[培训]上海｜薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25（三）-27日（五） [复制链接]

特邀专家介绍 o8!uvl}:9  
7>!Rg~M  
易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，研究生导师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 q&d5V~q  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 j@C*kj;-  
随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 &8M^E/#.^;  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 U_61y;Q"  
1. Essential Macleod软件介绍
>Q% FW  
1.1 介绍软件 la{Iqm{i  
1.2 创建一个简单的设计 KreF\M%Ke  
1.3 绘图和制表来表示性能 }&Kl)2:O  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 NhF<2[mt  
1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） I`4k5KB;  
1.6 特定设计的公式技术 _8ubo\M~  
1.7 交互式绘图 i[40p!~  
2. 光学薄膜理论基础 iJVm=0WS^  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 hB??~>i3  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 b|E1>TkY  
3. 材料管理 1ILAUtf)  
3.1 材料模型 O#3PUuE%d  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 o*Kl`3=]  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 XO,gEn&6V  
3.4 基板光学常数的提取 @zi_@B  
4. 光学薄膜设计优化方法 ) ={ H  
4.1 参考波长与g U8GvUysB!  
4.2 四分之一规则 bXRSKp[$  
4.3 导纳与导纳图 SPo}!&p$~  
4.4 斜入射光学导纳 7kq6VS;p  
4.5 光学薄膜设计的进展 rO7[{<97m  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 ,;~@t:!c  
4.6.1 优化目标设置 t^SND{[WcM  
4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法） `VD7VX,rp*  
4.6.3 膜层锁定和链接 *28:|blbL  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 ]o2 Z14  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 CN!~(1v  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 WN3]xw3  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 6'6,ySo]  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 >%i]p  
5.5 如何在Function中编写脚本 !B:wzb_  
6. 光学薄膜系统案例 ;k5B@z/<S  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 8rpr10;U  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 *4?%Y8;bF6  
6.3 Stack应用范例说明 cByUP#hW  
7. 薄膜性能分析 3iBUIv  
7.1 电场分布 DhzmC  
7.2 公差与灵敏度分析 BfdS3VrZ
/  
7.3 反演工程 vCsJnKqK  
7.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真 }-2U,Xg[  
8. 真空技术 ql(~3/kA_  
8.1 常用真空泵介绍 bm#/ KT_8  
8.2 真空密封和检漏 B'!I{LC  
9. 薄膜制备技术 ]D&\|,,(
 
9.1 常见薄膜制备技术 .BrYz:
#A  
10. 薄膜制备工艺 35Cm>X  
10.1 薄膜制备工艺因素  #[yZP9  
10.2 薄膜均匀性修正技术 I|R;)[;X  
10.3 光学薄膜监控技术 -i*]Sgese  
11. 激光薄膜 8 GW0w
 
11.1 薄膜的损伤问题 pfF2!`7pI  
11.2 激光薄膜的制备流程 _8&a%?R@W  
11.3 激光薄膜的制备技术 iNv"!'|  
12. 光学薄膜特性测量 f/UIpswrZ'  
12.1 薄膜光谱测量 I/Q~rVt  
12.2 薄膜光学常数测量 ^+rI=c 0  
12.3 薄膜应力测量 -mqL[ h,  
12.4 薄膜损伤测量 I,@ 6w  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析内容简介 7p[NuU*Gg  
