时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 @m5c<(bkfp
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天 AM 9:00-PM 16:00 3"BSP3/[l
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 F9}
zt 9
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 DsB30
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
特邀专家介绍
E2xK GK iQJa6QF&: 易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事
光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率
激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。
?gsPHP US 获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要
vfd<qdi3p( 随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。
oE.Ckz~*d 本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲
;J@U){R 1. Essential Macleod软件介绍
A"B#t" 1.1 介绍
软件 L6?~<#-m\M 1.2 创建一个简单的设计
^w!1QH0:/ 1.3 绘图和制表来表示性能
DPlDuUOd 1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据
kwXUjnp 1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann)
3'Hz,qP 1.6 特定设计的公式技术
XDY QV.Bv 1.7 交互式绘图
upLjkQ)_ 2. 光学薄膜理论基础
qyBC1an5, 2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算
v<Ywfb 2.2 后表面对光学薄膜特性的影响
ew \WV" 3. 材料管理
EI9;J-c 3.1 材料模型
p[O\}MAd# 3.2 介质薄膜光学常数的提取
vX7U|zy 3.3 金属薄膜光学常数的提取
.L9g*q/} 3.4 基板光学常数的提取
i zYC0T9 4. 光学薄膜设计
优化方法
$bDaZGy 4.1 参考
波长与g
5hHLC7tT9 4.2 四分之一规则
yH(3 m# 4.3 导纳与导纳图
?KB]
/gT^ 4.4 斜入射光学导纳
RWRqu }a 4.5 光学薄膜设计的进展
d8uDSy 4.6 Macleod软件的设计与优化功能
hx*4xF 4.6.1 优化目标设置
Hd\.,2a" 4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法)
q;lR|NOh 4.6.3 膜层锁定和链接
67;6nXG0K 5. Essential Macleod中各个模块的应用
&mW7FR'( 5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估
r#A*{4wz 5.2 光通信用窄带滤光片模拟
Qgf\"s 5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号
27+~!R~Yw 5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟
f|=u{6 5.5 如何在Function中编写脚本
oiIl\#C 6. 光学薄膜系统案例
bU/4KZ'-^ 6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等
v}J0j 6.2 仿生蛾眼/复眼结构等
9Trk&OB 6.3 Stack应用范例说明
'`YZJ 7. 薄膜性能分析
C;5`G
*e 7.1 电场分布
~F53{qxV 7.2 公差与灵敏度分析
+!GJ 7.3 反演工程
jJaMkF;f 7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真
l1#.rg 8. 真空技术
H+562W 8.1 常用真空泵介绍
ek. @ 0c 8.2 真空密封和检漏
aZ|?i
} 9. 薄膜制备技术
^D]J68)#a 9.1 常见薄膜制备技术
/N({"G' 10. 薄膜制备工艺
S[gACEZ = 10.1 薄膜制备工艺因素
W':b6}? 10.2 薄膜均匀性修正技术
qDTdYf 10.3 光学薄膜监控技术
v
