[培训]上海｜薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25（三）-27日（五） [复制链接]

特邀专家介绍 $Xw .iN]g  
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易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，研究生导师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 Cd.pMoS  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 nJF"[w,
?  
随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 Z'PE
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本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 6>)]7
(B<d  
1. Essential Macleod软件介绍 }> k9]Y  
1.1 介绍软件 >b#z o,  
1.2 创建一个简单的设计 dZm>LVjG  
1.3 绘图和制表来表示性能 W$@q ~/E  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 A+3@N99HeH  
1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） I.j`h2  
1.6 特定设计的公式技术 |<\LB  
1.7 交互式绘图 \BaN?u)a  
2. 光学薄膜理论基础 @c{=:kg5  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 *TA${$K  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 NjVuwIm+  
3. 材料管理 %O;"Z`I  
3.1 材料模型 Zgo^M,g  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 SC`.VCfc.  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 mCe,(/>l+  
3.4 基板光学常数的提取 LWc}j`Wd  
4. 光学薄膜设计优化方法 X~Uvh8O  
4.1 参考波长与g OB8fFd  
4.2 四分之一规则 )+Wx!c,mb  
4.3 导纳与导纳图 ZVJbpn<lo)  
4.4 斜入射光学导纳 "?V4Tl~uu  
4.5 光学薄膜设计的进展 B5u06O  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 {IJV(%E  
4.6.1 优化目标设置 7rc^-!k  
4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法） `f}c 1  
4.6.3 膜层锁定和链接 Lw?4xerLsb  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 e|+U7=CK  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 e~c;wP~cO  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 4s~YqP{K  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 uh%%MhTjv  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 D,dmlv  
5.5 如何在Function中编写脚本 G5E03xvL  
6. 光学薄膜系统案例 gVsAz  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 s<|.vVi"  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 ~N;.hU%l  
6.3 Stack应用范例说明 7NRq5d(lP  
7. 薄膜性能分析 1?`,h6d*=  
7.1 电场分布 |:`f#H  
7.2 公差与灵敏度分析 -]R7[5C:  
7.3 反演工程 FD*`$.e3\  
7.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真 \i}n1Qd  
8. 真空技术 S&8gZ~B  
8.1 常用真空泵介绍 Q1IN@Db}y  
8.2 真空密封和检漏 lz EF^6I  
9. 薄膜制备技术 wt[MzpRP  
9.1 常见薄膜制备技术 ,<%Y.x%4z[  
10. 薄膜制备工艺 ?3kfhR  
10.1 薄膜制备工艺因素 RO=[Rr!   
10.2 薄膜均匀性修正技术 $[}31=0  
10.3 光学薄膜监控技术 {7[^L1  
11. 激光薄膜 .B{3=z^  
11.1 薄膜的损伤问题 BHOxwW{  
11.2 激光薄膜的制备流程 MQ5#6vJ  
11.3 激光薄膜的制备技术 uI@:\Rss  
12. 光学薄膜特性测量 m'XzZmI  
12.1 薄膜光谱测量 7m{
'V`F  
12.2 薄膜光学常数测量 !]&a/$U  
12.3 薄膜应力测量 
+|).dm  
12.4 薄膜损伤测量 Xz4!#,z/  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析内容简介 Aga2 I#1r  
