时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 EeJ]>
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授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天 AM 9:00-PM 16:00 [V~bo/n
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 BW[K/l~"$:
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 ~:Nyv+g,$
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
特邀专家介绍
aT[7L9Cw
djM=QafB:C 易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事
光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率
激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。
zvj\n9H 获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要
*4E,|IJ 随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。
-OxHQ 本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲
tDVdl^# 1. Essential Macleod软件介绍
@TDcj~oR? 1.1 介绍
软件 c i>=45@J 1.2 创建一个简单的设计
<hdCO<
0( 1.3 绘图和制表来表示性能
$%'z/'o! 1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据
@YELqUb* 1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann)
MN4}y5 1.6 特定设计的公式技术
Y#,MFEd 1.7 交互式绘图
ualtIHXK) 2. 光学薄膜理论基础
O'(vs"eN 2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算
hd' n" 2.2 后表面对光学薄膜特性的影响
Yn/-m
Z 3. 材料管理
8!fwXm 3.1 材料模型
kzu=-@s 3.2 介质薄膜光学常数的提取
PHkvt!uH 3.3 金属薄膜光学常数的提取
v;7u"9t 3.4 基板光学常数的提取
bcG-js- 4. 光学薄膜设计
优化方法
he #iWD' 4.1 参考
波长与g
e^QOn 4.2 四分之一规则
3-5lO# 4.3 导纳与导纳图
`1gsrHi4N 4.4 斜入射光学导纳
U$}]zaB 4.5 光学薄膜设计的进展
sBMHf9u 4.6 Macleod软件的设计与优化功能
o-_a0j 4.6.1 优化目标设置
P<~y$B 4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法)
HYS7=[hv6 4.6.3 膜层锁定和链接
$9/r*@bu8d 5. Essential Macleod中各个模块的应用
q6dq@ 5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估
VTU-'q 5.2 光通信用窄带滤光片模拟
Wu(GC]lTG 5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号
$6N.ykJ 5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟
(0r6_8e6xv 5.5 如何在Function中编写脚本
x,+zw9 6. 光学薄膜系统案例
"rtmDNpL 6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等
0ro+FJ r 6.2 仿生蛾眼/复眼结构等
jiat5 6.3 Stack应用范例说明
R\^tr 7. 薄膜性能分析
tP9}:gu 7.1 电场分布
JT+P>\\];' 7.2 公差与灵敏度分析
c<=1,TB"-_ 7.3 反演工程
!TcjB;q' 7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真
=0Mmxd&o=M 8. 真空技术
:n=+$Dq 8.1 常用真空泵介绍
Kfh"XpWc$ 8.2 真空密封和检漏
uB
BE!w_ 9. 薄膜制备技术
q!n|Ju< 9.1 常见薄膜制备技术
5o?bF3 10. 薄膜制备工艺
qlu yJpt 10.1 薄膜制备工艺因素
@4pN4v8U 10.2 薄膜均匀性修正技术
fXN;N&I 10.3 光学薄膜监控技术
b3ZPlLx6 11. 激光薄膜
y=CemJ[~ 11.1 薄膜的损伤问题