k=|TE 11. 激光薄膜
d&+0JI< 11.1 薄膜的损伤问题
$bD`B'5 11.2 激光薄膜的制备流程
t`'jr=e,~ 11.3 激光薄膜的制备技术
`dD_"Hdt 12. 光学薄膜特性测量
L
}3eZ- 12.1 薄膜
光谱测量
D)bL;h 12.2 薄膜光学常数测量
Q lA?dXQ 12.3 薄膜应力测量
QFnpp\K 12.4 薄膜损伤测量
S8B?uU 12.5 薄膜形貌、结构与组分分析
5]GgjQ
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系
书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
gTgoS:M"_O
内容简介
>&Oql9_ Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。
a'`?kBK7`U 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。
MRw4?HqB 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。
eX>*}pI SSxz1y 讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
o
^ \+Ua Q-!gO 目录
wx[m-\ Preface 1
qp)Wt6 k? 内容简介 2
uO-|?{29 目录 i
$_,-ESI 1 引言 1
P;@j 2 光学薄膜基础 2
Z:<an+v|5 2.1 一般规则 2
Xtfs)" 2.2 正交入射规则 3
DRR)mQBb 2.3 斜入射规则 6
Qclq^|O0 2.4 精确计算 7
{;E6jw@ 2.5 相干性 8
Cl9rJ oT 2.6 参考文献 10
dWQB1Y*N 3 Essential Macleod的快速预览 10
y.I&x#(^ 4 Essential Macleod的特点 32
V@T(%6<| 4.1 容量和局限性 33
QxA( *1 4.2 程序在哪里? 33
(hdu+^Qj= 4.3 数据文件 35
~bm'i%$k 4.4 设计规则 35
oPF]]Imu 4.5 材料数据库和
资料库 37
jDqG9] 4.5.1材料损失 38
VH~YwO!x 4.5.1材料数据库和导入材料 39
b- e 4.5.2 材料库 41
oGB|k]6]| 4.5.3导出材料数据 43
x{8h3.ZQ, 4.6 常用单位 43
i9De+3VqKK 4.7 插值和外推法 46
Z~QLjv&$/r 4.8 材料数据的平滑 50
@{q<"hT 4.9 更多光学常数模型 54
8PH4v\tJEK 4.10 文档的一般编辑规则 55
/gl8w-6 4.11 撤销和重做 56
Dw7Xy}I/ 4.12 设计文档 57
|,5|ZpgL 4.10.1 公式 58
zRD-[Z/- 4.10.2 更多关于膜层厚度 59
A7%/sMv 4.10.3 沉积密度 59
UOf\pG 4.10.4 平行和楔形介质 60
,OubKcNg 4.10.5 渐变折射率和散射层 60
1AN$s
4.10.4 性能 61
Osm))Ua( 4.10.5 保存设计和性能 64
j*gJP
! 4.10.6 默认设计 64
7(X
z%v 4.11 图表 64
"f_qG2A{ 4.11.1 合并曲线图 67
);VuZsmi 4.11.2 自适应绘制 68
s[y.gR.( 4.11.3 动态绘图 68
D>7J[ Yxg- 4.11.4 3D绘图 69
c`p'5qz 4.12 导入和导出 73
t"YsIOT:O" 4.12.1 剪贴板 73
k_,&
Q?GtU 4.12.2 不通过剪贴板导入 76
(DY[OIHI 4.12.3 不通过剪贴板导出 76
^i Jyo&I 4.13 背景 77
<=&$+3r 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80
bKGX>
%- 4.15 生成Rugate 84
Y8]@y0( 4.16 参考文献 91
zD<W`_z 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92
Ikf[K%NKn 5.1 Jobs 92
qD ?`Yd 5.2 创建一个新Job(工作) 93
=t)qy5 5.3 输入材料 94
oPr`SYB 5.4 设计数据文件夹 95
dH;2OWM 5.5 默认设计 95
uOeal^uS 6 细化和合成 97
9QLG:(~; 6.1 优化介绍 97
qf\W,SM 6.2 细化 (Refinement) 98
Jj+Q2D: 6.3 合成 (Synthesis) 100
M1xsGa9h& 6.4 目标和评价函数 101
tx>7?e8E 6.4.1 目标输入 102
K&`1{, 6.4.2 目标 103
;J TY#)Bh 6.4.3 特殊的评价函数 104
|r Aot2 6.5 层锁定和连接 104
