[培训]上海｜薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25（三）-27日（五） [复制链接]

特邀专家介绍 )`7h,w J[1  

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HhH'\-[t  
易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，研究生导师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 ]>T/Gl1  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 l(4.
/M  
随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 8?pZZtad  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 [6N39G$  
1. Essential Macleod软件介绍 xF+x I6  
1.1 介绍软件 ;H|M)z#[Z  
1.2 创建一个简单的设计 `sC8ro@Fm  
1.3 绘图和制表来表示性能 g<3>7&^  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 D$ z!wV  
1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） ka[NYW{.  
1.6 特定设计的公式技术 7^X_tQf  
1.7 交互式绘图 7s3<}  
2. 光学薄膜理论基础 IvH+94[)  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 nK=V`  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 JwVv+9hh  
3. 材料管理 F\<i>LWT'  
3.1 材料模型 IDZn,^  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 _ RT}Ee}Y  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 M/;g|J jM  
3.4 基板光学常数的提取 aa]v7d  
4. 光学薄膜设计优化方法 U%l{>*
q  
4.1 参考波长与g 3W0:0I  
4.2 四分之一规则 d<e.`dhc  
4.3 导纳与导纳图 `rQl{$9IC  
4.4 斜入射光学导纳 /% 1lJD  
4.5 光学薄膜设计的进展 jX@9849@  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 ~=*_I4,+r  
4.6.1 优化目标设置 mj~CCokF{?  
4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法） A'2:(m@{T  
4.6.3 膜层锁定和链接 YgDasKFm'  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 8^T$6A[b  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 MLX.MUS  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 1tc9STYR}  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 1]~}0;,  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 9hU@VPB~  
5.5 如何在Function中编写脚本 \SR  
6. 光学薄膜系统案例 dGjvSK<1@  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 krU2S-  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 V"73^  
6.3 Stack应用范例说明 _Qas+8NW  
7. 薄膜性能分析 MvFXVCT#  
7.1 电场分布 D%v yO_k  
7.2 公差与灵敏度分析
TmiQq'm[b  
7.3 反演工程 qZG >FC37  
7.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真 U>XGJQ<NS  
8. 真空技术 y5}|Y{5  
8.1 常用真空泵介绍 Vy$\.2=  
8.2 真空密封和检漏 Ja1*a,],L  
9. 薄膜制备技术 f[D#QC  
9.1 常见薄膜制备技术 xm5D$m3#  
10. 薄膜制备工艺 0M p>X  
10.1 薄膜制备工艺因素 1;V5b+b  
10.2 薄膜均匀性修正技术 OMU#Sx!6  
10.3 光学薄膜监控技术 E3qX$|.$/  
11. 激光薄膜 hyp`6?f  
11.1 薄膜的损伤问题 B^{DCHu/  
11.2 激光薄膜的制备流程 sEa:p:!  