Macleod软件自带的用户手册功能全面，其介绍涵盖了软件的方方面面，能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而，为了顺应目前薄膜行业的需求，急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍，以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作，因此，我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 q-eC=!#}  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（原著第二版）是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结，结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod，其内容丰富，实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法，还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题，如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节，首先，从光学薄膜的基本理论出发（第2章），为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次，在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作，以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后，从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合，从而使大家将理论知识与实际经验结合起来，对实际镀膜提出实用的建议，以减少设计时间并降低生产成本。 kB_GL>fc  
薄膜光学涵盖范围很广，书中并附设计光盘和参考文献，有兴趣者可依此深入研究，为精准起见，在不影响理解的情况下，尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助，通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限，书中错误纰漏之处在所难免，本书若有不周之处，尚请读者不吝赐教。 1mgLH  
#+|{l*>  
,h5\vWZ  
t8\F7F P  
目录 _W/s=pCh  
Preface 1 a[]=*(AZI  
内容简介 2 *oL?R2#7  
目录 i m,,-rC  
1  引言 1 $GNN*WmHw  
2  光学薄膜基础 2 RlyF#X#7{  
2.1  一般规则 2 c<wsWs 4V  
2.2  正交入射规则 3 thDQ44<#)  
2.3  斜入射规则 6 @bOhnd#W  
2.4  精确计算 7 8]]uk=P  
2.5  相干性 8 #Z)e]4{!l  
2.6 参考文献 10 $Lv,e\]  
3  Essential Macleod的快速预览 10 eZIqyw  
4  Essential Macleod的特点 32 6C4c
.+S  
4.1  容量和局限性 33 _,"T;i  
4.2  程序在哪里？ 33 O;9u1,%w  
4.3  数据文件 35 d^mw&F)S  
4.4  设计规则 35 ;"-(QE?Mv  
4.5  材料数据库和资料库 37 f)l:^/WP+  
4.5.1材料损失 38 UX;?~X  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 Ij` %'/J  
4.5.2 材料库 41 S3EY9:^C  
4.5.3导出材料数据 43 8{#WF#  
4.6  常用单位 43 O $'#8  
4.7  插值和外推法 46 M' e<\wqm  
4.8  材料数据的平滑 50 vP`Sz}FU  
4.9 更多光学常数模型 54 zR6,?Tzg  
4.10  文档的一般编辑规则 55 5,}
)x]'x  
4.11 撤销和重做 56 -;20|US)u  
4.12  设计文档 57 ^=.R#zrc  
4.10.1  公式 58 L3GA]TIf  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 BCYTlxC'  
4.10.3  沉积密度 59 'FgBYy/
 
4.10.4 平行和楔形介质 60 ExeD3Zj  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 zflfV!vAg  
4.10.4  性能 61 t6m3lq{  
4.10.5  保存设计和性能 64 1PpZ*YK3z  
4.10.6  默认设计 64 z0+LD  
4.11  图表 64 =e](eA;  
4.11.1  合并曲线图 67 X0Zqx1  
4.11.2  自适应绘制 68 B(7
oHj.i2  
4.11.3  动态绘图 68 n/6#rj^$  
4.11.4  3D绘图 69 i'OFun+-,  
4.12  导入和导出 73 |tIr?nXSW3  
4.12.1  剪贴板 73 ~~a,Fyko2  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 !TvNT}4Z  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 S[JeW  
4.13  背景 77 #%O|P&rA  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 (-Cxv`7  
4.15  生成Rugate 84 o}$uP5M8q  
4.16  参考文献 91 ;$,=VB:'  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 +wc8rE6+W  
5.1  Jobs 92 3.@"GS#"[  
5.2  创建一个新Job（工作） 93 n75)%-  
5.3  输入材料 94 |a4cER.'2^  
5.4  设计数据文件夹 95 7'Z-VO  
5.5  默认设计 95 J!Er%QUR  
6  细化和合成 97 1/+d@s#t  
6.1  优化介绍 97 J|,Uu^7`  
6.2  细化 (Refinement) 98 ]<L(r,@,  
6.3  合成 (Synthesis) 100 vF@hg)A  