&AzA0r&, 11.2 激光薄膜的制备流程
<}ev Ow2 11.3 激光薄膜的制备技术
` WVQp"m 12. 光学薄膜特性测量
M1:m"#= 12.1 薄膜
光谱测量
:Vg,[\I{ 12.2 薄膜光学常数测量
+.=a
R<Q 12.3 薄膜应力测量
VH/_0 12.4 薄膜损伤测量
"-9YvB# 12.5 薄膜形貌、结构与组分分析
q(C+D%xB
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书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
KQk;:1hW
内容简介
:mij%nQ>$ Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。
U;_;_ 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。
i<l)To - 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。
,,?t>|3 vR -/c 讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
B=f{`rM)~W &{>~|^ 目录
VGSe<6Hh Preface 1
_M?:N:e 内容简介 2
&{$\]sv 目录 i
pJqayzV 1 引言 1
m2_B(- 2 光学薄膜基础 2
LWY`J0/ 2.1 一般规则 2
~
60J 2.2 正交入射规则 3
{w2<;YXj! 2.3 斜入射规则 6
RxqXGM`4 2.4 精确计算 7
W>Zce="_gN 2.5 相干性 8
t{$t3>p-t 2.6 参考文献 10
T =:^k+ 3 Essential Macleod的快速预览 10
9 eP @} C6 4 Essential Macleod的特点 32
18Ty)7r' 4.1 容量和局限性 33
# H4dmnV 4.2 程序在哪里? 33
"UE'dWz 4.3 数据文件 35
&.d~
M1Mz 4.4 设计规则 35
SgJQH7N 4.5 材料数据库和
资料库 37
zU(U^ 4.5.1材料损失 38
zITXEorF!J 4.5.1材料数据库和导入材料 39
_c[t.\-`] 4.5.2 材料库 41
`A#r6+ 4.5.3导出材料数据 43
l?ofr*U&-x 4.6 常用单位 43
!d ZHG
R 4.7 插值和外推法 46
rXA7<_V g 4.8 材料数据的平滑 50
K%S k{' 4.9 更多光学常数模型 54
xX}vxhN 4.10 文档的一般编辑规则 55
JIK;/1 4.11 撤销和重做 56
TK'(\[E 4.12 设计文档 57
t.NG]ejZ 4.10.1 公式 58
BONM:(1 4.10.2 更多关于膜层厚度 59
*NDzU%X8 4.10.3 沉积密度 59
pCv=rK@ 4.10.4 平行和楔形介质 60
$AoN,B> 4.10.5 渐变折射率和散射层 60
k*M1m'1 4.10.4 性能 61
gCd9"n-e 4.10.5 保存设计和性能 64
i2EB.Zlv 4.10.6 默认设计 64
#\w~(Nm- 4.11 图表 64
# *\PU 4.11.1 合并曲线图 67
HdVGkv/ 4.11.2 自适应绘制 68
*K!V$8k=99 4.11.3 动态绘图 68
`6UW?1_Z5 4.11.4 3D绘图 69
aVd{XVE 4.12 导入和导出 73
2OEOb,` 4.12.1 剪贴板 73
qW),)i 4.12.2 不通过剪贴板导入 76
xZBmQ:s',S 4.12.3 不通过剪贴板导出 76
\07
s'W U 4.13 背景 77
hb`(d_= 7F 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80
V+_L9 4.15 生成Rugate 84
%T!UEl`v 4.16 参考文献 91
x2;92I{5C, 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92
`XQM)A 5.1 Jobs 92
Z|E( !"zE9 5.2 创建一个新Job(工作) 93
H=EvT'g 5.3 输入材料 94
!DD|dVA{ 5.4 设计数据文件夹 95
Ju+r@/y% 5.5 默认设计 95
#AE'arT< 6 细化和合成 97
.BZw7
YV 6.1 优化介绍 97
87y$=eZ 6.2 细化 (Refinement) 98
?:~ `? 6.3 合成 (Synthesis) 100
R|Y)ow51 6.4 目标和评价函数 101
8z\WyDz 6.4.1 目标输入 102
\3Ys8umKq 6.4.2 目标 103
B$aboL2 6.4.3 特殊的评价函数 104
mq>Ag 6.5 层锁定和连接 104
9_oIAn:< 6.6 细化技术 104
.F&\xa{ 6.6.1 单纯形 105
&H<-joZ)Z\ 6.6.1.1 单纯形
参数 106
WnU"&XZ 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107
