[培训]上海｜薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25（三）-27日（五） [复制链接]

特邀专家介绍 P7XZ|Td4*
 
bAZoi0LR  
易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，研究生导师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 ;98b SR/  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 3U{ mC}F  
随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 ^WO3,  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 =IsmPQKi  
1. Essential Macleod软件介绍 y2#>a8SRS  
1.1 介绍软件 ?`Yu~a{  
1.2 创建一个简单的设计 Nbd4>
M<  
1.3 绘图和制表来表示性能 6Lq
`zU^  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 D0FX"B
Y7  
1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） :.e'?a  
1.6 特定设计的公式技术 &`l\Q\_[@  
1.7 交互式绘图 WK`o3ayH-  
2. 光学薄膜理论基础 VGeTX 4h  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 KQNQ<OE4  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 AF{uFna  
3. 材料管理 )4=86>XJT  
3.1 材料模型 d/Q#Z  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 <}{<FXk[  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 iv~R4;;)  
3.4 基板光学常数的提取 j*?8w(!  
4. 光学薄膜设计优化方法 ^:{8z;w!(  
4.1 参考波长与g Q
/4-7  
4.2 四分之一规则 >S7t  
4.3 导纳与导纳图 ]|CcQ1#|H  
4.4 斜入射光学导纳 m1pA]}Y/5o  
4.5 光学薄膜设计的进展 K'Ywv@  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 mufGv%U2  
4.6.1 优化目标设置 -a)1L'R  
4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法） )Ri!  
4.6.3 膜层锁定和链接 9AVj/?kmU  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 +Pl)E5W!=`  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 H_RfIX)X  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 \s*UUODWK  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 #kM|!U=  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 {k3ItGQ_  
5.5 如何在Function中编写脚本 #MA6eE'R  
6. 光学薄膜系统案例 i#*[, P~  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 `&D#P%  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 x!_5/  
6.3 Stack应用范例说明 E,6|-V;?  
7. 薄膜性能分析 PG63{  
7.1 电场分布 Q&]|W Xv  
7.2 公差与灵敏度分析 9Y.(xp &vw  
7.3 反演工程 }9"''Z  
7.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真 LsWD^JE.  
8. 真空技术 yk8b>.Y\A  
8.1 常用真空泵介绍 2]mV9B   
8.2 真空密封和检漏 ~x,_A>a  
9. 薄膜制备技术 dBd7#V:}yV  
9.1 常见薄膜制备技术 .b]sQ'  
10. 薄膜制备工艺 <4Gy~?  
10.1 薄膜制备工艺因素 (BLxK)0<"  
10.2 薄膜均匀性修正技术 ^_ch%3}Im  
10.3 光学薄膜监控技术 Wm6qy6HR  
11. 激光薄膜 AE77i,Xa  
11.1 薄膜的损伤问题 \:J=tAC  
11.2 激光薄膜的制备流程 -rsbSt ?_  
11.3 激光薄膜的制备技术 dHIk3j-!  
12. 光学薄膜特性测量 ;|vP|X
i  
12.1 薄膜光谱测量 53:~a  
12.2 薄膜光学常数测量 S9l,P-X`  
12.3 薄膜应力测量 s<{ Hu0K$  
12.4 薄膜损伤测量 $$m0mK
  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析内容简介 q|<B9Jk  
Macleod软件自带的用户手册功能全面，其介绍涵盖了软件的方方面面，能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而，为了顺应目前薄膜行业的需求，急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍，以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作，因此，我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 33DP?nI}  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（原著第二版）是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结，结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod，其内容丰富，实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法，还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题，如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节，首先，从光学薄膜的基本理论出发（第2章），为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次，在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作，以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后，从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合，从而使大家将理论知识与实际经验结合起来，对实际镀膜提出实用的建议，以减少设计时间并降低生产成本。 -NJpql{Cb  
薄膜光学涵盖范围很广，书中并附设计光盘和参考文献，有兴趣者可依此深入研究，为精准起见，在不影响理解的情况下，尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助，通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限，书中错误纰漏之处在所难免，本书若有不周之处，尚请读者不吝赐教。 @KL&vm(F$  
CO`)XB6W  
|;US)B8}*Z  
u"q
VT9C$=  
目录 6HK1?  