6.4  目标和评价函数 101 7f|8SB  
6.4.1  目标输入 102 mS
LA4
[4{  
6.4.2  目标 103 uonCD
8  
6.4.3  特殊的评价函数 104
2?P H||  
6.5  层锁定和连接 104 `ppyCUX  
6.6  细化技术 104 M.fAFL  
6.6.1  单纯形 105 X)oxNxZ[A  
6.6.1.1 单纯形参数 106 &H8wYs  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 WX .Ax$fT  
6.6.2.1 Optimac参数 108 %"-bG'Yc  
6.6.3  模拟退火算法 109 "| Oj!&0  
6.6.3.1　模拟退火参数 109 m}A|W[p<  
6.6.4  共轭梯度 111 A12EUr5$  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 A,67)li3  
6.6.5  拟牛顿法 112 Y`F)UwKK  
6.6.5.1 拟牛顿参数： 112 =~zsah6N  
6.6.6  针合成 113 m%zo? e  
6.6.6.1 针合成参数 114 Hb}O/G$a*  
6.6.7 差分进化 114 yPY}b_W  
6.6.8非局部细化 115 mi[t1cN)=  
6.6.8.1非局部细化参数 115 Jq>rA  
6.7  我应该使用哪种技术？ 116 Vu.VH([b]Q  
6.7.1 　细化 116 O6*2oUKqK  
6.7.2　 合成 117 |w5m2Z  
6.8  参考文献 117 `%QXaKO-  
7  导纳图及其他工具 118 Q^\m@7O :  
7.1  简介 118 L4O.=*P1  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 '8J!(+  
7.2.1  四分之一波长规则 119 $UNC0(4  
7.2.2  导纳图 120 :eIi^K z[  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 Hlhd6be  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 L0l'4RRm\  
7.5  斜入射导纳图 141 w*?SGW  
7.6  对称周期 141 lfvt9!SJ+/  
7.7  参考文献 142 8[b_E5!V  
8  典型的镀膜实例 143 nuKcq!L  
8.1  单层抗反射薄膜 145 CvhVV"n  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 I(<9e"1O  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 QPX&P{!g  
8.4  W-膜层 148 .;rE4B  
8.5  V-膜层 149 |d$4Fu(M~  
8.6  V-膜层高折射基底 150 RW{y.WhB  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 "I3 #
/~q  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 $
RH.  
8.9  四层抗反射薄膜 153 b5Q|$E   
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 Mj&G5R~_  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 uMx6:  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 xXf,j#`"  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 0=0,ix7?#  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 8)lrQvZ  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 dGyrzuPJ  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 \sBXS.  
8.17  1/4波长堆栈 162
XGuxd  
8.18  陷波滤波器 163 SR$ 'JGfp  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 InI>So%e|<  
8.20  褶皱 165 r<$o [,W  
8.21  消偏振分光器1 169 !4-4i  
8.22  消偏振分光器2 171 NnH]c+   
8.23  消偏振立体分光器 172 w73?E#8  
8.24  消偏振截止滤光片 173 _tUh*"e&  
8.25  立体偏振分束器1 174 _ amP:h  
8.26  立方偏振分束器2 177 ]A;.}1'  
8.27  相位延迟器 178 y\omJx=,  
8.28  红外截止器 179 rFUR9O.{E  
8.29  21层长波带通滤波器 180 @Jx1n Q^  
8.30  49层长波带通滤波器 181 bwM?DY
 
8.31  55层短波带通滤波器 182 [ *Dj7zt:  
8.32  47 红外截止器 183 #f [}a  
8.33  宽带通滤波器 184 @U3:9~Q  
8.34  诱导透射滤波器 186 ph}%Ay$  
8.35  诱导透射滤波器2 188 78 w  
8.36  简单密集型光波复用（DWDM）滤波器 190 dz?On\66  
8.37  高级密集型光波复用技术（DWDM）滤波器 192 |1GOm=GNK  
8.35  增益平坦滤波器 193 *`} !{ Mb  
8.38  啁啾反射镜 1 196 FDFwx|  
8.39  啁啾反射镜2 198 ;L,i">_%u[  
8.40  啁啾反射镜3 199 zYrJHn#vB  
8.41  带保护层的铝膜层 200 o$eo\X?J?  
