[培训]上海｜薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25（三）-27日（五） [复制链接]

特邀专家介绍 .!\NM&E  

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易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，研究生导师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 YB}p`b42L  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 ;JK!dzi}  
随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 c&Mci"nj0  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 (mOUbO8  
1. Essential Macleod软件介绍 {hr+ENgV  
1.1 介绍软件 d`z),A=  
1.2 创建一个简单的设计 ZkyH<Aa  
1.3 绘图和制表来表示性能 m|RA@sY%`  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 9Okb)K95  
1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） H^N@fG<*dh  
1.6 特定设计的公式技术 /uc*V6Xd (  
1.7 交互式绘图 qw!_/Z3[  
2. 光学薄膜理论基础 %D(% lh2  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 `[.':"~2N  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 7h4"5GlO0  
3. 材料管理
v$O%U[e<  
3.1 材料模型 )1>fQ9   
3.2 介质薄膜光学常数的提取 | 'SqG}h  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 fR=B/`  
3.4 基板光学常数的提取 3MR4yw5v  
4. 光学薄膜设计优化方法 KT
)A{i  
4.1 参考波长与g H$ !78/f  
4.2 四分之一规则 ;+dB-g[
 
4.3 导纳与导纳图 f$lf(brQ:  
4.4 斜入射光学导纳 f?iQ0wv)  
4.5 光学薄膜设计的进展 RtrESwtR  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 PKT/U^2X]  
4.6.1 优化目标设置 ::\7s  
4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法） BPoY32d"_  
4.6.3 膜层锁定和链接 K%) K$/A  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 p&nIUx"  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 Yy4?|wVl  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 n]/7UH}(<&  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 o;+J3\  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 k+au42:r  
5.5 如何在Function中编写脚本 6#/Riu%  
6. 光学薄膜系统案例 Ip/_uDi+!Z  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 cG|ihG5)  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 9B
lc  
6.3 Stack应用范例说明 k{/2vV[`]  
7. 薄膜性能分析 'V reO52  
7.1 电场分布 tN'-4<+  
7.2 公差与灵敏度分析 Rw$>()}H8  
7.3 反演工程 \X5>HPB  
7.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真 j5*W[M9W
 
8. 真空技术 s V70a3#  
8.1 常用真空泵介绍 dF$Fd{\4^  
8.2 真空密封和检漏 :V>M{vd  
9. 薄膜制备技术 w6k\po=  
9.1 常见薄膜制备技术 {2`:7U~|  
10. 薄膜制备工艺 ncEOz1u  
10.1 薄膜制备工艺因素 QU/Q5k  
10.2 薄膜均匀性修正技术 yq{k:)  
10.3 光学薄膜监控技术 jP{LMmV  
11. 激光薄膜 9/rX%  
11.1 薄膜的损伤问题 tL?nO#Qx  
11.2 激光薄膜的制备流程 r-#23iT.~  
11.3 激光薄膜的制备技术 "o +" Jd  
12. 光学薄膜特性测量 ;><9R@0  
12.1 薄膜光谱测量 KGCm@oy  
12.2 薄膜光学常数测量 k<xiP@b{y  
12.3 薄膜应力测量 i"}%ib*X  
12.4 薄膜损伤测量 $?^#G8J  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析内容简介 ?UAB}CjY  
Macleod软件自带的用户手册功能全面，其介绍涵盖了软件的方方面面，能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而，为了顺应目前薄膜行业的需求，急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍，以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作，因此，我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 rz c}2I  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（原著第二版）是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结，结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod，其内容丰富，实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法，还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题，如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节，首先，从光学薄膜的基本理论出发（第2章），为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次，在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作，以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后，从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合，从而使大家将理论知识与实际经验结合起来，对实际镀膜提出实用的建议，以减少设计时间并降低生产成本。 eGrC0[SH  
薄膜光学涵盖范围很广，书中并附设计光盘和参考文献，有兴趣者可依此深入研究，为精准起见，在不影响理解的情况下，尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助，通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限，书中错误纰漏之处在所难免，本书若有不周之处，尚请读者不吝赐教。 4%Q8>mEvT  
F&r+"O)^-R  
WN?1J4H  
hcEUkD  
目录 *@J  
Preface 1 uf;^yQi  
内容简介 2 B
_w;2ZuA  
目录 i &j}\ZD  
1  引言 1 R v61*F4  
2  光学薄膜基础 2 B;A^5~b  
2.1  一般规则 2 _w+ix9Fr?  
