[培训]上海｜薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25（三）-27日（五） [复制链接]

特邀专家介绍 XzBlT( `w  

图片:w800

.cz7jD  
易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，研究生导师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 ^"iJ  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 :W#?U yo  
随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 x~ID[  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 \olY)b[  
1. Essential Macleod软件介绍 Y,
?kS dS  
1.1 介绍软件 K{9  
1.2 创建一个简单的设计 %<|cWYM="z  
1.3 绘图和制表来表示性能 ?DE{4Ti/[  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 ]:}7-;$V  
1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） sJMpF8   
1.6 特定设计的公式技术 ^O& y;5  
1.7 交互式绘图 ]*D~>q"#\  
2. 光学薄膜理论基础 4|UtE<<b  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 }:S}jo7  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 P?@o?  
3. 材料管理 h0C>z2iH  
3.1 材料模型 )<$<9!L4x  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 !AGoI7W}  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 +F~B"a  
3.4 基板光学常数的提取 3bT?4  
4. 光学薄膜设计优化方法 :jJ0 +Q  
4.1 参考波长与g U|b)Bw<P  
4.2 四分之一规则 xwj{4fzpk{  
4.3 导纳与导纳图 +UiJWO
 
4.4 斜入射光学导纳 .LGA0  
4.5 光学薄膜设计的进展 w,j;XPp  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 }@~+%_;  
4.6.1 优化目标设置 *;l[|  
4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法） rH'|$~a  
4.6.3 膜层锁定和链接 k\RS L  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 R5\|pC  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 &x$ps  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 xEv?2n@A  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 L\R(//V  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 n]t3d  
5.5 如何在Function中编写脚本 7eW6$$ju,N  
6. 光学薄膜系统案例 iba8G]2  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 k"6v& O  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 CF v]wS  
6.3 Stack应用范例说明 t^2$ent  
7. 薄膜性能分析 Gzwb<e y  
7.1 电场分布 4O:HT m  
7.2 公差与灵敏度分析 DQ&\k'"\  
7.3 反演工程 !%B-y9\  
7.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真 \Y`psSf+  
8. 真空技术 qTN30(x2  
8.1 常用真空泵介绍 s#(7D3Pr#  
8.2 真空密封和检漏 N,.awA{  
9. 薄膜制备技术 ^gkKk&~A5?  
9.1 常见薄膜制备技术 ]=59_bkD:s  
10. 薄膜制备工艺 9i D&y)$"  
10.1 薄膜制备工艺因素 E(&zH;?_  
10.2 薄膜均匀性修正技术 [[xnp;-;  
10.3 光学薄膜监控技术 h>p,r\X  
11. 激光薄膜 ],vid1E  
11.1 薄膜的损伤问题 V{~~8b1E  
11.2 激光薄膜的制备流程 _#uRKy<`N  
11.3 激光薄膜的制备技术 HBs 6:[q  
12. 光学薄膜特性测量 93ggCOaYA  
12.1 薄膜光谱测量 BqM[{Kv  
12.2 薄膜光学常数测量 W@i|=xS?  