(:-=XR9A` 6.6.2.1 Optimac参数 108
n~k;9` 6.6.3 模拟退火算法 109
TAIcp*)ZM 6.6.3.1 模拟退火参数 109
4>gkXfTF 6.6.4 共轭梯度 111
<5G*#0gw 6.6.4.1 共轭梯度参数 111
@zW'!Ol 6.6.5 拟牛顿法 112
=DUsQN! 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112
R2-OT5Ej 6.6.6 针合成 113
s9zdg"c' 6.6.6.1 针合成参数 114
g.Z>9(>;Y 6.6.7 差分进化 114
hI]KT a 6.6.8非局部细化 115
:^%My]>T 6.6.8.1非局部细化参数 115
pO4}6\1\ 6.7 我应该使用哪种技术? 116
mq do@ 6.7.1 细化 116
XQ.JzzY$ 6.7.2 合成 117
b>Iqk 6.8 参考文献 117
0l!@bj 7 导纳图及其他工具 118
\@3i=! 7.1 简介 118
pu=Q;E_f[ 7.2 薄膜作为导纳的变换 118
S2w|\" 7.2.1 四分之一波长规则 119
vH9/}w2 7.2.2 导纳图 120
>n{(2bcFs 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124
/m(vIl 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125
iO(9#rV 7.5 斜入射导纳图 141
7JQ5OC3 7.6 对称周期 141
LEKN%2 7.7 参考文献 142
P] ouLjyq 8 典型的镀膜实例 143
T1LtO O 8.1 单层抗反射薄膜 145
VrrCW/o 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146
pTX{j=n! 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147
y!h$Z6. 8.4 W-膜层 148
4hr;k0sD 8.5 V-膜层 149
ebcGdC/%> 8.6 V-膜层高折射基底 150
<U (gjX 8.7 V-膜层高折射率基底b 151
{|O8)bW' 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152
y}R{A6X) 8.9 四层抗反射薄膜 153
a{mtG{Wc 8.10 Reichert抗反射薄膜 154
dc|"34;^" 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155
o5-oQ_j 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156
Ky[/7S5E 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157
=;9Wh!{ 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158
g~S>_~WL 8.15十五层宽带抗反射膜 159
e%afK@c 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161
1>[3(o3t 8.17 1/4波长堆栈 162
m1heU3BUWU 8.18 陷波滤波器 163
kS%FV;9>( 8.19 厚度调制陷波滤波器 164
G!C2[:[g 8.20 褶皱 165
&&\ h%-Jc 8.21 消偏振分光器1 169
v[q2OWcL 8.22 消偏振分光器2 171
-SGR) 8.23 消偏振立体分光器 172
{Nuwz|Ci 8.24 消偏振截止滤光片 173
.DMeWi 8.25 立体偏振分束器1 174
A|,\}9)4X[ 8.26 立方偏振分束器2 177
@0; 9.jml, 8.27 相位延迟器 178
$6Lgaz 8.28 红外截止器 179
h
\hQ 8.29 21层长波带通滤波器 180
Xw(e@: 8.30 49层长波带通滤波器 181
mqrP0/sN 8.31 55层短波带通滤波器 182
V7G?i\> 8.32 47 红外截止器 183
>k,bHGj? 8.33 宽带通滤波器 184
tx;MH5s/V 8.34 诱导透射滤波器 186
;cH|9m:Y 8.35 诱导透射滤波器2 188
/V+N 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190
FVW<F(g` 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192
Ol`/r@s 8.35 增益平坦滤波器 193
3k`"%R.H 8.38 啁啾反射镜 1 196
)l[<3<@s 8.39 啁啾反射镜2 198
Am'5| 8.40 啁啾反射镜3 199
_r0oOp E 8.41 带保护层的铝膜层 200
4_TxFulX. 8.42 增加铝反射率膜 201