2.2  正交入射规则 3 Q ^%+r"h  
2.3  斜入射规则 6 9QaEUy*,  
2.4  精确计算 7 M{S7tMX  
2.5  相干性 8 73?ZB+\)0A  
2.6 参考文献 10 sy+o{] N  
3  Essential Macleod的快速预览 10 $QQv$  
4  Essential Macleod的特点 32 .aWEXJ  
4.1  容量和局限性 33 sidSY8j  
4.2  程序在哪里？ 33 ' bio:1  
4.3  数据文件 35 OczVObbS  
4.4  设计规则 35 |t^7L )&y  
4.5  材料数据库和资料库 37 ShAI6j  
4.5.1材料损失 38 eR.ucTji  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 j[!'l,I  
4.5.2 材料库 41 ,5" vzGLJ  
4.5.3导出材料数据 43 #87:Or1  
4.6  常用单位 43 OHeVm-VC  
4.7  插值和外推法 46 K9co_n_L  
4.8  材料数据的平滑 50 M9{?gM9  
4.9 更多光学常数模型 54 [xT2c.2__J  
4.10  文档的一般编辑规则 55 ($^XF:#5  
4.11 撤销和重做 56 g_Wf3o857J  
4.12  设计文档 57 /g3U,?qP  
4.10.1  公式 58 kd9rvy0oK  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 GH2D5HVN  
4.10.3  沉积密度 59 ;+XiDEX0}  
4.10.4 平行和楔形介质 60 {uEu ^6a5  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 ,o-BJ 069  
4.10.4  性能 61 X$w ,zb\  
4.10.5  保存设计和性能 64 =/MAKi}g  
4.10.6  默认设计 64 4CO:*qG)o  
4.11  图表 64 yu~~"Rq)  
4.11.1  合并曲线图 67 E 5PefD\m  
4.11.2  自适应绘制 68 6dO )]  
4.11.3  动态绘图 68 GuMsw*{>  
4.11.4  3D绘图 69 SesJg~8  
4.12  导入和导出 73 
Ex35  
4.12.1  剪贴板 73 6P;JF%{J  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 P`wp`HI  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 IpQ5
1  
4.13  背景 77 VJ P]Jy_  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 SEQ bw](ss  
4.15  生成Rugate 84 SlvQ)
jw%  
4.16  参考文献 91 RrSo`q-h+  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 S/pTFlptCa  
5.1  Jobs 92 |S#)[83*3  
5.2  创建一个新Job（工作） 93 N?0T3-/K  
5.3  输入材料 94 P X?!R4S  
5.4  设计数据文件夹 95 GbG!vo  
5.5  默认设计 95 0hK)/!Y  
6  细化和合成 97 ?}y?e}y*xZ  
6.1  优化介绍 97 f,z_|e  
6.2  细化 (Refinement) 98 (</cu$w>H)  
6.3  合成 (Synthesis) 100 6JBE=9d-Q  
6.4  目标和评价函数 101 X<J NwjM%  
6.4.1  目标输入 102 |)QE+|?P  
6.4.2  目标 103 ,6?L.L  
6.4.3  特殊的评价函数 104 C#X|U2$  
6.5  层锁定和连接 104 3B95t-  
6.6  细化技术 104 X.V7od>  
6.6.1  单纯形 105 "Q]`~u':  
6.6.1.1 单纯形参数 106 */ZrZ^?o  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 n?vrsqmZ  
6.6.2.1 Optimac参数 108 RajzH2j+>  
6.6.3  模拟退火算法 109 0}jB/Z_T  
6.6.3.1　模拟退火参数 109 5=/H2T!F  
6.6.4  共轭梯度 111 \"i2E!  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 <e|I?zI9-  