uf#h~;B 6.6 细化技术 104
kt)Et 6.6.1 单纯形 105
7]zZdqG&p` 6.6.1.1 单纯形
参数 106
+"<+JRI(M5 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107
r>peKo[X( 6.6.2.1 Optimac参数 108
{FI*oO1A~ 6.6.3 模拟退火算法 109
[UI>SN 6.6.3.1 模拟退火参数 109
;[R6rVHe{ 6.6.4 共轭梯度 111
j\~,Gtn>Z 6.6.4.1 共轭梯度参数 111
o4WQA"VxM 6.6.5 拟牛顿法 112
yiC7)= 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112
wCNn/%C 6.6.6 针合成 113
2I }p X9 6.6.6.1 针合成参数 114
A8vd@0 6.6.7 差分进化 114
4BCe;Q^6 6.6.8非局部细化 115
$$NWN?H~ 6.6.8.1非局部细化参数 115
*}lLV.+A 6.7 我应该使用哪种技术? 116
rx2']. 6.7.1 细化 116
px K&aY8 6.7.2 合成 117
"d$~}=a[ 6.8 参考文献 117
zT78FliY6 7 导纳图及其他工具 118
77O$^fG2 7.1 简介 118
=b:XL#VA 7.2 薄膜作为导纳的变换 118
)8W! | 7.2.1 四分之一波长规则 119
8(\}\4G_ 7.2.2 导纳图 120
196a~xNV 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124
1l#46?]~ 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125
bp:`m>4< 7.5 斜入射导纳图 141
^%9oeT{ 7.6 对称周期 141
ylZQwICk 7.7 参考文献 142
%T]^,y$n 8 典型的镀膜实例 143
N:| :L:<1 8.1 单层抗反射薄膜 145
N, Ma\D+^t 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146
37zBX~ 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147
Z5 IWoY 8.4 W-膜层 148
r9_ ON| 8.5 V-膜层 149
]E<Z5G1HD 8.6 V-膜层高折射基底 150
YJ6~P 8.7 V-膜层高折射率基底b 151
W"vLCHTh 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152
Ldz]FB| 8.9 四层抗反射薄膜 153
5U475& 8.10 Reichert抗反射薄膜 154
CLaQE{ 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155
<3B^5p\/ 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156
.u7}p# 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157
bLai@mL&a 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158
?/3wO/7[ 8.15十五层宽带抗反射膜 159
V)<>W_g 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161
,]2?S5R 8.17 1/4波长堆栈 162
c{/R?< 8.18 陷波滤波器 163
'2r 8.19 厚度调制陷波滤波器 164
1WMZ$vsQUb 8.20 褶皱 165
;b0Q%TDh 8.21 消偏振分光器1 169
CwX?%$S
8.22 消偏振分光器2 171
i86:@/4~F 8.23 消偏振立体分光器 172
lrv-[}} 8.24 消偏振截止滤光片 173
^}-l["u` 8.25 立体偏振分束器1 174
rS BI'op 8.26 立方偏振分束器2 177
4@-tT;$ 8.27 相位延迟器 178
)-3~^Y#r_ 8.28 红外截止器 179
:.*Q@X}-I 8.29 21层长波带通滤波器 180
gS+X% 8.30 49层长波带通滤波器 181
pKc!sdC 8.31 55层短波带通滤波器 182
9<_hb1' 8.32 47 红外截止器 183
03fOm 8.33 宽带通滤波器 184
fg)*TR 8.34 诱导透射滤波器 186
XZ
|L D# 8.35 诱导透射滤波器2 188
<=7nTcO~ 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190
VAL?