8.42  增加铝反射率膜 201 )=#e*1!b  
8.43  参考文献 202 =A!rZG  
9  多层膜 204 8>@JW]  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 lb$_$+@Vr  
9.2  内部透过率 204 nK32or3  
9.3 内部透射率数据 205 )X;051Q  
9.4  实例 206 N>Ih2>8t  
9.5  实例2 210 &?1O D5  
9.6  圆锥和带宽计算 212 06O_!"GD}  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 2"HTD|yy  
10  光学薄膜的颜色 216 ,-hbwd~M  
10.1  导言 216 #}Yrxf  
10.2  色彩 216 &<x.D]FA]  
10.3  主波长和纯度 220 KF6C=,Yc%  
10.4  色相和纯度 221 NXQ=8o9,9  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 F^$;hMh%  
10.6 色差 226 ;>>n#8
`  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 ^B0Qk:%P^N  
10.8  颜色渲染指数 234 LPBa!fq  
10.9  色差计算 235 5x%Blkx  
10.10  参考文献 236 ;DSH$'1i  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 HdgNy\  
11.1  短脉冲 238 BPa,P_6(  
11.2  群速度 239 }tw+8YWkz  
11.3  群速度色散 241 *L9v(Kc  
11.4  啁啾(chirped) 245 F)KR8(  
11.5  光学薄膜—相变 245 0PqI^|!  
11.6  群延迟和延迟色散 246 'da 'W
ZG  
11.7  色度色散 246 V*ao@;sD  
11.8  色散补偿 249  od{\z  
11.9  空间光线偏移 256 ,#FP]$FK  
11.10  参考文献 258 PxgJ7d  
12  公差与误差 260 Rw%% 9  
12.1  蒙特卡罗模型 260 i^e8.zgywF  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 ~uH_y
-  
12.2.1  误差工具 267 ff5 gE'  
12.2.2  灵敏度工具 271 ^~I@]5Pq  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 8 eK8-R$  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 5L:-Xr{
 
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 ^ZO! (  
12.3  参考文献 276 zPND$3&'  
13  Runsheet 与Simulator 277 Q&N#q53  
13.1  原理介绍 277 RYA@{.O  
13.2  截止滤光片设计 277 $:%E<j4Dn  
14  光学常数提取 289 v+"4YIN  
14.1  介绍 289 SF&2a(~s  
14.2  电介质薄膜 289 g\fj6  
14.3  n 和k 的提取工具 295 oWL_Hh%-f`  
14.4  基底的参数提取 302 5LB{b]w7m  
14.5  金属的参数提取 306 }mXYS|{  
14.6  不正确的模型 306 iX6>u4~(  
14.7  参考文献 311 t+}
w
Tis  
15  反演工程 313 ZaU8eg7  
15.1  随机性和系统性 313 *s*Y uY%y  
15.2  常见的系统性问题 314 ,bXZ<RY$  
15.3  单层膜 314 F^'$%XKV  
15.4  多层膜 314 i? ~-%  
15.5  含义 319 VK]U*V1  
15.6  反演工程实例 319 +x=)Kp>  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 cd1G.10  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 s6@mXO:H^  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 Cp(2]Eb  
16.1  光学性质的热致偏移 329 u30D`sky  
16.2  应力工具 335 z,G_&5|f%  
16.3  均匀性误差 339 kFwFPK%B  
16.3.1  圆锥工具 339 1'\QD`M9^  
16.3.2  波前问题 341 J _;H  
16.4  参考文献 343 29,ET}~  
17  如何在Function（模块）中编写操作数 345 >PSO]%mE  
17.1  引言 345 [p9v#\G; [  
17.2  操作数 345 #G77q$  
18  如何在Function中编写脚本 351 X)[tb]U/Wx  
18.1  简介 351 HKXC=^}x'  
18.2  什么是脚本？ 351 WA8<:#{e  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 A}SGw.3  
18.4  基础 352 YND}P9 h  
18.4.1  Classes（类别） 352 )rK2%\Z  
18.4.2  对象 352 Os@b8V 8,A  
18.4.3  信息（Messages） 352 6sSwSS
 
18.4.4  属性 352 yl~_~<s6  
18.4.5  方法 353 ZrTB%  
18.4.6  变量声明 353 )&c#?wx'w  
18.5  创建对象 354 m+hI3@j  
18.5.1  创建对象函数 355 GYfOwV!zB  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 3NtUB;!  
