[培训]上海｜薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25（三）-27日（五） [复制链接]

特邀专家介绍 %o  
[k<.BCE  
易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，研究生导师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 Kl/n>qEt  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 IzI2w6a  
随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 {A`J0ol<B9  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 g-LMct8$  
1. Essential Macleod软件介绍 M/a40uK  
1.1 介绍软件 ,_M  
1.2 创建一个简单的设计 M* 0zvNg  
1.3 绘图和制表来表示性能 +(U;+6
b  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 (Go1@;5I  
1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） P y!$r  
1.6 特定设计的公式技术 *8Kx y@  
1.7 交互式绘图 ,^1B"#0{C<  
2. 光学薄膜理论基础 ?#~km0~F)  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 7!g"q\s  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 H8!
)zZ  
3. 材料管理 8|) $;.  
3.1 材料模型 S;K5JBX0#  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 /<VR-yr  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 j"r7M|Z+V  
3.4 基板光学常数的提取 =&t]R? F  
4. 光学薄膜设计优化方法 =/e
$Rp  
4.1 参考波长与g )}$]~ f4R  
4.2 四分之一规则 2|A?9aE%0  
4.3 导纳与导纳图 Qf($F,)K  
4.4 斜入射光学导纳 p#0L@!,  
4.5 光学薄膜设计的进展 {!&^VXZIT  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 6]|-%  
4.6.1 优化目标设置 7e:eL5f>~  
4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法） rrP_7D  
4.6.3 膜层锁定和链接 v\2-%  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 _$KEE|9  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 $d*PY_  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 *X /i<  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 <nU8.?\?~  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 | Di7,$c  
5.5 如何在Function中编写脚本 cV4]Y(9  
6. 光学薄膜系统案例 1t/mq?z:  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 `-w,6  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 5t,X;  
6.3 Stack应用范例说明 xzXNcQ  
7. 薄膜性能分析 TSTkMlCG  
7.1 电场分布 l4gZHMh
'  
7.2 公差与灵敏度分析 wx8Qz,Z  
7.3 反演工程 *]:J@KGf  
7.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真 -Q6Vz=ku  
8. 真空技术 /'a\$G"%6  
8.1 常用真空泵介绍 Vg~10Q  
8.2 真空密封和检漏 ^c]c`w  
9. 薄膜制备技术 k$|g)[RE  
9.1 常见薄膜制备技术 #T=e p0  
10. 薄膜制备工艺 q 7-ZPX  
10.1 薄膜制备工艺因素 ;}H*|"z;!  
10.2 薄膜均匀性修正技术 VG_xN
M  
10.3 光学薄膜监控技术 4_
-L1WH  
11. 激光薄膜 q"i]&dMr  
11.1 薄膜的损伤问题 /@64xrvIl=  
11.2 激光薄膜的制备流程 ~t1?oJ  
11.3 激光薄膜的制备技术 .I0M'L~!/L  
12. 光学薄膜特性测量 hmB`+?,z*  
12.1 薄膜光谱测量 qr(t_qR&  
12.2 薄膜光学常数测量 o@L2c3?c5  
12.3 薄膜应力测量 >8|V[-H  
12.4 薄膜损伤测量 cB)tfS4)  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析内容简介 y&V%xE/  
Macleod软件自带的用户手册功能全面，其介绍涵盖了软件的方方面面，能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而，为了顺应目前薄膜行业的需求，急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍，以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作，因此，我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 <v!jS=T  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（原著第二版）是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结，结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod，其内容丰富，实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法，还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题，如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节，首先，从光学薄膜的基本理论出发（第2章），为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次，在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作，以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后，从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合，从而使大家将理论知识与实际经验结合起来，对实际镀膜提出实用的建议，以减少设计时间并降低生产成本。 J"-/ok(<@  
薄膜光学涵盖范围很广，书中并附设计光盘和参考文献，有兴趣者可依此深入研究，为精准起见，在不影响理解的情况下，尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助，通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限，书中错误纰漏之处在所难免，本书若有不周之处，尚请读者不吝赐教。 +2w<V0V_  
{:#c1d2@8  
" {X0&  
z31g"  