6.6.5  拟牛顿法 112 EI6K0{'&X  
6.6.5.1 拟牛顿参数： 112 mjG-A8y  
6.6.6  针合成 113 >lxhXYp  
6.6.6.1 针合成参数 114 62Yi1<kV@  
6.6.7 差分进化 114 QcG4~DEX
4  
6.6.8非局部细化 115 he;;p="!*  
6.6.8.1非局部细化参数 115 J
SQNx2VqQ  
6.7  我应该使用哪种技术？ 116 IBr?6_\%"4  
6.7.1 　细化 116 #WlIH7J8Tc  
6.7.2　 合成 117 B'B,,Mz
 
6.8  参考文献 117 TG'_1m*$  
7  导纳图及其他工具 118 -4{sr| lm  
7.1  简介 118 :Zl@4}  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 _M= \s>;G  
7.2.1  四分之一波长规则 119 w$4fS
 
7.2.2  导纳图 120 @D&VOJV  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 '+^HeM^;  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 %{g<{\@4(;  
7.5  斜入射导纳图 141 ,Hn{nVU1R=  
7.6  对称周期 141 Z?Y14L~%  
7.7  参考文献 142 C]K|;VQ  
8  典型的镀膜实例 143 gq4le=,v  
8.1  单层抗反射薄膜 145 smW 7zGE  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 Fu:VRul=5$  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 eS9uKb5n(  
8.4  W-膜层 148 Q1? !,a  
8.5  V-膜层 149 PJLSDIeN  
8.6  V-膜层高折射基底 150 TyVn5XHl^  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 pq$`T|6^  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 pTPWToKh  
8.9  四层抗反射薄膜 153 0\84~t'[  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 E'zLgU)r`  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 XhjH68S(  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 tWy0% -  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 gnF]m0LR  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 hDI_qZ  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 8?AFvua}r  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 O`R@6KG  
8.17  1/4波长堆栈 162 &u0JzK  
8.18  陷波滤波器 163 1*<m,.$  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 ],9%QE  
8.20  褶皱 165 \zCT""'i  
8.21  消偏振分光器1 169 vfPL;__{Y]  
8.22  消偏振分光器2 171 uuW._$.A>  
8.23  消偏振立体分光器 172 ^%tmHDNL.  
8.24  消偏振截止滤光片 173 fOs}5J  
8.25  立体偏振分束器1 174 Y S )Q#fP  
8.26  立方偏振分束器2 177 hOjy$Z  
8.27  相位延迟器 178 A46z2  
8.28  红外截止器 179 daS l.:1  
8.29  21层长波带通滤波器 180 r=lhYn  
8.30  49层长波带通滤波器 181 $ \0)~cy  
8.31  55层短波带通滤波器 182 ousvsP%'  
8.32  47 红外截止器 183 ,;9byb  
8.33  宽带通滤波器 184 ~ {OBRC  
8.34  诱导透射滤波器 186 wd&Tf R4!  
8.35  诱导透射滤波器2 188 jy#'oadS?  