11.3 激光薄膜的制备技术 oCS NA.z  
12. 光学薄膜特性测量 >Ko )Z&j9W  
12.1 薄膜光谱测量 kcb'`<B  
12.2 薄膜光学常数测量 =k z;CS+  
12.3 薄膜应力测量 *?K=;$  
12.4 薄膜损伤测量 {U9jA
_XX  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析内容简介 aum,bm/0J  
Macleod软件自带的用户手册功能全面，其介绍涵盖了软件的方方面面，能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而，为了顺应目前薄膜行业的需求，急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍，以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作，因此，我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 =zKp(_[D  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（原著第二版）是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结，结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod，其内容丰富，实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法，还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题，如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节，首先，从光学薄膜的基本理论出发（第2章），为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次，在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作，以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后，从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合，从而使大家将理论知识与实际经验结合起来，对实际镀膜提出实用的建议，以减少设计时间并降低生产成本。 I~I%z'"RQd  
薄膜光学涵盖范围很广，书中并附设计光盘和参考文献，有兴趣者可依此深入研究，为精准起见，在不影响理解的情况下，尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助，通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限，书中错误纰漏之处在所难免，本书若有不周之处，尚请读者不吝赐教。 Zl)|x%z  
kH'Cx^=c6h  
{mDaK&]Oh  
FYJB.lAT  
目录 ='FEC-f95  
Preface 1 G+}LLm.wX  
内容简介 2 f W )  
目录 i h;6@-\6  
1  引言 1 )Jc>l;G(M  
2  光学薄膜基础 2 ?g&]*zc^\  
2.1  一般规则 2 &zR}jD>  
2.2  正交入射规则 3 SV~xNzo~  
2.3  斜入射规则 6 $lQi0*
s  
2.4  精确计算 7 U7W ct %  
2.5  相干性 8 Z7v~;JzC#  
2.6 参考文献 10 P|?z1JUd  
3  Essential Macleod的快速预览 10 .&ZVy{uP  
4  Essential Macleod的特点 32 2a^(8A`7W  
4.1  容量和局限性 33 ATU@5,9  
4.2  程序在哪里？ 33 @P-7a`3*  
4.3  数据文件 35 \?o%<c5{  
4.4  设计规则 35 `C1LR,J  
4.5  材料数据库和资料库 37 sM-*[Q=
_  
4.5.1材料损失 38 G~PP1sf  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 "YBA$ef$  
4.5.2 材料库 41 >@X=E3  
4.5.3导出材料数据 43 OKP?^%kD  
4.6  常用单位 43 M$)+Uo2  
4.7  插值和外推法 46 /X?Nv^Hy  
4.8  材料数据的平滑 50 %wO~\:F8  
4.9 更多光学常数模型 54 N  P"z  
4.10  文档的一般编辑规则 55 -nW{$&5AF  
4.11 撤销和重做 56 >iCMjT]4  
4.12  设计文档 57 {`'b+0[;@  
4.10.1  公式 58 @ZVc!5J_,  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 ~ 0[K%]]  
4.10.3  沉积密度 59 0\mzGfd  
4.10.4 平行和楔形介质 60 ..!yf e"5  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 zt8ZJlNK  
4.10.4  性能 61 [H&m@*UO  
4.10.5  保存设计和性能 64 Vf@/}=X *  
4.10.6  默认设计 64 YP7<j*s8  
4.11  图表 64 8c~H![2u  
4.11.1  合并曲线图 67 o^ 4+eE  
4.11.2  自适应绘制 68 M]W4S4&Y=  
4.11.3  动态绘图 68 MLDuo|?  
4.11.4  3D绘图 69 wK3}K  
4.12  导入和导出 73  4@5<B  
4.12.1  剪贴板 73 xnLfR6B  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 |oM6(px  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 L]VK9qB  
4.13  背景 77 R[Rs2eS_  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 qGw6Wp~  
4.15  生成Rugate 84 =:b/z1-v  
4.16  参考文献 91 y`N1I  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 8_uDxd  