目录 2sj: &][R  
Preface 1 Wuk!\<T{  
内容简介 2 LrT? ]o  
目录 i c!GJS`/  
1  引言 1 g
'td(i[  
2  光学薄膜基础 2 u2OrH3E4E3  
2.1  一般规则 2 M8IU[Pz4  
2.2  正交入射规则 3 a ?\:,5=  
2.3  斜入射规则 6 6~l+wu<$  
2.4  精确计算 7
6tGF  
2.5  相干性 8 22*~CIh~x  
2.6 参考文献 10 .Fx3WryF  
3  Essential Macleod的快速预览 10 >2v<;.  
4  Essential Macleod的特点 32 d@tf+_Ih  
4.1  容量和局限性 33 Y$#6%`*#>n  
4.2  程序在哪里？ 33 Tb!FO"o  
4.3  数据文件 35 3 }3C*w+  
4.4  设计规则 35 Z_a@,k:+[  
4.5  材料数据库和资料库 37 5jv*C]z  
4.5.1材料损失 38 Fkg%_v$  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 bYmk5fpRG  
4.5.2 材料库 41 FOteNQTj  
4.5.3导出材料数据 43 =sso )/3  
4.6  常用单位 43 SW5n?Qj3-  
4.7  插值和外推法 46 sm{/S*3  
4.8  材料数据的平滑 50 P@Fx6  
4.9 更多光学常数模型 54 S|T_<FCY  
4.10  文档的一般编辑规则 55 "<Yxt"Z4  
4.11 撤销和重做 56 MEM(uBYKOb  
4.12  设计文档 57 O`I}Lg]~q  
4.10.1  公式 58 ~
pHuh#>  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 f\r"7j  
4.10.3  沉积密度 59 l](!2a=[  
4.10.4 平行和楔形介质 60 JmeE}:5lpj  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 1!yd(p=cL  
4.10.4  性能 61 aPRMpY-YC3  
4.10.5  保存设计和性能 64 i(Zz
E  
4.10.6  默认设计 64 qL <@PC.5  
4.11  图表 64 #*%?
]B=  
4.11.1  合并曲线图 67 0+[3>Ny0  
4.11.2  自适应绘制 68 ^*+j7A.n  
4.11.3  动态绘图 68 138v{Z  
4.11.4  3D绘图 69 -0TI7 @  
4.12  导入和导出 73 hi4-Z=pl  
4.12.1  剪贴板 73 )L7[;(gQ  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 =*{7G*tS  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 A-d<[@d0  
4.13  背景 77 [XH,~JZJj  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 WYP\J1sy  
4.15  生成Rugate 84 #s' `bF^  
4.16  参考文献 91 x iz+R9p  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 ?NvE9+n  
5.1  Jobs 92 Anqt:(  
5.2  创建一个新Job（工作） 93 Y;i
I=U  
5.3  输入材料 94 e&E7_  
5.4  设计数据文件夹 95 Vk2%yw>  
5.5  默认设计 95 ~*J <lln  
6  细化和合成 97 hTWZIW@  
6.1  优化介绍 97 ,%qP   
6.2  细化 (Refinement) 98 X]n`YF7  
6.3  合成 (Synthesis) 100 wp'[AR
}  
6.4  目标和评价函数 101 !&cfX/y8  
6.4.1  目标输入 102 Y+kuj],h  
6.4.2  目标 103 f,|;eF-Z  
6.4.3  特殊的评价函数 104 epG]$T![  
6.5  层锁定和连接 104 .tHjGx  
6.6  细化技术 104 }_-tJ.  