E3<jH 8.43 参考文献 202
22"M#:r$ 9 多层膜 204
,A[40SZA 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204
1mm/Ssw:C 9.2 内部透过率 204
QZ$94XLI 9.3 内部透射率数据 205
H$>D_WeJ 9.4 实例 206
\K.i8f, 9.5 实例2 210
OkGg4X|9 9.6 圆锥和带宽计算 212
'Cd8l#z7 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214
>"q0"zrN, 10 光学薄膜的颜色 216
yv=LT~ 10.1 导言 216
[cwc}f^ 10.2 色彩 216
~aQ>DpSEf 10.3 主波长和纯度 220
eS8tsI 10.4 色相和纯度 221
VT96ph 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222
=uQCm# 10.6 色差 226
Ir|Q2$W2^c 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227
.;ml[DXH 10.8 颜色渲染指数 234
|}b~ss^ 10.9 色差计算 235
-l+&Bkf 10.10 参考文献 236
:0$(umW@I" 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238
O+%Y1=S[WQ 11.1 短脉冲 238
gV1&b
(h 11.2 群速度 239
JryDbGc8 11.3 群速度色散 241
&Y%Kr`.h 11.4 啁啾(chirped) 245
pN6!IxN$ 11.5 光学薄膜—相变 245
/ tM<ois* 11.6 群延迟和延迟色散 246
v|t_kNX;v* 11.7 色度色散 246
#F@53N 11.8 色散补偿 249
8+{WH/}y8 11.9 空间
光线偏移 256
^)<>5.%1'' 11.10 参考文献 258
[X0Wfb}{ 12 公差与误差 260
]`0(^)U& 12.1 蒙特卡罗模型 260
rVowHP 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267
9a 9<I 12.2.1 误差工具 267
xRpL\4cs 12.2.2 灵敏度工具 271
:P# 12.2.2.1 独立灵敏度 271
D{'x7!5r 12.2.2.2 灵敏度分布 275
`~vqu69MF9 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276
rQg7r>%Q 12.3 参考文献 276
O9wZx%< 13 Runsheet 与Simulator 277
3.U5Each- 13.1 原理介绍 277
b2u_1P\ 13.2 截止滤光片设计 277
]IMBRZQqb 14 光学常数提取 289
I1^0RB{~ 14.1 介绍 289
u4bPj2N8I 14.2 电介质薄膜 289
7GY[l3arxv 14.3 n 和k 的提取工具 295
zk=5uKcPE 14.4 基底的参数提取 302
,u^i0uOg 14.5 金属的参数提取 306
lTW5>% 14.6 不正确的模型 306
I$xfCu 14.7 参考文献 311
P$S>=*`n
U 15 反演工程 313
dDbPM9]5 15.1 随机性和系统性 313
mwVH>3{j 15.2 常见的系统性问题 314
C9`#57 Pp 15.3 单层膜 314
pm$,B7Q`oO 15.4 多层膜 314
kKAK;JQ 15.5 含义 319
,pE{N&p9 15.6 反演工程实例 319
<\eHK[_* 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320
mG@xehH 15.6.2 反演工程提取折射率 327
vS%o>"P 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329
jjL(=n<J<" 16.1 光学性质的热致偏移 329
W4Rs9NA} 16.2 应力工具 335
'
Z:FGSwT 16.3 均匀性误差 339
%$|=_K)Ks 16.3.1 圆锥工具 339
rU`#3}s 16.3.2 波前问题 341
Q+'mBi} 16.4 参考文献 343
>M[wh> 17 如何在Function(模块)中编写操作数 345
Zc(uK{3W- 17.1 引言 345
Q4\EI=4P] 17.2 操作数 345
j:B?0~= 18 如何在Function中编写脚本 351
Tu95qL~^ 18.1 简介 351
Sx?IpcPSm 18.2 什么是脚本? 351
&l2oyQEF) 18.3 Function中脚本和操作数对比 351
s9svuFb 18.4 基础 352
&Q
7Q1`S 18.4.1 Classes(类别) 352
e}Cp;c]= 18.4.2 对象 352
+F$c_
\> 18.4.3 信息(Messages) 352
4<fKB&