Preface 1 J1}\H$*X  
内容简介 2 Vq+7 /+2"  
目录 i ~Tt@v`}  
1  引言 1 @
\&j3A  
2  光学薄膜基础 2 m&gd<rt/  
2.1  一般规则 2 j<~Wp$\i7>  
2.2  正交入射规则 3 !*:g??[T  
2.3  斜入射规则 6 Ge`7`D>L  
2.4  精确计算 7 G~1;_'  
2.5  相干性 8 )oCL![^pXe  
2.6 参考文献 10 l48$8Mgrr  
3  Essential Macleod的快速预览 10 id:,\iJ  
4  Essential Macleod的特点 32 ym{@w3"S  
4.1  容量和局限性 33 O(W"QY  
4.2  程序在哪里？ 33 ndLEIqOY  
4.3  数据文件 35 #1haq[Uv7  
4.4  设计规则 35 %8n<#0v-|4  
4.5  材料数据库和资料库 37 gttsxOgktH  
4.5.1材料损失 38 +H3~Infr4f  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 }eVDe(7_  
4.5.2 材料库 41 Acw`ytV  
4.5.3导出材料数据 43 89:nF#  
4.6  常用单位 43 `'s_5Ek  
4.7  插值和外推法 46 vSnVq>-q&  
4.8  材料数据的平滑 50 iXm&\.%  
4.9 更多光学常数模型 54 Sqn>L`L
z  
4.10  文档的一般编辑规则 55 h7+"*fN  
4.11 撤销和重做 56 ura&9~  
4.12  设计文档 57 qkhre3  
4.10.1  公式 58 x4v:67_^  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 v
,}C~L3  
4.10.3  沉积密度 59 ~JT2el2W7p  
4.10.4 平行和楔形介质 60 Hes!uy  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 1TTS@\  
4.10.4  性能 61 .F7?}8>Z  
4.10.5  保存设计和性能 64 t}R!i-D|HB  
4.10.6  默认设计 64 S} UYkns*  
4.11  图表 64 W\>O$IX^e  
4.11.1  合并曲线图 67 ywp_,j9F  
4.11.2  自适应绘制 68 /}@F q  
4.11.3  动态绘图 68 ]z'L1vQl7  
4.11.4  3D绘图 69 ;t+p2i  
4.12  导入和导出 73 : 2%eh  
4.12.1  剪贴板 73 c-hc.i}!  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 YWn""
8p;P  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 iqR6z\p&  
4.13  背景 77 M@es8\&S.  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 /)TeG]Xg  
4.15  生成Rugate 84 "m^gCN}c  
4.16  参考文献 91 @\F7nhSfa  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 3q4Zwv0z20  
5.1  Jobs 92 Xd:{.AXW  
5.2  创建一个新Job（工作） 93 &C MBTY#u  
5.3  输入材料 94 5b rM..  
5.4  设计数据文件夹 95 liYsUmjZ=  
5.5  默认设计 95 =i
W hK~S  
6  细化和合成 97 ^*l dsc  
6.1  优化介绍 97 Jy:*GW6  
6.2  细化 (Refinement) 98 a.<XJ\  
6.3  合成 (Synthesis) 100 RTVU3fw  
6.4  目标和评价函数 101 R^`}DlHX  
6.4.1  目标输入 102 )>h3IR  
6.4.2  目标 103 w aniCEo  
6.4.3  特殊的评价函数 104 5*2hTM!  