6.6.1  单纯形 105 6)W8HX~+  
6.6.1.1 单纯形参数 106 >rSCf=  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 ,% 'r:@'  
6.6.2.1 Optimac参数 108 Z[l+{  
6.6.3  模拟退火算法 109 k<Xb<U  
6.6.3.1　模拟退火参数 109 4=`1C-v?q  
6.6.4  共轭梯度 111 D=Nt0y  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 Q@8(e&{#W  
6.6.5  拟牛顿法 112 q(WGvl^r  
6.6.5.1 拟牛顿参数： 112 #xq3)B  
6.6.6  针合成 113 ?"T!<L  
6.6.6.1 针合成参数 114 W$Xr:RU  
6.6.7 差分进化 114 r_FI5f  
6.6.8非局部细化 115 '4D7:  
6.6.8.1非局部细化参数 115 65VTKlDD  
6.7  我应该使用哪种技术？ 116 }eI9me@Aa  
6.7.1 　细化 116  j=G  
6.7.2　 合成 117 7h2/8YUgQ  
6.8  参考文献 117 M+^ NF\  
7  导纳图及其他工具 118 `c|H^*RC  
7.1  简介 118 |`kkmq  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 9YB?wh'S[  
7.2.1  四分之一波长规则 119 8r:T
&)v  
7.2.2  导纳图 120 XiV K4sD8  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 xls US'Eo  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 9i lJ  
7.5  斜入射导纳图 141 ,\1Rf
.  
7.6  对称周期 141 ttHRc!  
7.7  参考文献 142 [Jjo H1E@  
8  典型的镀膜实例 143 pHye8v4fvi  
8.1  单层抗反射薄膜 145 n5efHJU  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 ;49sou  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 "pcr-
?L  
8.4  W-膜层 148 fZS'e{V  
8.5  V-膜层 149 H;@0L}Nu+}  
8.6  V-膜层高折射基底 150 k^cnNx  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 6' \M:'<0e  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 1
{RA\CF  
8.9  四层抗反射薄膜 153 *-.`Q  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 W5()A,R  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155
+W$uHQq  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 F9tWJJUsr  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 |Q@(<'8=  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 n{qVF#N_  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 BZKg:;9  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 Fi7~JZZ  
8.17  1/4波长堆栈 162 W>c*\)Xk !  
8.18  陷波滤波器 163 u-bgk(u  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 :/Z1$xS  
8.20  褶皱 165 
MSp)Jc  
8.21  消偏振分光器1 169 7|bBC+;(  
8.22  消偏振分光器2 171 u[4h|*'"|  
8.23  消偏振立体分光器 172 y5D3zqCG  
8.24  消偏振截止滤光片 173 
O-pH~E  
8.25  立体偏振分束器1 174 R%t|R79I  
8.26  立方偏振分束器2 177 \f VX<L  
8.27  相位延迟器 178 !Htl e %  
8.28  红外截止器 179 9x(t"VPuS  
8.29  21层长波带通滤波器 180 KV'3\`v@LY  
8.30  49层长波带通滤波器 181 a3z_o)"   
8.31  55层短波带通滤波器 182 Sht3\cJ8  
8.32  47 红外截止器 183 HCYy9  
8.33  宽带通滤波器 184 /}%C'  
8.34  诱导透射滤波器 186 e5lJ)_o  
8.35  诱导透射滤波器2 188 o)CW7Y#?,  
8.36  简单密集型光波复用（DWDM）滤波器 190 Uxe]T  
8.37  高级密集型光波复用技术（DWDM）滤波器 192 VP?Q$?a  
8.35  增益平坦滤波器 193 {}gL*2:EW$  
8.38  啁啾反射镜 1 196 C.H(aX)7  
8.39  啁啾反射镜2 198 }s#4m  
8.40  啁啾反射镜3 199 zxd<C
q>d  
8.41  带保护层的铝膜层 200 Tc/<b2\g  
8.42  增加铝反射率膜 201 F4~O-g.<  
8.43  参考文献 202 CG J_k?h  
9  多层膜 204 '~z`kah  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 5nmE*(  
9.2  内部透过率 204 x[BA <UNO  
9.3 内部透射率数据 205 8u"C7} N_  
9.4  实例 206 ;Yg/y  
9.5  实例2 210 O`PQ4Q*F  
9.6  圆锥和带宽计算 212 j~cG#t]  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 ymR AQVv  
10  光学薄膜的颜色 216 <iH"5DEe  
10.1  导言 216 qjf4G[]!  