Z 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192
k2D*`\
D 8.35 增益平坦滤波器 193
*m"9F'(Sd 8.38 啁啾反射镜 1 196
ta)gOc)r
R 8.39 啁啾反射镜2 198
gFTU9k< 8.40 啁啾反射镜3 199
]%6%rq%9C 8.41 带保护层的铝膜层 200
.4CDQ&B0K 8.42 增加铝反射率膜 201
oDA'$]UL 8.43 参考文献 202
3HrG^/ 9 多层膜 204
l7VO8p]y[R 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204
7#E/Q~]'6 9.2 内部透过率 204
s1 >8uW 9.3 内部透射率数据 205
]20:8l' 9.4 实例 206
*LB-V%{|' 9.5 实例2 210
|M7C=z=' 9.6 圆锥和带宽计算 212
,"`20.Lv 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214
G!I++M" 10 光学薄膜的颜色 216
[}4zqY{ 10.1 导言 216
%>*?uO`z[ 10.2 色彩 216
F-3=eKZ 10.3 主波长和纯度 220
"^$Ht`p[ 10.4 色相和纯度 221
E"E(<a 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222
eQ[akVMk 10.6 色差 226
MM32\}Y6 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227
V4Rs 10.8 颜色渲染指数 234
Sn-#Y(>]o0 10.9 色差计算 235
"QOQ 10.10 参考文献 236
gV@xu)l 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238
$JOz7j( 11.1 短脉冲 238
>k"O3Pc@ 11.2 群速度 239
i\IpS@/{-v 11.3 群速度色散 241
bKS/T^UQ 11.4 啁啾(chirped) 245
*/K[B(G 11.5 光学薄膜—相变 245
2@a'n@- 11.6 群延迟和延迟色散 246
)isS^O$qH 11.7 色度色散 246
HAO-|=c4 11.8 色散补偿 249
GhfhR^P 11.9 空间
光线偏移 256
U=D;CjAh 11.10 参考文献 258
961&rR}d 12 公差与误差 260
F[\T'{ 12.1 蒙特卡罗模型 260
#eKKH]J/ 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267
MlWKfe< 12.2.1 误差工具 267
OG<*&V 12.2.2 灵敏度工具 271
jj&G[-"bv 12.2.2.1 独立灵敏度 271
rwDLBpk 12.2.2.2 灵敏度分布 275
bnfeZR1m_ 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276
85#
3|5n 12.3 参考文献 276
ph6/+[: 13 Runsheet 与Simulator 277
=~O3j:<6 13.1 原理介绍 277
$CB&>?~ 13.2 截止滤光片设计 277
h's[)
t 14 光学常数提取 289
&pI\VIx ? 14.1 介绍 289
|5;,]lbt 14.2 电介质薄膜 289
KN_n :`cH{ 14.3 n 和k 的提取工具 295
O])vR< [ 14.4 基底的参数提取 302
|E K6txRb 14.5 金属的参数提取 306
3)VO{Cj! 14.6 不正确的模型 306
c= 2E/x? 14.7 参考文献 311
9'p| [?]v 15 反演工程 313
+jrx;xwot 15.1 随机性和系统性 313
`P\H{ 15.2 常见的系统性问题 314
;,U@zB;\%( 15.3 单层膜 314
jF6Q:`k 15.4 多层膜 314
a)2l9 15.5 含义 319
7x`$ A 15.6 反演工程实例 319
1<@lM8&.kO 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320
9Y2u/|!.3 15.6.2 反演工程提取折射率 327
*}:P 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329
]kNxytH\o 16.1 光学性质的热致偏移 329
bzpi7LKN 16.2 应力工具 335
4Ty?>'*| 16.3 均匀性误差 339
;0_T\{H"nR 16.3.1 圆锥工具 339
=z5=? 16.3.2 波前问题 341
#p=+RTZ< 16.4 参考文献 343
# d"M(nt 17 如何在Function(模块)中编写操作数 345
{!(
htg; 17.1 引言 345
!(bYh`Uy 17.2 操作数 345
CPa+?__B 18 如何在Function中编写脚本 351
mu0L_u(P 18.1 简介 351
>7a
ENKOg: 18.2 什么是脚本? 351
q:up8-LAr 18.3 Function中脚本和操作数对比 351
8Ie0L3d- 18.4 基础 352
Y]R=z*i% 18.4.1 Classes(类别) 352
LL:N/1ysG 18.4.2 对象 352
2FL_!;p;2E 18.4.3 信息(Messages) 352
br0\O 18.4.4 属性 352
T\zn&6 18.4.5 方法 353
\W_ Dz*N 18.4.6 变量声明 353
q@1A2L\Om 18.5 创建对象 354