8.36  简单密集型光波复用（DWDM）滤波器 190 s 8O"U%  
8.37  高级密集型光波复用技术（DWDM）滤波器 192 @*'$QD,  
8.35  增益平坦滤波器 193 H;5FsKIF  
8.38  啁啾反射镜 1 196 ^y"5pfSR  
8.39  啁啾反射镜2 198 ,tBb$T)7<  
8.40  啁啾反射镜3 199 uzjP!qO  
8.41  带保护层的铝膜层 200 D0NSzCHx  
8.42  增加铝反射率膜 201 -)_"7}|u5  
8.43  参考文献 202 Ux5pw  
9  多层膜 204 MBZ/Pzl~  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 !*#2~$:  
9.2  内部透过率 204 G*.}EoA  
9.3 内部透射率数据 205 {1a%CsCM  
9.4  实例 206 b`M 2VZu  
9.5  实例2 210 Bbk=0+ ^8I  
9.6  圆锥和带宽计算 212 \=3V]7\&  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 T;jy2|mLo  
10  光学薄膜的颜色 216 %!Z9: +;B  
10.1  导言 216 . AJ(nJ)  
10.2  色彩 216 6S*L[zBnA\  
10.3  主波长和纯度 220 ;#a^M*e  
10.4  色相和纯度 221 zi M~V'  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 62{(i'K  
10.6 色差 226 6Ap-J~4  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 8{QN$Qkn  
10.8  颜色渲染指数 234 ?86q8E3;&  
10.9  色差计算 235 8XF
s)1s[  
10.10  参考文献 236 '*K}$+l  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 \/E+nn\)  
11.1  短脉冲 238 @,btQ_'X  
11.2  群速度 239 "`;$wA  
11.3  群速度色散 241 K)!yOa'fH  
11.4  啁啾(chirped) 245 UbDRzum  
11.5  光学薄膜—相变 245 36ygI0V_  
11.6  群延迟和延迟色散 246 )nncCUW  
11.7  色度色散 246 BC|=-^(  
11.8  色散补偿 249 tS|gQUF17  
11.9  空间光线偏移 256 O2z{>\  
11.10  参考文献 258 1
nHQ)od  
12  公差与误差 260 EC
q(i(  
12.1  蒙特卡罗模型 260 l\+^.ezD  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 KY}c}*0  
12.2.1  误差工具 267 i|5.DhK}  
12.2.2  灵敏度工具 271 J0xV\O !e  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 &z'NQ!uV  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 BCy# Td  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 |"t)#BUtL  
12.3  参考文献 276 N$cm;G=]  
13  Runsheet 与Simulator 277 `v;9!ReZV  
13.1  原理介绍 277 X9ua&T2(l  
13.2  截止滤光片设计 277 l;+n
L[%`  
14  光学常数提取 289 Q)`3&b  
14.1  介绍 289 ^t X}5i`P  
14.2  电介质薄膜 289 *2nQZ^c.  
14.3  n 和k 的提取工具 295 w +pK=R  
14.4  基底的参数提取 302 "}"hQ.kAz  
14.5  金属的参数提取 306 v2Lx4:dzi  
14.6  不正确的模型 306 H[H+s!)"  
14.7  参考文献 311 OAlV7cfD  
15  反演工程 313  Xaz`L  
15.1  随机性和系统性 313 +OEheG8  
15.2  常见的系统性问题 314 ^tp6G  
15.3  单层膜 314 1#]0\Y(  
15.4  多层膜 314 4gyC?#Ed
e  
15.5  含义 319 suo;+T=`I  
15.6  反演工程实例 319 tsGt,]O30  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 'aj97b;lpG  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 "e)C.#3  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 S_ELZO#7  
16.1  光学性质的热致偏移 329 c4\N
uy  
16.2  应力工具 335 W>^WNo3YQ$  
16.3  均匀性误差 339 WD`z\{hcom  
16.3.1  圆锥工具 339 c%?31t  
16.3.2  波前问题 341 E[IjeJB5  
16.4  参考文献 343 2=?:(e9  
17  如何在Function（模块）中编写操作数 345 H YA<  
17.1  引言 345 3c%dErch  
17.2  操作数 345 S9cAw5E(yN  
18  如何在Function中编写脚本 351 -MA/:EB  
18.1  简介 351 Vn7
FbaO^  
18.2  什么是脚本？ 351 aRt`IcZYz  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 -XuRQ_)nG  
18.4  基础 352 d3,%Z &  
18.4.1  Classes（类别） 352 Ah_,5Z@&R  
18.4.2  对象 352 H!H&<71
-  
18.4.3  信息（Messages） 352 pUp&eH  
18.4.4  属性 352 2cnyq$4k  
18.4.5  方法 353 bi:TX<K+  
18.4.6  变量声明 353 F\K&$
5J{p  
18.5  创建对象 354 d9qA\ [  
18.5.1  创建对象函数 355 Z30r|Ufh  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 7{"urs7 T  
18.5.3 丢弃对象 356 By&ibN),  
18.5.4  总结 356 sWG_MEbu  
18.6  脚本中的表格 357 -gq,^j5,  
18.6.1  方法1 357 %I`%N2ss  
18.6.2  方法2 357 o.o$dg(r!  