10.2  色彩 216 mM+^v[=  
10.3  主波长和纯度 220 o?3C-A|  
10.4  色相和纯度 221 D*_.4I  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 O-~cj7 0\  
10.6 色差 226 )IIWXN2A  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 z~1S/,Ca  
10.8  颜色渲染指数 234 |uRYejj#j  
10.9  色差计算 235 q%1B4 mF'  
10.10  参考文献 236 P8ns @VV  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 k^s7s{  
11.1  短脉冲 238 uhwCC  
11.2  群速度 239 tqKX\N=5^  
11.3  群速度色散 241 g`"_+x'  
11.4  啁啾(chirped) 245 )o&}i3~Q  
11.5  光学薄膜—相变 245 m8gU8a"(  
11.6  群延迟和延迟色散 246 I=YZ!*f/`  
11.7  色度色散 246 0nR_I^  
11.8  色散补偿 249 =;?Maexp3$  
11.9  空间光线偏移 256 =#%Vs>G  
11.10  参考文献 258 92*"3)
  
12  公差与误差 260 fCv.$5  
12.1  蒙特卡罗模型 260 !P
d)  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 E-?JHJloU  
12.2.1  误差工具 267 H^$7=  
12.2.2  灵敏度工具 271 >k~3W> D  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 %kQ[zd^  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 3Z%jx#  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 TF,([p*  
12.3  参考文献 276 Bv6~!p  
13  Runsheet 与Simulator 277 d#I; e  
13.1  原理介绍 277 P4s,N|bs`  
13.2  截止滤光片设计 277 >[P`$XkXd4  
14  光学常数提取 289 id1gK(F8H  
14.1  介绍 289 =Zaw>p*H  
14.2  电介质薄膜 289 T@r%~z  
14.3  n 和k 的提取工具 295 'W~6-c9y  
14.4  基底的参数提取 302 @4]
dv> Z  
14.5  金属的参数提取 306 /86PqKU(P  
14.6  不正确的模型 306 9tCF m.m  
14.7  参考文献 311 7X.B  
15  反演工程 313 !Bhs8eGr3  
15.1  随机性和系统性 313 O[9A}g2~  
15.2  常见的系统性问题 314 M,DwBEF?  
15.3  单层膜 314 okbW. ~  
15.4  多层膜 314 % +M,FgW  
15.5  含义 319 <bh!wf6;  
15.6  反演工程实例 319 QnIF{TS=  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 .wQM_RZJ  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 mnq1WU;<  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 n55s7wzM  
16.1  光学性质的热致偏移 329 Q\2~^w1
V  
16.2  应力工具 335 N[xa=  
16.3  均匀性误差 339 C4eQ.ep  
16.3.1  圆锥工具 339 U%tpNWB  
16.3.2  波前问题 341 }#`-mRaU  
16.4  参考文献 343 6>Is-/hsy  
17  如何在Function（模块）中编写操作数 345 .:SY:v r  
17.1  引言 345 A_|X54}w&  
17.2  操作数 345 hx;0h&L  
18  如何在Function中编写脚本 351 wD $sKd  
18.1  简介 351 bN>|4hS  
18.2  什么是脚本？ 351 GbBz;ZV%z,  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 q_h/zPuH'  
18.4  基础 352 BPypjS0?8  
18.4.1  Classes（类别） 352 \7*"M y*  
18.4.2  对象 352 S&Sa~Oq<o  
18.4.3  信息（Messages） 352 EN@<z;  
18.4.4  属性 352 "pQ)5/e  
18.4.5  方法 353 +^|=MK%  
18.4.6  变量声明 353 *orP{p-U  
18.5  创建对象 354 5uL!Ae  
18.5.1  创建对象函数 355 j55OG~)  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 HP[M"u  
18.5.3 丢弃对象 356 zdN(r<m9"  
18.5.4  总结 356 tP|ox]  
18.6  脚本中的表格 357 c+G%o8  
18.6.1  方法1 357 U^9#uK6GM  
18.6.2  方法2 357 SG-Xgr@  
18.7 2D Plots in Scripts 358 OF1Qr bj  
