m,oTF  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 ~/_SMPLo  
16.1  光学性质的热致偏移 329 M2U&?V C!  
16.2  应力工具 335 @9&P~mo/  
16.3  均匀性误差 339 3 zn W=  
16.3.1  圆锥工具 339 K5"#~\D  
16.3.2  波前问题 341 PdVfO8-  
16.4  参考文献 343 [{X^c.8G)  
17  如何在Function（模块）中编写操作数 345 ;.bm6(;  
17.1  引言 345 ^H6<Km l/V  
17.2  操作数 345 ?h1H.s2X
 
18  如何在Function中编写脚本 351 <G*nDFWf  
18.1  简介 351 ~gu3g^<0v  
18.2  什么是脚本？ 351 Sua[O$  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 6eokCc"o  
18.4  基础 352 uWrQ&}@  
18.4.1  Classes（类别） 352 }E_#k]#*  
18.4.2  对象 352 kEd@oC  
18.4.3  信息（Messages） 352 <`0h|m'U  
18.4.4  属性 352 J sEa23  
18.4.5  方法 353 Xj*vh m%i  
18.4.6  变量声明 353 fJWC)E  
18.5  创建对象 354 vpU#xm.K  
18.5.1  创建对象函数 355 5?Wto4j  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 +NFzSal  
18.5.3 丢弃对象 356 w
K}\_2?  
18.5.4  总结 356 S'HnBn /  
18.6  脚本中的表格 357 CwJDmz\tk  
18.6.1  方法1 357 OnWx#84  
18.6.2  方法2 357 aC<KN:TN6  
18.7 2D Plots in Scripts 358 PoIl>c1MS  
18.8 3D Plots in Scripts 359 N&[D>
G]>v  
18.9  注释 360 ?,yj")+  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 X(7qZ P~  
18.11  一个更高级的脚本 362 )3(;tT,$}^  
18.12  <esc>键 364 #);[mW{F  
18.13 包含文件 365 ^3hn0DVQ  
18.14  脚本被优化调用 366 mYU9 trHV  
18.15  脚本中的对话框 368 wR{'y)$  
18.15.1  介绍 368 6K-5g/hL  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 +S))3 5N[  
18.15.3  输入框函数 370 _`#3f1F@[  
18.15.4  自定义对话框 371 [V 8{b{  
18.15.5  对话框编辑器 371 jV8q)=}*)  
18.15.6  控制对话框 377 kapC%/6"  
18.15.7  更高级的对话框 380 @JW@-9/  
18.16 Types语句 384 fQP{|+4  
18.17 打开文件 385 B&N/$=5m  
18.18 Bags 387 eznypY=  
18.13  进一步研究 388 S(mF%WJ  
19  vStack 389 +t
2SzQ j>  
19.1  vStack基本原理 389 &[&r2>a  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 mE^o-9/  
19.3  五棱镜 393 j:w{;(1=W  
19.4 光束距离 396 }za[E>z  
19.5 误差 399 <40rYr$/J  
19.6  二向分色棱镜 399 TO-$B8*nq  
19.7  偏振泄漏 404 9 fMau  
19.8  波前误差—相位 405 4 QZ?}iz  
19.9  其它计算参数 405 ^'jEnN(  
20  报表生成器 406 iKas/8  
20.1  入门 406 :{q"G#  
20.2  指令(Instructions) 406 f7I{WfZ\P  
20.3  页面布局指令 406 W(hM
ft%  
20.4  常见的参数图和三维图 407 (5Sivw*mP  
20.5  表格中的常见参数 408 }$\M{#C~  
20.6  迭代指令 408 xm6EKp:  
20.7  报表模版 408 r&Ca"dI  
20.8  开始设计一个报表模版 409 hva2o`  
21  一个新的project 413 7#<c>~   
21.1  创建一个新Job 414 {Q<$Uo6V  
21.2  默认设计 415 Zatf9yGD  
21.3  薄膜设计 416 8t=(,^c  
21.4  误差的灵敏度计算 420 :pRpvhm  
21.5  显色指数计算 422 dCu'>G\bP  
21.6  电场分布 424 ,&4qgp{)  
后记 426 r 6eb}z!i  
S60IPya  
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书籍名称：《Essential Macleod中文手册》 LJVG~Yeo  
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《Essential Macleod中文手册》 %{;Qls%[t  
OMk5{-8B  
目  录 kw`WH)+F  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 kbPE "urR  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 -{ u*qtp  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 v_<2H'*Q  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 )fdE6  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 Qo =Kqv  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 ouHu8)q'r  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 A?Wk wf  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 C!C|\$)-  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 xug)aE
 
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 Dr;iQkGP  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 tvd0R$5}  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 -A-tuyIsh"  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 YwcPX`eg  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 U1_&gy @y  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 iqW1#)3'R  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 xLZd!>C  
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价  格：400元