12.3 薄膜应力测量 'v=BAY=Ef  
12.4 薄膜损伤测量 N`qGwNT%G  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析内容简介 c._!dq&#R  
Macleod软件自带的用户手册功能全面，其介绍涵盖了软件的方方面面，能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而，为了顺应目前薄膜行业的需求，急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍，以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作，因此，我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 K)}Vr8,V  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（原著第二版）是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结，结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod，其内容丰富，实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法，还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题，如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节，首先，从光学薄膜的基本理论出发（第2章），为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次，在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作，以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后，从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合，从而使大家将理论知识与实际经验结合起来，对实际镀膜提出实用的建议，以减少设计时间并降低生产成本。 iRqLLM
rn  
薄膜光学涵盖范围很广，书中并附设计光盘和参考文献，有兴趣者可依此深入研究，为精准起见，在不影响理解的情况下，尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助，通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限，书中错误纰漏之处在所难免，本书若有不周之处，尚请读者不吝赐教。 t~.^92]s|  
WI.+9$1:P  
s@Loax6@B  
a&dP@)  
目录 /||8j.Tm  
Preface 1 44KWS~  
内容简介 2 |tz{Es<`B  
目录 i S
pOS
Upl%  
1  引言 1 RWoVN$i>  
2  光学薄膜基础 2 BqdGU-Q  
2.1  一般规则 2 QUg<~q)Oq  
2.2  正交入射规则 3 Bo1 t}#7  
2.3  斜入射规则 6 Zu>CR_C  
2.4  精确计算 7 7M_GGjP  
2.5  相干性 8 t}MT<Jj  
2.6 参考文献 10 uKB V`I  
3  Essential Macleod的快速预览 10 \`%#SmQF  
4  Essential Macleod的特点 32 !!mGsgnW  
4.1  容量和局限性 33 E.-2 /'i  
4.2  程序在哪里？ 33 gKgdu($NJ  
4.3  数据文件 35 ey\(*Tu9  
4.4  设计规则 35 QUF1_Sa  
4.5  材料数据库和资料库 37 ''k}3o.K[  
4.5.1材料损失 38 @V+KL>Qw  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 i98PlAq)B  
4.5.2 材料库 41 o=F!
&]+  
4.5.3导出材料数据 43 E/D@;Ym18  
4.6  常用单位 43 >feeVk  
4.7  插值和外推法 46 P(3$XMx  
4.8  材料数据的平滑 50 r4iT 9D  
4.9 更多光学常数模型 54 %6Y}0>gY  
4.10  文档的一般编辑规则 55
Z'm( M[2K  
4.11 撤销和重做 56 f9'dZ}B  
4.12  设计文档 57 L:jv%;DM  
4.10.1  公式 58 ZB5NTNf>  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 h*sL' fJ]  
4.10.3  沉积密度 59 5j _[z|W2  
4.10.4 平行和楔形介质 60 w"A>mEex<  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 =H^~"16  
4.10.4  性能 61 5z" X>!?^  
4.10.5  保存设计和性能 64 dQ#oY|a  
4.10.6  默认设计 64 1J&hm[3[K  
4.11  图表 64 0,iG9D7  
4.11.1  合并曲线图 67 Qr?(2
t#  
4.11.2  自适应绘制 68 7'@~TM  
4.11.3  动态绘图 68 Ju.T.)H  
4.11.4  3D绘图 69 lH"VLO2l  
4.12  导入和导出 73 uiWo<}t}{  
4.12.1  剪贴板 73 8P2_/)|  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 '2{60t_A  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 T'N/A9{q  
4.13  背景 77
|1T[
P)Q  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 R]o2_r7N"}  
4.15  生成Rugate 84 lnV!Xuf  
4.16  参考文献 91 "2T* w~V&y  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 Cn>t"#zs!~  
5.1  Jobs 92 <V#]3$(S  
5.2  创建一个新Job（工作） 93 vQ{mEaH  
5.3  输入材料 94 4c.!^EiV  
5.4  设计数据文件夹 95 i^rHZmT  
5.5  默认设计 95 ,LL=b-Es  
6  细化和合成 97 \r&(l1R  
6.1  优化介绍 97 [Fr <tKtB  
6.2  细化 (Refinement) 98 qc6d,z/  
6.3  合成 (Synthesis) 100 ^5-SL?E  
6.4  目标和评价函数 101 sT91>'&  
6.4.1  目标输入 102
<In+V  
6.4.2  目标 103 0EC/l OS  
6.4.3  特殊的评价函数 104 yeV|j\TJI.  