zhE4:g9v 18.5.1 创建对象函数 355
"j`T'%EV 18.5.2 使用ThisSession和其它对象 355
;N!n06S3 18.5.3 丢弃对象 356
:zC=JvKT 18.5.4 总结 356
hQ%X0X, 18.6 脚本中的表格 357
x?6^EB|@ 18.6.1 方法1 357
fm^tU0DY 18.6.2 方法2 357
S%]4['Y 18.7 2D Plots in Scripts 358
hBZh0xy 18.8 3D Plots in Scripts 359
9[{q5 18.9 注释 360
;,/G*`81B 18.10 脚本管理器调用Scripts 360
6UN{Vjr%` 18.11 一个更高级的脚本 362
L) _ VdB 18.12 <esc>键 364
k"dE?v\cG 18.13 包含文件 365
Yo5ged]i 18.14 脚本被优化调用 366
!N:w?zsp 18.15 脚本中的对话框 368
~Gg19x.#uW 18.15.1 介绍 368
%D7^. 18.15.2 消息框-MsgBox 368
{>R933fap 18.15.3 输入框函数 370
`T2DGv 18.15.4 自定义对话框 371
|a1zJ_t4 18.15.5 对话框编辑器 371
'bji2#z[ 18.15.6 控制对话框 377
muK)Yw[#N 18.15.7 更高级的对话框 380
UQ e1rf 18.16 Types语句 384
I`{=[.c 18.17 打开文件 385
ciHTnC 18.18 Bags 387
K/(Z\lL 18.13 进一步研究 388
B
4e}% 19 vStack 389
5*"WS $ 19.1 vStack基本原理 389
m&*0<N 19.2 一个简单的系统——直角棱镜 391
'wLW`GX. 19.3 五棱镜 393
k3
' 5Ei 19.4 光束距离 396
<1V>0[[e 19.5 误差 399
>]bS"S 19.6 二向分色棱镜 399
,E(M<n|. 19.7 偏振泄漏 404
&6Wim<* 19.8 波前误差—相位 405
iQh:y:Jo1& 19.9 其它计算参数 405
F>u/Lh! 20 报表生成器 406
kx0w?A8- 20.1 入门 406
:OaGdL 20.2 指令(Instructions) 406
s;[64ca]Q 20.3 页面布局指令 406
>vfLlYx 20.4 常见的参数图和三维图 407
wzI*QXV2s 20.5 表格中的常见参数 408
9Xh<vh8& 20.6 迭代指令 408
H~<wAer,Op 20.7 报表模版 408
Iak06E 20.8 开始设计一个报表模版 409
ciPaCrV 21 一个新的project 413
z\IZ5' 21.1 创建一个新Job 414
\y/0)NL\ 21.2 默认设计 415
6`'K M/ 21.3 薄膜设计 416
{2&MyxV 21.4 误差的灵敏度计算 420
Zvz}Z8jW 21.5 显色指数计算 422
p_sqw~)^% 21.6 电场分布 424
xO
1uHaL 后记 426
6nk.q|n:g R<>uCF0 41XXL$ 书籍名称:《Essential Macleod中文手册》
?7*J4. apm,$Vvjy 《Essential Macleod中文手册》
TkjZI}]2 ?rwHkPJ{* 目 录
+Kg3qS" ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析
Ef6LBNWY. 第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3
QTI^?@+N> 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17
iHOvCrp+X 第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44
,6\oT;G 第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100
8x6{[Tx
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111
'P >h2^z 第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120
W QyMM@# 第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167
`X wKCI 第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200
fPsUIlI/A 第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213
u&Y1,:hiL 第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251
~M J3-<I 第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284
(<5&<JC{ 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297
}KL( -Ui$ 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307
*&yt;|y 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312
Ds%~J 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
Js8d{\0\ ;hU~nj+{ 价 格:400元