6.5  层锁定和连接 104 @VP/kut  
6.6  细化技术 104 je$H}D  
6.6.1  单纯形 105 pHR`%2!"t  
6.6.1.1 单纯形参数 106 X$==J St  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 yI8O#  
6.6.2.1 Optimac参数 108 WY|~E
%k  
6.6.3  模拟退火算法 109 ,9G'1%z,  
6.6.3.1　模拟退火参数 109 Ydsnu  
6.6.4  共轭梯度 111 4'D^>z!c  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 'KmM%tN  
6.6.5  拟牛顿法 112 >AV
9 K  
6.6.5.1 拟牛顿参数： 112 x=>dmi3  
6.6.6  针合成 113 =?Ry,^=b  
6.6.6.1 针合成参数 114 w@2NXcmw  
6.6.7 差分进化 114 NUnwf h  
6.6.8非局部细化 115 vrmMEWPV  
6.6.8.1非局部细化参数 115 1sza\pR<  
6.7  我应该使用哪种技术？ 116 /|U;_F Pmc  
6.7.1 　细化 116 )Mq4p'*A[  
6.7.2　 合成 117 *8qRdI9  
6.8  参考文献 117 "8a V~]~Dj  
7  导纳图及其他工具 118 "T /$K  
7.1  简介 118 ^Vth;!o  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 -U>)B  
7.2.1  四分之一波长规则 119 uq6>K/~D  
7.2.2  导纳图 120 MA tF
,  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 =^M Q 4  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 :Hitx  
7.5  斜入射导纳图 141 d^?e*USh  
7.6  对称周期 141 M"c=_5P  
7.7  参考文献 142 H '5zl^8I  
8  典型的镀膜实例 143 oSYJXs  
8.1  单层抗反射薄膜 145 Ld:-S,2  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 68~]_r.a  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 'GW~
~UhdW  
8.4  W-膜层 148 #lFsgb  
8.5  V-膜层 149 hT=E~|O  
8.6  V-膜层高折射基底 150 *W |  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 
BpFXe7  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 Yc[vH=gV}  
8.9  四层抗反射薄膜 153  wD  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 2bXCFv7}  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 %j2:W\g:  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 C]ho7qC  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 U>n.+/ss  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 R90chl  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 JvT#Fxjk  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 sWA-_4  
8.17  1/4波长堆栈 162 \HoVS  
8.18  陷波滤波器 163 MkZoHzg}c  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 !+hw8@A  
8.20  褶皱 165 Nsy>qa7  
8.21  消偏振分光器1 169 IL&R&8'  
8.22  消偏振分光器2 171 *Q [%r  
8.23  消偏振立体分光器 172 B_c-@kl   
8.24  消偏振截止滤光片 173 (F R  
8.25  立体偏振分束器1 174 g$=']A?W_  
8.26  立方偏振分束器2 177 H-& ktQWK3  
8.27  相位延迟器 178 jRk1Iu|7  
8.28  红外截止器 179 7'.6/U  
8.29  21层长波带通滤波器 180 Ov:U3P?%  
8.30  49层长波带通滤波器 181 tPJU,e)  
8.31  55层短波带通滤波器 182 eZpi+BRS6  
8.32  47 红外截止器 183 #B$_ily)  
8.33  宽带通滤波器 184  #s=\  
8.34  诱导透射滤波器 186 @MH/efW.  
8.35  诱导透射滤波器2 188 #R=6$  
8.36  简单密集型光波复用（DWDM）滤波器 190 O[
}2  
8.37  高级密集型光波复用技术（DWDM）滤波器 192 ewYk>  
8.35  增益平坦滤波器 193 B`%%,SLJ  
8.38  啁啾反射镜 1 196 BYI13jMH+Y  
8.39  啁啾反射镜2 198 &C/,~pJ1S  
8.40  啁啾反射镜3 199 A{hST~
s  
8.41  带保护层的铝膜层 200 :n}t7+(>U  
8.42  增加铝反射率膜 201
,-1taS  
8.43  参考文献 202 #=fd8}9  
9  多层膜 204 y9GaxW*&  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 :;3y^!  