6.5  层锁定和连接 104 >a: 6umY  
6.6  细化技术 104 U^OR\=G^  
6.6.1  单纯形 105 jf& oN]sZ  
6.6.1.1 单纯形参数 106 3[%n@i4H|  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 ) =|8%IrB  
6.6.2.1 Optimac参数 108 @%6"xnb`  
6.6.3  模拟退火算法 109 |1/?>=dDm  
6.6.3.1　模拟退火参数 109 O{=@c96rl  
6.6.4  共轭梯度 111 ~B`H5#  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 Lx3`.F\m
G  
6.6.5  拟牛顿法 112 7#9fcfL  
6.6.5.1 拟牛顿参数： 112 '^.3}N{Fo  
6.6.6  针合成 113 "GAKi}y">v  
6.6.6.1 针合成参数 114 g<i>25
2>  
6.6.7 差分进化 114 i6E~]&~.v  
6.6.8非局部细化 115 bWMb@zm  
6.6.8.1非局部细化参数 115 !:1BuiL  
6.7  我应该使用哪种技术？ 116 kyUG+M  
6.7.1 　细化 116 uHyc7^X>  
6.7.2　 合成 117 P)UpUMt;k  
6.8  参考文献 117 'Y>@t6E4  
7  导纳图及其他工具 118 4aG}ex-s|  
7.1  简介 118 ='HLA-uT  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 Ewo6Q){X  
7.2.1  四分之一波长规则 119 M =GF@C;b  
7.2.2  导纳图 120 e`%<D[-  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 alZ83^YN'  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 6yMaW eT  
7.5  斜入射导纳图 141 BNbz{tbX"  
7.6  对称周期 141 5K$d4KT  
7.7  参考文献 142 BU%gXr4Ra  
8  典型的镀膜实例 143 .Kk'N  
8.1  单层抗反射薄膜 145 7T=:dv  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 *GM.2``e  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147  C0j`H(  
8.4  W-膜层 148 wUmcA~3D  
8.5  V-膜层 149 .IORvP-M&  
8.6  V-膜层高折射基底 150 %eE 6\f%g  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 YHo*IX')C?  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 +InFv"wt  
8.9  四层抗反射薄膜 153 $eh>.c'&]  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 g<MCvC@  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 HQrx9CXE  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 <#7j~<  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 i7xBi:Si  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 qLm g18  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 [L>AU; :  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 DbK-3F_  
8.17  1/4波长堆栈 162 2Xp?O+b#"O  
8.18  陷波滤波器 163 6?3\P>`3Y  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 nnMRp7LQ-  
8.20  褶皱 165 7gT^ZL  
8.21  消偏振分光器1 169 IL<@UWs6  
8.22  消偏振分光器2 171 6
>/g`%`N  
8.23  消偏振立体分光器 172 {8J+Y}  
8.24  消偏振截止滤光片 173 -2*Pm1\Z  
8.25  立体偏振分束器1 174 7.C~ OrGR  
8.26  立方偏振分束器2 177 @Yh%.#\i%  
8.27  相位延迟器 178
0%]F&|  
8.28  红外截止器 179 LW+^m6O  
8.29  21层长波带通滤波器 180 ~.8p8\H  
8.30  49层长波带通滤波器 181 %weG}gCM  
8.31  55层短波带通滤波器 182 wnbKUlb  
8.32  47 红外截止器 183 Xh"8uJD  
8.33  宽带通滤波器 184 A$o?_  
8.34  诱导透射滤波器 186 $oH?7sj  
8.35  诱导透射滤波器2 188 =^g
ZJ@  
8.36  简单密集型光波复用（DWDM）滤波器 190 F]^ZdJ2  
8.37  高级密集型光波复用技术（DWDM）滤波器 192 ?-9It|R  
8.35  增益平坦滤波器 193 SFa~j)9'n  
8.38  啁啾反射镜 1 196 C(5B/W6  
8.39  啁啾反射镜2 198 |1^ !rHg  
8.40  啁啾反射镜3 199 %jmL#IN)  