18.8 3D Plots in Scripts 359 /jd.<r=_I  
18.9  注释 360 =_vW7-H  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 d
0G d5%  
18.11  一个更高级的脚本 362  *#sY-Gd  
18.12  <esc>键 364 ,h* 'Cs04h  
18.13 包含文件 365 L9,O,f  
18.14  脚本被优化调用 366 i
fcC [.im  
18.15  脚本中的对话框 368 &z;
1Z  
18.15.1  介绍 368 crr#tad.  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 M1e79p<  
18.15.3  输入框函数 370 YiTVy/  
18.15.4  自定义对话框 371 n]v,cfn/=<  
18.15.5  对话框编辑器 371 Cg];UB}k  
18.15.6  控制对话框 377 GvT ~zNd  
18.15.7  更高级的对话框 380 "Rr650w[  
18.16 Types语句 384 G[a&r   
18.17 打开文件 385 OEXa^M4x   
18.18 Bags 387 V})b.\"F  
18.13  进一步研究 388 '\/|K  
19  vStack 389 fzW!-  
19.1  vStack基本原理 389 ,];QzENw  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 ,g{Ob{qT  
19.3  五棱镜 393 tZ_D.syBAc  
19.4 光束距离 396 ;hJz'&UWQ  
19.5 误差 399 yFjjpEpnFt  
19.6  二向分色棱镜 399 ^(T_rEp  
19.7  偏振泄漏 404 #;F*rJ[XY  
19.8  波前误差—相位 405 ;.&k zzvJ  
19.9  其它计算参数 405 EOzw&M];r  
20  报表生成器 406 6"u"B-cz  
20.1  入门 406 .dTXC'  
20.2  指令(Instructions) 406 |,WP)  
20.3  页面布局指令 406 0E/,l``p  
20.4  常见的参数图和三维图 407 +`'>  
20.5  表格中的常见参数 408 R9)"%SO<y  
20.6  迭代指令 408 m53
~Ysq<
 
20.7  报表模版 408 m"RSDM!  
20.8  开始设计一个报表模版 409 9]PMti  
21  一个新的project 413 Z:Y_{YAD  
21.1  创建一个新Job 414 0{!+N6MiR  
21.2  默认设计 415 B
Fn4H%1  
21.3  薄膜设计 416 G
?5Vj_n  
21.4  误差的灵敏度计算 420 4LkW`Sbm  
21.5  显色指数计算 422 ^/DP%^D  
21.6  电场分布 424 y.Y;<UGu  
后记 426 0c$ ')`!m  
P|QM0GI  
b+e9Pi*\  
书籍名称：《Essential Macleod中文手册》 v)%0`%nSR  
0^>b=a  
《Essential Macleod中文手册》 4O:y ?D/e  
,<!v!~Iy  
目  录 `xF^9;5mi  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 0artR~*}  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 +CXtTasP  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 s|9[=JMG  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 NM0s*s42  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 ANq3r(  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 IT:8k5(L5j  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 -DL"Yw}  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 nr- 32u  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 Fb\ E39  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 4{CeV7  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 ';KWHk8C  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 8\Kpc;zb  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 Df.eb|[{  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 );=0cnr3  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 v^3s?VD  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 -SUK[<=X  
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价  格：400元