Macleod软件自带的用户手册功能全面，其介绍涵盖了软件的方方面面，能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而，为了顺应目前薄膜行业的需求，急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍，以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作，因此，我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 NEff`mwm5)  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（原著第二版）是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结，结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod，其内容丰富，实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法，还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题，如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节，首先，从光学薄膜的基本理论出发（第2章），为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次，在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作，以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后，从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合，从而使大家将理论知识与实际经验结合起来，对实际镀膜提出实用的建议，以减少设计时间并降低生产成本。 G}#p4\/  
薄膜光学涵盖范围很广，书中并附设计光盘和参考文献，有兴趣者可依此深入研究，为精准起见，在不影响理解的情况下，尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助，通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限，书中错误纰漏之处在所难免，本书若有不周之处，尚请读者不吝赐教。 2"8qtG`Et  
-E>LB\[t)  
[J +5  
UthM?g^  
目录 <P0&!yN  
Preface 1 !T$h?o  
内容简介 2 J{e`P;ND  
目录 i z(Q 5?+P  
1  引言 1 
8<PQ31  
2  光学薄膜基础 2 %eW2w@8]  
2.1  一般规则 2 ?#Y1E~N  
2.2  正交入射规则 3 NQIbav^5  
2.3  斜入射规则 6 h_\OtoRa  
2.4  精确计算 7 H-jxH,mJmW  
2.5  相干性 8 <Xb$YB-c  
2.6 参考文献 10 cd]def[d  
3  Essential Macleod的快速预览 10 *Z2#U?_  
4  Essential Macleod的特点 32 @H61^K<  
4.1  容量和局限性 33 CM4#Nn=i~  
4.2  程序在哪里？ 33 rHJtNN8$k  
4.3  数据文件 35 tqzr+  
4.4  设计规则 35 b0uWUI(=  
4.5  材料数据库和资料库 37 YWhp4`m  
4.5.1材料损失 38 uL |O<  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 ASULg{  
4.5.2 材料库 41 sPRo=LB  
4.5.3导出材料数据 43 j71RlS73  
4.6  常用单位 43 n |Q'>  
4.7  插值和外推法 46 g [c^7  
4.8  材料数据的平滑 50 67]!xy  
4.9 更多光学常数模型 54 ie}?}s  
4.10  文档的一般编辑规则 55 DMiB \o  
4.11 撤销和重做 56 Aga{EKd  
4.12  设计文档 57 {)PgN  
4.10.1  公式 58 -~ H?R  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 =&#t("  
4.10.3  沉积密度 59  wkKSL  
4.10.4 平行和楔形介质 60 1-}M5]Y  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 O
7z5,-  
4.10.4  性能 61 g<^-[w4/  
4.10.5  保存设计和性能 64 r
nRWL4  
4.10.6  默认设计 64 lX/:e=  
4.11  图表 64 *&tv(+P  
4.11.1  合并曲线图 67 )M_|r2dDq3  
4.11.2  自适应绘制 68 .05x=28n%  
4.11.3  动态绘图 68 J Mm'JK?  
4.11.4  3D绘图 69 D|g{]nO  
4.12  导入和导出 73 dyVfDF  
4.12.1  剪贴板 73 \T {<{<n  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 M"5S  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 A 1B_EX.  
4.13  背景 77 nHl{'|~  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 zszx~LSvIT  
4.15  生成Rugate 84 mOntc6&]  
4.16  参考文献 91 >j)y7DSE  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 d'[]  
5.1  Jobs 92 q+W*?a)  
5.2  创建一个新Job（工作） 93 lf}%^od~6  
5.3  输入材料 94 *Ke\Yb  
5.4  设计数据文件夹 95 {QVs[ J1  
5.5  默认设计 95 'wVi
>{?  
6  细化和合成 97 .4XX )f5  
6.1  优化介绍 97 >r.W \  
6.2  细化 (Refinement) 98 qKk|2ecTB5  
6.3  合成 (Synthesis) 100 FY"csZ  
6.4  目标和评价函数 101 H0-v^H>^  
6.4.1  目标输入 102 qz8Jvgu?  
6.4.2  目标 103 s3y"y_u  
6.4.3  特殊的评价函数 104 WT jy"p*  
6.5  层锁定和连接 104 ^1;Eq>u  
6.6  细化技术 104 Wd?=RO`a  
6.6.1  单纯形 105 N `[ ?db-%  
6.6.1.1 单纯形参数 106 +lZvj=gW  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 OPC8fX5.  