9.2  内部透过率 204 n QOLR?%  
9.3 内部透射率数据 205 y5V]uQSD  
9.4  实例 206 _l]rt  
9.5  实例2 210 40LAG  
9.6  圆锥和带宽计算 212 `t#Ie*  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 JR/^Go$^  
10  光学薄膜的颜色 216 J{#C<C  
10.1  导言 216 BjUz"69  
10.2  色彩 216 g5~1uU$O  
10.3  主波长和纯度 220 '$CJZ`nt  
10.4  色相和纯度 221 8+~|!)a  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 %lK]m`(  
10.6 色差 226 (B
fy   
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 z:tu_5w!,  
10.8  颜色渲染指数 234 ld23^r  
10.9  色差计算 235 ,OO
0*%  
10.10  参考文献 236 $66DyK?  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 -
}<W|r  
11.1  短脉冲 238 b"#|0d0  
11.2  群速度 239 \CE8S+Z%  
11.3  群速度色散 241 <j89HtCz  
11.4  啁啾(chirped) 245 L sMS`o6  
11.5  光学薄膜—相变 245 \Mod4tQ  
11.6  群延迟和延迟色散 246 YR/rN,  
11.7  色度色散 246 U7cGr\eUu  
11.8  色散补偿 249 -Z%B9ql'  
11.9  空间光线偏移 256 :~]ha  
11.10  参考文献 258 yn5yQ;  
12  公差与误差 260 4qEe
N-6h  
12.1  蒙特卡罗模型 260 )0Lv-Gs  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 A ptzBs/  
12.2.1  误差工具 267 Mi"dFx^Md  
12.2.2  灵敏度工具 271 {p(.ckze+  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 iY1JU-S  
12.2.2.2 灵敏度分布 275  H@,(  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276
Vg4N7i  
12.3  参考文献 276 :<Y, f(c  
13  Runsheet 与Simulator 277 m-No 8)2yA  
13.1  原理介绍 277 "#mr?h_  
13.2  截止滤光片设计 277 [Y]\sF;J  
14  光学常数提取 289 x+7jJ=F  
14.1  介绍 289 A#j'
JA>_  
14.2  电介质薄膜 289 K%A:W  
14.3  n 和k 的提取工具 295 <}$o=>'  
14.4  基底的参数提取 302 gaw
/3@  
14.5  金属的参数提取 306 ?-0>Wbg  
14.6  不正确的模型 306 q.>{d%?  
14.7  参考文献 311 L?e N(L  
15  反演工程 313 vrD]o1F  
15.1  随机性和系统性 313 \{[Gdj`  
15.2  常见的系统性问题 314 ?F9:rUyN  
15.3  单层膜 314 N&t+*kF_  
15.4  多层膜 314 dRXF5Ox5K}  
15.5  含义 319 a:tCdnK/  
15.6  反演工程实例 319 |};P"&  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 Fh4kd>1D  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 r4h4A w{  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 Zg/ra1n  
16.1  光学性质的热致偏移 329 0x\bDWZ_  
16.2  应力工具 335 |%R}!O<.c  
16.3  均匀性误差 339 B6iH[dTy
_  
16.3.1  圆锥工具 339 BV
X6  
16.3.2  波前问题 341 +Q3i&"QB.  