5.1  Jobs 92 `8Om*{xg  
5.2  创建一个新Job（工作） 93 D,7! /u'  
5.3  输入材料 94 <Z5prunov  
5.4  设计数据文件夹 95 vL><Y.kOEs  
5.5  默认设计 95 R =jK3yfw  
6  细化和合成 97 83dOSS2  
6.1  优化介绍 97 >hXUq9;:  
6.2  细化 (Refinement) 98 ;R67a V,  
6.3  合成 (Synthesis) 100 ^mGTZxO  
6.4  目标和评价函数 101 us]ah~U6A  
6.4.1  目标输入 102 ."lY>(HJ  
6.4.2  目标 103 u0x\5!?2  
6.4.3  特殊的评价函数 104 [AU1JO`\"  
6.5  层锁定和连接 104 a
}fW3+>  
6.6  细化技术 104 { sZrI5  
6.6.1  单纯形 105 \h yTcFb  
6.6.1.1 单纯形参数 106 h m"B kOA  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 ^a(q7ZfY
 
6.6.2.1 Optimac参数 108 |h'ugx1iY  
6.6.3  模拟退火算法 109 UKzmR
a,s  
6.6.3.1　模拟退火参数 109 4, :D4WYWD  
6.6.4  共轭梯度 111 @<YZa$`  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 mdk:
2ndP  
6.6.5  拟牛顿法 112 Y8P  
6.6.5.1 拟牛顿参数： 112 M,9WF)p)V  
6.6.6  针合成 113 DQ~@=%?ni  
6.6.6.1 针合成参数 114 `wq\K8v  
6.6.7 差分进化 114
`R^)<v*  
6.6.8非局部细化 115 =gj]R  
6.6.8.1非局部细化参数 115 WcdU fv(>  
6.7  我应该使用哪种技术？ 116 rF5<x3  
6.7.1 　细化 116 )&w\9}B:  
6.7.2　 合成 117 A[b'MNsv  
6.8  参考文献 117 )JjfPb64  
7  导纳图及其他工具 118 Lt*H|9  
7.1  简介 118 -AbA6_j  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 P}PSS#nn  
7.2.1  四分之一波长规则 119 &38Fj'l  
7.2.2  导纳图 120 a{HvrWs?Q  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 A*$vk
2VWw  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 IXH;QwR:  
7.5  斜入射导纳图 141 I[R?j?$}>  
7.6  对称周期 141 #><.zZ  
7.7  参考文献 142 5Ph"*Rz%  
8  典型的镀膜实例 143 4b(iGLrt0  
8.1  单层抗反射薄膜 145 & z?y  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 R)H@'X  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 ^{bP#f  
8.4  W-膜层 148  l[ L{m7  
8.5  V-膜层 149 jHFdDw|N`  
8.6  V-膜层高折射基底 150 ^RY_j>i  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 h\yYg'CC  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 VA]%i P,O-  
8.9  四层抗反射薄膜 153 8>w/Es5  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 DZ EA*E
>  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 !?KY;3L:  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 vzVl2  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 F:\y#U6"J  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 =]D##R  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 aMzAA  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 \h"s[G zq  
8.17  1/4波长堆栈 162 iA:CPBv_mu  
8.18  陷波滤波器 163 \Q#F&q0  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 ){6;o&CC:  
8.20  褶皱 165 YT-t$QyL  
8.21  消偏振分光器1 169 8]0R[kjD  
8.22  消偏振分光器2 171 a
mPQU  
8.23  消偏振立体分光器 172 Kr9 @  
8.24  消偏振截止滤光片 173 ?.4u'Dkn=  
8.25  立体偏振分束器1 174 =7$YBCuF  
8.26  立方偏振分束器2 177 jx-W$@  
8.27  相位延迟器 178 
_)p%  
8.28  红外截止器 179 b]J_R"}  
8.29  21层长波带通滤波器 180 Yc9 M6=E^  
8.30  49层长波带通滤波器 181 Z'u`)jR  
8.31  55层短波带通滤波器 182 ((H}d?^AJ  
8.32  47 红外截止器 183 ]A_)&`"Cb  
8.33  宽带通滤波器 184 nc`[fy|}  
8.34  诱导透射滤波器 186 XX/cJp  
8.35  诱导透射滤波器2 188 )[/+j"F   
8.36  简单密集型光波复用（DWDM）滤波器 190 '&U
X'Dd~Q  
8.37  高级密集型光波复用技术（DWDM）滤波器 192 YWm:#{n.  