6.6.2.1 Optimac参数 108 ,tak{["  
6.6.3  模拟退火算法 109 *{dMo,.eI  
6.6.3.1　模拟退火参数 109 AtNF&=Op  
6.6.4  共轭梯度 111 /ommM  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 [}`-KpV!;  
6.6.5  拟牛顿法 112 uA~?z:~=  
6.6.5.1 拟牛顿参数： 112 4P^CqD&i  
6.6.6  针合成 113 m.Ki4NUm  
6.6.6.1 针合成参数 114 bVOJp% *s  
6.6.7 差分进化 114 F[*/D/y(  
6.6.8非局部细化 115 naVbcY  
6.6.8.1非局部细化参数 115 70.Tm#qh  
6.7  我应该使用哪种技术？ 116 o8fY!C)  
6.7.1 　细化 116 i!yE#z
ew  
6.7.2　 合成 117 h_15"rd  
6.8  参考文献 117 Sh\Jm*5  
7  导纳图及其他工具 118 h6Cqc}P  
7.1  简介 118 _ qU-@Y$  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 7'Gkip  
7.2.1  四分之一波长规则 119 \WxBtpbQB  
7.2.2  导纳图 120 , FR/X/8  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 }ZJJqJ`*e  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 3f(tb%pa5  
7.5  斜入射导纳图 141 Pxf/*z  
7.6  对称周期 141 >tE6^7B*  
7.7  参考文献 142 IqqBUH  
8  典型的镀膜实例 143 SE6c3  
8.1  单层抗反射薄膜 145 6 tl#AJ-  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 dP=,<H#]m  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 X<&Y5\%F  
8.4  W-膜层 148 r0q?e`nsA  
8.5  V-膜层 149 #@J{ )  
8.6  V-膜层高折射基底 150 j7~Rw"(XQc  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 t]E@AJOK  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 :ZadPn56  
8.9  四层抗反射薄膜 153 %Ot*k%F  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 P4fnBH4OQ  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 PxA OKUpI  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 D+y?KihE  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 #U.6HBuQa  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 V/BU(`~i  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 avW33owb@  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 h_6c9VI  
8.17  1/4波长堆栈 162 Bo8NY!  
8.18  陷波滤波器 163 NRazI_Z  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 K9ek  
8.20  褶皱 165 tgY/8&$M  
8.21  消偏振分光器1 169 X'j9l4Ph7  
8.22  消偏振分光器2 171 6pbtE]  
8.23  消偏振立体分光器 172 "-S@R=bi  
8.24  消偏振截止滤光片 173 J~AmRo0!k  
8.25  立体偏振分束器1 174 ~.CmiG.7  
8.26  立方偏振分束器2 177 *d9RD~
Ee  
8.27  相位延迟器 178 ~l]g4iEp  
8.28  红外截止器 179 hGR
Hu
J  
8.29  21层长波带通滤波器 180 K94bM5O 1  
8.30  49层长波带通滤波器 181 -6$GM J7  
8.31  55层短波带通滤波器 182 38GZ_z}r  
8.32  47 红外截止器 183 B_*Ayk   
8.33  宽带通滤波器 184 L;v.X'f  
8.34  诱导透射滤波器 186 &r2\P6J  
8.35  诱导透射滤波器2 188 tGF3Hw^mS  
8.36  简单密集型光波复用（DWDM）滤波器 190 1Cw HGO  
8.37  高级密集型光波复用技术（DWDM）滤波器 192 biENRJQ.  