16.4  参考文献 343 h$EH|9HAb  
17  如何在Function（模块）中编写操作数 345 }Q?,O  
17.1  引言 345 @exeHcW61  
17.2  操作数 345 x2\,n  
18  如何在Function中编写脚本 351 hX~d1.]Y  
18.1  简介 351 Eh)PZvH  
18.2  什么是脚本？ 351 #,1Kum bG3  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 dtw4cG  
18.4  基础 352  cf#2Wg)  
18.4.1  Classes（类别） 352 ,=tPh4>  
18.4.2  对象 352 p#UrZKR  
18.4.3  信息（Messages） 352 W0&NX`m  
18.4.4  属性 352 EencMi7J  
18.4.5  方法 353 P"LbWZ6Nj  
18.4.6  变量声明 353 -# [=1Y  
18.5  创建对象 354 5 #)5Z8`X  
18.5.1  创建对象函数 355 OsMU>v }m  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 |?=K'[5  
18.5.3 丢弃对象 356 bZ0mK$B  
18.5.4  总结 356 j>(O1z7  
18.6  脚本中的表格 357 P5Y:c@
u2  
18.6.1  方法1 357 'a`cK;X9F  
18.6.2  方法2 357 _s/5oRHA  
18.7 2D Plots in Scripts 358 /G`'9cD  
18.8 3D Plots in Scripts 359 "#d>3M_  
18.9  注释 360 ;N4A9/)  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 60B6~@]P  
18.11  一个更高级的脚本 362 2HNKq<  
18.12  <esc>键 364 )_eEM1  
18.13 包含文件 365 diF-`~  
18.14  脚本被优化调用 366 cRm+?/  
18.15  脚本中的对话框 368 88]V6Rm9[*  
18.15.1  介绍 368 AM4lAq_  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 \a+.~_iL|  
18.15.3  输入框函数 370 eM";P/XaX  
18.15.4  自定义对话框 371 WdEVT,jjh  
18.15.5  对话框编辑器 371 n.&z^&$w\)  
18.15.6  控制对话框 377 RjC3wO::  
18.15.7  更高级的对话框 380 uHj"nd13  
18.16 Types语句 384 ^Oy97Y  
18.17 打开文件 385 \wR $_X&  
18.18 Bags 387 ZS*PY,  
18.13  进一步研究 388 cI~uI'  
19  vStack 389 WC6yQSnY&  
19.1  vStack基本原理 389 "]1 !<M6\i  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 5G!0Yy['  
19.3  五棱镜 393 &\8qN_`  
19.4 光束距离 396 CatbEXO  
19.5 误差 399 SvZ~xTit  
19.6  二向分色棱镜 399 .ME>ICA  
19.7  偏振泄漏 404 }^!8I7J.  
19.8  波前误差—相位 405 F xek#  
19.9  其它计算参数 405 u^HC1r|%  
20  报表生成器 406 w$Zi'+&*  
20.1  入门 406 <$6r1y*G  
20.2  指令(Instructions) 406 6V{Sf9V|  
20.3  页面布局指令 406 87; E#2  
20.4  常见的参数图和三维图 407 gEghDO_G  
20.5  表格中的常见参数 408 [D
r'  
20.6  迭代指令 408 GRM:o)4;#  
20.7  报表模版 408 +ZFw3KEkz  
20.8  开始设计一个报表模版 409 CD}::7$  
21  一个新的project 413 99<]~,t=5  
21.1  创建一个新Job 414 =<yMB d\  
21.2  默认设计 415 -;NGS )RM  
21.3  薄膜设计 416 /V-uo(n< .  
21.4  误差的灵敏度计算 420 *0vq+C  
21.5  显色指数计算 422 63'Rw'g^|2  
21.6  电场分布 424 bSa%?laS  
后记 426 ]ySm|&aU  
5&59IA%S  
RT+pB{Y  
书籍名称：《Essential Macleod中文手册》 Db:^Omwo  
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《Essential Macleod中文手册》 6,wi81F,}  
p.wed%O.  
目  录 ~Up5+7k@  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 z):LF<  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 |ry![\  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 dC'8orFG+  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 4S%s
=vw  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 JM&`&fsOC{  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 ]rNM3@bVy  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 F
IMM\W  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 W;Y"J_  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 V^* ];`^  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 k|hy_? *  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 "A(D}~i  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 ~ 3!yd0[k  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 YCPU84f  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 84f(BE  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 8'>yB  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 :9H`O!VF  
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价  格：400元