8.41  带保护层的铝膜层 200 I0C$  
8.42  增加铝反射率膜 201 x)^t5"F  
8.43  参考文献 202 8hm|9  
9  多层膜 204 zX ?@[OT  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 ?DKwKt  
9.2  内部透过率 204 G,h=5y9_J  
9.3 内部透射率数据 205 ~>|o3&G{  
9.4  实例 206 by0M(h  
9.5  实例2 210 >TZyax<:  
9.6  圆锥和带宽计算 212 t5jZ8&M5]  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 ekhx?rz  
10  光学薄膜的颜色 216 0|@*`-:VO  
10.1  导言 216 FTC,{$  
10.2  色彩 216 @If ^5s;z  
10.3  主波长和纯度 220 U<mFwJ C]  
10.4  色相和纯度 221 eU.HS78  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 T_b$8GYfCY  
10.6 色差 226 AH#klYK  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 ) v^;"q"  
10.8  颜色渲染指数 234 uGH>|V9'c  
10.9  色差计算 235 {9*k \d/;  
10.10  参考文献 236 @XFy^?  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 DZ~qk+,I  
11.1  短脉冲 238 x6={)tj  
11.2  群速度 239 .3yxg}E>{  
11.3  群速度色散 241 Ud[Zv?tA:  
11.4  啁啾(chirped) 245 l9Sx'<  
11.5  光学薄膜—相变 245 0NMekVi
 
11.6  群延迟和延迟色散 246 +Q6}kbDI  
11.7  色度色散 246 1dahVc1W  
11.8  色散补偿 249 0413K_  
11.9  空间光线偏移 256 f|X./J4Bl  
11.10  参考文献 258 ^&6'FE  
12  公差与误差 260 ffqz :6  
12.1  蒙特卡罗模型 260 y
YM_  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 NRgNW1#  
12.2.1  误差工具 267 #^~[\8v>  
12.2.2  灵敏度工具 271 ?E:L6,a  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 @,{', =L6  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 4
tv}V:EO  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 jk'.G
z  
12.3  参考文献 276 uNSbAw3  
13  Runsheet 与Simulator 277 _mJnhT3  
13.1  原理介绍 277 l3C%`[MB  
13.2  截止滤光片设计 277 k{q4Zz[  
14  光学常数提取 289 <Fa]k'<^)  
14.1  介绍 289 YYc.e T<  
14.2  电介质薄膜 289 sHSD`mYq  
14.3  n 和k 的提取工具 295 {2Jn#&Z29  
14.4  基底的参数提取 302 -$
js5Gx1  
14.5  金属的参数提取 306 g-Y2U}&  
14.6  不正确的模型 306 1JI\e6]I  
14.7  参考文献 311 ~@wM[}ThP$  
15  反演工程 313 <p74U( V  
15.1  随机性和系统性 313 "\9!9U#!  
15.2  常见的系统性问题 314 `pzXh0}|  
15.3  单层膜 314 `Z:5E  
15.4  多层膜 314 U3f a*D  
15.5  含义 319 xF4>D!T%8  
15.6  反演工程实例 319 udV.$N  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 gI SP .  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 *$I5_A8,.  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 cnR.J  
16.1  光学性质的热致偏移 329 }bxW@(bs  
16.2  应力工具 335 C\B&'+uR  
16.3  均匀性误差 339 }I1SC7gY  
16.3.1  圆锥工具 339 boJ  
16.3.2  波前问题 341 )d\u_m W^  
16.4  参考文献 343 DFKumw>!  
17  如何在Function（模块）中编写操作数 345 g5 J[ut  
17.1  引言 345 !5;A.f  
17.2  操作数 345 EGZF@#N  
18  如何在Function中编写脚本 351 K5fL{2V?  
18.1  简介 351 3k J8Wn  
18.2  什么是脚本？ 351 B4 cm_YGE  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 'F- wC!  
18.4  基础 352 K38A;=t9
  
18.4.1  Classes（类别） 352 EN =oA P  
18.4.2  对象 352 pS3TD"p  
18.4.3  信息（Messages） 352 ;;2Yfn'`9  
18.4.4  属性 352 J4-64t nZ  
18.4.5  方法 353 x!