8.35  增益平坦滤波器 193 gv1y%(`|n(  
8.38  啁啾反射镜 1 196 KbMan~Pb6  
8.39  啁啾反射镜2 198 iXL?ic  
8.40  啁啾反射镜3 199 ]KQQdr   
8.41  带保护层的铝膜层 200 KW/LyiP#  
8.42  增加铝反射率膜 201 |,tKw4  
8.43  参考文献 202 3Hi8=*  
9  多层膜 204 @@cc
/S  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 *MQ`&;Qa,  
9.2  内部透过率 204 LCW}1H:Q  
9.3 内部透射率数据 205 !|8"}ZF  
9.4  实例 206 IyAD>Q^  
9.5  实例2 210 Mbn;~tY>  
9.6  圆锥和带宽计算 212 M0$E_*  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 U$;UW3-  
10  光学薄膜的颜色 216 t%StBq(q  
10.1  导言 216 tG~[E,/`  
10.2  色彩 216 "28zLo3  
10.3  主波长和纯度 220 ]E6r)C  
10.4  色相和纯度 221 ^PUB~P/  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 _
fSBb<  
10.6 色差 226 4W}mPeEeV  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 .y lv
J$  
10.8  颜色渲染指数 234 qae|?z  
10.9  色差计算 235 MGY0^6yK5  
10.10  参考文献 236 '_5|9 }  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 0o:R:*  
11.1  短脉冲 238 F|@\IVEB]  
11.2  群速度 239 v]Aop<KLX  
11.3  群速度色散 241 ).AMfBQ=;  
11.4  啁啾(chirped) 245 VfUHqdg-  
11.5  光学薄膜—相变 245 3W{!\  
11.6  群延迟和延迟色散 246 `jVRabZ0  
11.7  色度色散 246 2[qoqd(  
11.8  色散补偿 249 Vf<q-3q  
11.9  空间光线偏移 256 4-I7"pW5  
11.10  参考文献 258 =T\=,B  
12  公差与误差 260 _EJPI  
12.1  蒙特卡罗模型 260 M8/:PmR<  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 +(y8q  
12.2.1  误差工具 267 $x,EPRNs  
12.2.2  灵敏度工具 271 \>G}DGz  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 "YWZ&_n**  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 _3< P(w{  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 $/|vbe,  
12.3  参考文献 276 64]8ykRD-  
13  Runsheet 与Simulator 277 m)3M)8t  
13.1  原理介绍 277 kW1w;}n$  
13.2  截止滤光片设计 277 uB#U( jl  
14  光学常数提取 289 BC\W`K  
14.1  介绍 289 pWq+`|l$  
14.2  电介质薄膜 289 LNyrIk/1  
14.3  n 和k 的提取工具 295 ~X3x-nAt  
14.4  基底的参数提取 302 &FuL{YL  
14.5  金属的参数提取 306 ;FW <%  
14.6  不正确的模型 306 -*i_8`  
14.7  参考文献 311 A=IpP}7J  
15  反演工程 313 o8|qT)O@U  
15.1  随机性和系统性 313 ifu!6_b.  
15.2  常见的系统性问题 314 '#h ORQB  
15.3  单层膜 314 \KzJNCOT  
15.4  多层膜 314 W)J MV  
15.5  含义 319 /|<SD.:  
15.6  反演工程实例 319 &GkD5
b  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 :0QDV~bs  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 a(=lQ(v/?  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 Ie|5,qw E  
16.1  光学性质的热致偏移 329 GC'e  
16.2  应力工具 335 w52py7  
16.3  均匀性误差 339 x^1d9Z  
16.3.1  圆锥工具 339 GM?s8yZ<  
16.3.2  波前问题 341 W`NF40)  
16.4  参考文献 343 @d^Z^H*Yv  
17  如何在Function（模块）中编写操作数 345 8A.7q  
17.1  引言 345 ^m&I^\  
17.2  操作数 345 ~LZrhwVj$  
18  如何在Function中编写脚本 351 MkL2I+*  
18.1  简介 351 dR;N3KwY  
18.2  什么是脚本？ 351 74MxU  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 b9m`y*My  
18.4  基础 352 |w54!f6w_  
18.4.1  Classes（类别） 352 ~J&-~<%P}  
18.4.2  对象 352 Z"%.  