8.35  增益平坦滤波器 193 $biCm$a  
8.38  啁啾反射镜 1 196 QjRVdb>  
8.39  啁啾反射镜2 198 ptUnV3h  
8.40  啁啾反射镜3 199
}|x]8zL8G  
8.41  带保护层的铝膜层 200 AN^;~m^  
8.42  增加铝反射率膜 201 or(Z-8a_  
8.43  参考文献 202 Um*{~=;u  
9  多层膜 204 m+1MoeR  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 4$.4,4+  
9.2  内部透过率 204 k8w8I$QEM  
9.3 内部透射率数据 205 &ts!D!Hj  
9.4  实例 206 }bHdU]$}  
9.5  实例2 210 ;Ni+TS  
9.6  圆锥和带宽计算 212 qG~O]($  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 |JrG?:n  
10  光学薄膜的颜色 216 lS}5bcjR=k  
10.1  导言 216 u0N1+-6kr+  
10.2  色彩 216 dGZVWEaPfx  
10.3  主波长和纯度 220 PF4Cs3m/  
10.4  色相和纯度 221
;o#dmG  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 uTOL  
10.6 色差 226 Rg'1 F  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 ?-*_v//g  
10.8  颜色渲染指数 234 U+nwLxe'  
10.9  色差计算 235 HSyohP87  
10.10  参考文献 236 Y]ZOvA5W  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 xUj[d(q  
11.1  短脉冲 238 \Q]2Zq  
11.2  群速度 239 VNaa(Q  
11.3  群速度色散 241 17J|g.]m-&  
11.4  啁啾(chirped) 245 @|r*yi  
11.5  光学薄膜—相变 245 $UKV2c  
11.6  群延迟和延迟色散 246 HZ]'?&0  
11.7  色度色散 246 Pgb<;c:4  
11.8  色散补偿 249 #j
'OrD  
11.9  空间光线偏移 256 ]#_,?d  
11.10  参考文献 258 Wrt3p-N"D  
12  公差与误差 260 *h$Dh5%P  
12.1  蒙特卡罗模型 260 x1wm]|BIf  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 ~[l2"@  
12.2.1  误差工具 267 / [:@j+n\  
12.2.2  灵敏度工具 271 +d]}  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 &yWl8O
 
12.2.2.2 灵敏度分布 275 tOS%.0W5J  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 w#]%I+  
12.3  参考文献 276 |fq1Mn8  
13  Runsheet 与Simulator 277 '^n2
]<  
13.1  原理介绍 277 ;,4Z5+  
13.2  截止滤光片设计 277 V/<dHOfR\  
14  光学常数提取 289 +#n5w8T)M  
14.1  介绍 289 EzwYqw  
14.2  电介质薄膜 289 ;?bRRW  
14.3  n 和k 的提取工具 295 eRv3qK{`  
14.4  基底的参数提取 302 USJ4qv+-  
14.5  金属的参数提取 306 lB.P   
14.6  不正确的模型 306 ?}lgwKBHl;  
14.7  参考文献 311 7DXT1+t  
15  反演工程 313 G23Mr9m5O  
15.1  随机性和系统性 313  E~jNUTq  
15.2  常见的系统性问题 314 3]M YHb  
15.3  单层膜 314 Ond"Eq=r  
15.4  多层膜 314 :>;-uve8'  
15.5  含义 319 K-(,,wS  
15.6  反演工程实例 319 0

X~Dxs  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 rN8 ZQiJC  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 !G Z2|~f9  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 kfM}j
  
16.1  光学性质的热致偏移 329 :/K 'P`JaL  
16.2  应力工具 335 fw'$HV76  
16.3  均匀性误差 339 q$0^U{j/  
16.3.1  圆锥工具 339 i=]IUjx<  
16.3.2  波前问题 341 wnN@aO6g*  
16.4  参考文献 343 <j-Bj$3  
17  如何在Function（模块）中编写操作数 345 ')}$v+9h  
17.1  引言 345 coiTVDwA  
17.2  操作数 345 }ZlJ  
18  如何在Function中编写脚本 351 uFW4A  
18.1  简介 351 Yk6fr~b  
18.2  什么是脚本？ 351 \bZbz/+D  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 l3)
(aay!  