18.5.3 丢弃对象 356 G n]qh(N>  
18.5.4  总结 356 CpO_p%P  
18.6  脚本中的表格 357 ^PTf8o  
18.6.1  方法1 357 PlGif)  
18.6.2  方法2 357 Bz/Vzc(  
18.7 2D Plots in Scripts 358 &2y4k"B&)  
18.8 3D Plots in Scripts 359 cK+TE8ao  
18.9  注释 360 s2{SbOBis  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 ixu*@{
<Z(  
18.11  一个更高级的脚本 362 L'e^D|  
18.12  <esc>键 364 YpDJ(61+  
18.13 包含文件 365 ^ ~Eh+  
18.14  脚本被优化调用 366 {h@\C|nF  
18.15  脚本中的对话框 368 cjEqN8  
18.15.1  介绍 368 yV!4Im.>  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 2bNOn%!  
18.15.3  输入框函数 370 vd4@jZ5  
18.15.4  自定义对话框 371 Io]FDPN  
18.15.5  对话框编辑器 371 P35DVKS  
18.15.6  控制对话框 377 =0
=#M(w  
18.15.7  更高级的对话框 380 \b"rf697,  
18.16 Types语句 384 m}uOBR+  
18.17 打开文件 385 =\oH= f  
18.18 Bags 387 Af;Pl|Zh[  
18.13  进一步研究 388 eBrNhE-[G]  
19  vStack 389 KGy3#r;Q
 
19.1  vStack基本原理 389 :Z//  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 fY!?rZ)$  
19.3  五棱镜 393 4k;FZo]S  
19.4 光束距离 396 ,-#MEr  
19.5 误差 399 by
@KdQow  
19.6  二向分色棱镜 399 'QCIKCn<  
19.7  偏振泄漏 404 \Fz9O-jb4  
19.8  波前误差—相位 405 S/'0czDMW  
19.9  其它计算参数 405 8)X9abC  
20  报表生成器 406 {cm?Q\DT  
20.1  入门 406 j,M$l mR')  
20.2  指令(Instructions) 406 +.V+@!  
20.3  页面布局指令 406 5naFnm7%  
20.4  常见的参数图和三维图 407 fjRVYOG#  
20.5  表格中的常见参数 408 IL].!9
  
20.6  迭代指令 408 qT$k%(  
20.7  报表模版 408 d05xn7%!{  
20.8  开始设计一个报表模版 409 _Op%H)  
21  一个新的project 413 |Kd#pYt%O  
21.1  创建一个新Job 414 ~rb0G*R>  
21.2  默认设计 415 /t0L%jJZ  
21.3  薄膜设计 416 aOzIo-  
21.4  误差的灵敏度计算 420 QH/py  
21.5  显色指数计算 422 S<
i$0p8J;  
21.6  电场分布 424 Rd#R}yA  
后记 426  =_dM@j  
"I.
6/9  
c{MoeIG)v@  
书籍名称：《Essential Macleod中文手册》 C?zS}ob  
ic2D$`M  
《Essential Macleod中文手册》 BsQ;`2  
GE/!$3  
目  录 Pd91<L  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 g3tE.!a5-  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 24jf`1XFW  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 g&$=Y7G  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 U]3!"+Y1P  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 9M96$i`P  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 Z=JKBoAY  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 k~>(XG[x&  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 fkxkf^g)  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 LZykc c9g  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 hFIh<m=C?Y  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 B.8B1MFm  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 $Rm~ VwY#  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 l/N<'T_G  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 t1']q"  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 W'./p"2g  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 5|H;%T3_  
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价  格：400元