A.**  
18.4.6  变量声明 353 Ie[8Iot?bn  
18.5  创建对象 354 LyRU2A  
18.5.1  创建对象函数 355 d3$&I==;:  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 /NH9$u.g  
18.5.3 丢弃对象 356 &3Q!'pJJ  
18.5.4  总结 356 [=63xPxs.  
18.6  脚本中的表格 357 S|{'.XG  
18.6.1  方法1 357 }CiB+  
18.6.2  方法2 357 /WlpRf%  
18.7 2D Plots in Scripts 358 UUf-G0/P  
18.8 3D Plots in Scripts 359 V?a+u7*U&  
18.9  注释 360 l.#iMi(@p~  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 I?l%RdGW  
18.11  一个更高级的脚本 362 xMAfa>]{n  
18.12  <esc>键 364 Q!%4Iq%jr  
18.13 包含文件 365 hpxqL%r  
18.14  脚本被优化调用 366 f#s /Ycp+  
18.15  脚本中的对话框 368 $rAHtr  
18.15.1  介绍 368 #sn2Vmi  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 &:i|;^^2  
18.15.3  输入框函数 370 SxHj3,`#C  
18.15.4  自定义对话框 371 E,F'k2yU  
18.15.5  对话框编辑器 371 )}-,4Iu%  
18.15.6  控制对话框 377 (QPfrR=J4  
18.15.7  更高级的对话框 380 7>Af"1$g  
18.16 Types语句 384 (~R[K,G  
18.17 打开文件 385 '.sS"QdN  
18.18 Bags 387 jIq@@8@o  
18.13  进一步研究 388 H8V${&!ho  
19  vStack 389 *?zyF@K{%  
19.1  vStack基本原理 389 u}eqU%  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 wF +9Iu
 
19.3  五棱镜 393 FCC9Ht8U?  
19.4 光束距离 396 Mpf
dl65  
19.5 误差 399 Z'P>sV  
19.6  二向分色棱镜 399 DS@ZE Q`F  
19.7  偏振泄漏 404 ZeUA e  
19.8  波前误差—相位 405 \GL!x 7s1A  
19.9  其它计算参数 405 p7UdZOi2  
20  报表生成器 406 `CWI%V  
20.1  入门 406 h&$7^P  
20.2  指令(Instructions) 406 dE<}X7J%  
20.3  页面布局指令 406 7~2b4"&
 
20.4  常见的参数图和三维图 407 X=i^[?C  
20.5  表格中的常见参数 408 )T-C/
3  
20.6  迭代指令 408 G@YX8!wU  
20.7  报表模版 408 (v11;kdJB  
20.8  开始设计一个报表模版 409 `D0>L'  
21  一个新的project 413 j-egsKR  
21.1  创建一个新Job 414 xWwQm'I2}  
21.2  默认设计 415 Qi 3di  
21.3  薄膜设计 416 ~i)m(65:  
21.4  误差的灵敏度计算 420 C #A sA  
21.5  显色指数计算 422 PSOW}Y|q  
21.6  电场分布 424 mE`OG8  
后记 426 ze+_iQ5  
E?{{z4  
E8[{U8)[;5  
书籍名称：《Essential Macleod中文手册》 YVzcV`4w(  
3?x4+b  
《Essential Macleod中文手册》 [0M2`x4`  
3#{{+5G  
目  录 cs'ylGH  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 ' }G!D  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 8VbHZ9Q  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 NQ7j{dJ?  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 T=/GFg'  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 YL(7l|^!  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 2E V M*^A  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 K4]42#
  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 +(v<_#wR-  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 8db J'  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 X6+2~'*t  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 W
D wW`  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 \E9Hk{V:6  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 t7A '  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 wv.FL$f[@  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 80PlbUBb!  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 3=6`'PKRQ  
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价  格：400元