18.7 2D Plots in Scripts 358 F"G]afI9+  
18.8 3D Plots in Scripts 359 X 

npn{  
18.9  注释 360 }=7? & b  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 ?FV>[&-h#I  
18.11  一个更高级的脚本 362 vq?aFX9F  
18.12  <esc>键 364 G(Ky7SZ  
18.13 包含文件 365 DI>SW%)>  
18.14  脚本被优化调用 366 PfrzrRahb  
18.15  脚本中的对话框 368 8.Z9 i  
18.15.1  介绍 368 EFk9G2@_  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 $\9M6k'  
18.15.3  输入框函数 370 >>>&{>}!  
18.15.4  自定义对话框 371  << X
WL:  
18.15.5  对话框编辑器 371 zJMm=Mw^  
18.15.6  控制对话框 377 G
\PFh&  
18.15.7  更高级的对话框 380 .)Wqo7/Gx  
18.16 Types语句 384 *)8!~Hs  
18.17 打开文件 385 8Ry%HV9VE  
18.18 Bags 387 '0jjoZ:  
18.13  进一步研究 388 Zf,9 k".'C  
19  vStack 389 =Z(_lLNmh  
19.1  vStack基本原理 389 ||}'  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 SQSPdR+  
19.3  五棱镜 393 H,Y+n)5  
19.4 光束距离 396 izvwXC  
19.5 误差 399 ~BbF:DS  
19.6  二向分色棱镜 399 pWm==Ds|  
19.7  偏振泄漏 404 p7Xe[94d^  
19.8  波前误差—相位 405 Q)s`~G({P  
19.9  其它计算参数 405 ?TLzOYJp  
20  报表生成器 406 #Rj&PzBe  
20.1  入门 406 0rA&Q0  
20.2  指令(Instructions) 406 |jhu  
20.3  页面布局指令 406 G.B~n>}JU,  
20.4  常见的参数图和三维图 407 -~rZ| W~v  
20.5  表格中的常见参数 408 `0z8J*T]  
20.6  迭代指令 408 rGt/ /6  
20.7  报表模版 408 D=^|6}  
20.8  开始设计一个报表模版 409 qF? n&>YG  
21  一个新的project 413 `^G?+p2E  
21.1  创建一个新Job 414 "BvAiT
{u  
21.2  默认设计 415 XD8Q2un  
21.3  薄膜设计 416 "oLY";0(=  
21.4  误差的灵敏度计算 420 `JZ`j7f  
21.5  显色指数计算 422 ;) (F4  
21.6  电场分布 424 +\yQZ{4'@  
后记 426 6E))4 lW  
9l&4mt;+&<  
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T~ce@  
书籍名称：《Essential Macleod中文手册》 ui!MQk+D9  
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《Essential Macleod中文手册》 J};=)xLX;  
Ty5}5)CRZ  
目  录 8w\ZY>d  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 of<(4<T  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 Ni Y.OwKr  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 @\}w8  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 i[N=.  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 g?1! /+  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 XnNU-UCX  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 ^)i1b:4  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 C'S&  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 ^- H  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 1c19$KHu  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 2)4oe  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 %1UdG6&J_  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 |<Rf^"T  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 3j}@}2D  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 gQ;1SY!  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 `F,*NESv  
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价  格：400元