18.4.3  信息（Messages） 352 0c`nk\vUy  
18.4.4  属性 352 6/5,n0  
18.4.5  方法 353 Wbei{3~$Y"  
18.4.6  变量声明 353 8V 4e\q  
18.5  创建对象 354 /e|Lw4$@S  
18.5.1  创建对象函数 355 d}':7Np  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 cv-rEHT  
18.5.3 丢弃对象 356 2xflRks  
18.5.4  总结 356 [rWBVfm  
18.6  脚本中的表格 357 )E*f30  
18.6.1  方法1 357 ",D!8>=s  
18.6.2  方法2 357 )Uy%iE*  
18.7 2D Plots in Scripts 358 U|V,&RlbR  
18.8 3D Plots in Scripts 359 jH
!;}q  
18.9  注释 360 e15yDwvB  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 #qYgQ<TM!  
18.11  一个更高级的脚本 362 s_XCKhN:  
18.12  <esc>键 364 rKUtTj  
18.13 包含文件 365 z k/`Uz  
18.14  脚本被优化调用 366 iD G&Muc  
18.15  脚本中的对话框 368 "nCK%w=  
18.15.1  介绍 368 #~)A#~4O  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 G}g;<,g~  
18.15.3  输入框函数 370 Um{) ?1  
18.15.4  自定义对话框 371 R20 .dA_N  
18.15.5  对话框编辑器 371 I`X!M!dB)  
18.15.6  控制对话框 377 xb3G,F  
18.15.7  更高级的对话框 380 v_EgY2l(  
18.16 Types语句 384 i.uyfV&F  
18.17 打开文件 385 {VW\EOPV~  
18.18 Bags 387 D]fuX|f~ul  
18.13  进一步研究 388 kY\faWuR  
19  vStack 389 ][jwy-Uy;  
19.1  vStack基本原理 389 T` h%=u|D  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 -Pp{aFe  
19.3  五棱镜 393 |ymW0gh7o$  
19.4 光束距离 396 Ig}hap]G  
19.5 误差 399 H'zAMGZa  
19.6  二向分色棱镜 399 ,"is%O.  
19.7  偏振泄漏 404 //BJaWq  
19.8  波前误差—相位 405 5>.ATfAsV  
19.9  其它计算参数 405 eN.6l2-  
20  报表生成器 406 N=Ct3  
20.1  入门 406 hS8M|_  
20.2  指令(Instructions) 406 tj~r>SRb+  
20.3  页面布局指令 406 rIPfO'T?  
20.4  常见的参数图和三维图 407 ElUFne=  
20.5  表格中的常见参数 408 i@nRZ$K  
20.6  迭代指令 408 UTh2?Rh/  
20.7  报表模版 408 x5uz$g  
20.8  开始设计一个报表模版 409 mc%. 8i  
21  一个新的project 413 klnNBo!  
21.1  创建一个新Job 414 a<q9~QS  
21.2  默认设计 415 ]pBEoktp  
21.3  薄膜设计 416 81x/bx@L%  
21.4  误差的灵敏度计算 420 e:nByzdH0[  
21.5  显色指数计算 422 `aAE4Ry?  
21.6  电场分布 424 m`-:j"]b$  
后记 426 |.$B,cEd  
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l+F29_o#  
书籍名称：《Essential Macleod中文手册》 }.)R#hG?  
g$Y]{VM.J  
《Essential Macleod中文手册》 !7I07~&1  
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目  录 .:}<4;Qz94  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 fVgK6?<8^  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 e8> X5  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 X5/j8=G H`  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 1/?Wa  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 "rLm)$I  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 mz.,j(Ks-  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 P_0X+Tz  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 eR5q3E/;G  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 59D'*!l-  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 /} PdO  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 elGBX h  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 >oJabR  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 <}~ /. Cx  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 u;nn:K1QFr  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 V=+|]`  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 ]@z!r2[  
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价  格：400元