18.4  基础 352 kT[]^Jtc  
18.4.1  Classes（类别） 352 hnmFhJ !g  
18.4.2  对象 352 L5]*ZCDv  
18.4.3  信息（Messages） 352 `LVXK|m+$  
18.4.4  属性 352 KSc&6UVz^  
18.4.5  方法 353 {M$mrmG  
18.4.6  变量声明 353 >/ECLP  
18.5  创建对象 354 w[n|Sauy,  
18.5.1  创建对象函数 355 HRC5z<k%  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 +g@@|&B  
18.5.3 丢弃对象 356 VABrw t
 
18.5.4  总结 356 2u~0B +)K/  
18.6  脚本中的表格 357 !c\s)&U7B  
18.6.1  方法1 357 5MO:hE5sm  
18.6.2  方法2 357 A|c
:&i  
18.7 2D Plots in Scripts 358 sO~N2  
18.8 3D Plots in Scripts 359 s"=e(ob  
18.9  注释 360 |^^;v|  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 4qrPAt  
18.11  一个更高级的脚本 362 -~p@o1k0  
18.12  <esc>键 364 `[C8iF*Y"  
18.13 包含文件 365 p}}}~ l
C/  
18.14  脚本被优化调用 366 h,\^Sb5AP  
18.15  脚本中的对话框 368 }$Q+x'  
18.15.1  介绍 368 hUxpz:U*  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 D-8%lGS
 
18.15.3  输入框函数 370 N`Zm[Sv7  
18.15.4  自定义对话框 371 ]j}zN2[A  
18.15.5  对话框编辑器 371  N_=7  
18.15.6  控制对话框 377 );@@>~  
18.15.7  更高级的对话框 380 !3-mPG< ]  
18.16 Types语句 384 1x V~EX  
18.17 打开文件 385 #z6RzZu  
18.18 Bags 387 N?p9h{DG  
18.13  进一步研究 388 rM
2?"  
19  vStack 389 GQ$0`?lp  
19.1  vStack基本原理 389 d_QHm;}Cx  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 yaa+j8s]  
19.3  五棱镜 393 +7|Oy3s  
19.4 光束距离 396 GLv}|>W  
19.5 误差 399 >hRYsWbmg  
19.6  二向分色棱镜 399 *$1*\oCtz  
19.7  偏振泄漏 404 *J 7>6N:-  
19.8  波前误差—相位 405 "k"q)5c  
19.9  其它计算参数 405 Iu
[^"  
20  报表生成器 406
!Z<GUblt  
20.1  入门 406 #:"\6s  
20.2  指令(Instructions) 406 ygd'Nh!@  
20.3  页面布局指令 406 ^pKC0E[%  
20.4  常见的参数图和三维图 407 0d9rJv}~  
20.5  表格中的常见参数 408 +VAfT\G2  
20.6  迭代指令 408 Y\%R6/Gj|u  
20.7  报表模版 408 66[yL(*+  
20.8  开始设计一个报表模版 409 4_F<jx,G  
21  一个新的project 413 ]W5s!T_  
21.1  创建一个新Job 414 2j=3i
@  
21.2  默认设计 415 h%E25in  
21.3  薄膜设计 416 j0kEi+!TVq  
21.4  误差的灵敏度计算 420 b0rC\^x  
21.5  显色指数计算 422 n?YGXW/  
21.6  电场分布 424 3 ^{U:"N0  
后记 426 cJ&l86/l1  
"3Ag+>tuRW  
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h7O  
书籍名称：《Essential Macleod中文手册》 lh(A=hn"n  
UDt.w82  
《Essential Macleod中文手册》 vJtQ&,zG  
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目  录 nm*1JA.:  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 v
)%EG  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 @H]g_yw [:  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 o-("S|A-  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 rQ30)5^V|  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 [\@!~F{  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 RgRyo  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 1[} =,uaM  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 v\n!Li H  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 yJ/m21f  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 @wl80v  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 G\*`EM4  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 U11rj,7  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 QbV)+7II=  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 D<5gdIw  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 a_x$I?,  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 K{x<zv&
,  
SKD!V6S  
价  格：400元