[培训]上海｜薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25（三）-27日（五） [复制链接]

特邀专家介绍 $k2*[sn,  
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易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，研究生导师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 ,L`$09\  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 ;dzL}@we  
随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 B4mR9HMh  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 HTyLJe  
1. Essential Macleod软件介绍 B|&"#Q  
1.1 介绍软件 Et/&^&=\-  
1.2 创建一个简单的设计 Mv6-|O  
1.3 绘图和制表来表示性能 TEaJG9RU>v  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 IzpZwx^3''  
1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） 1+U  
1.6 特定设计的公式技术 /=gOa\k|p  
1.7 交互式绘图 G 8V,  
2. 光学薄膜理论基础 oDU ;E  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 ]~E0gsq  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 4A2?Uhpy  
3. 材料管理 l@ap]R  
3.1 材料模型
%!PM&zV  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 (owrdPT!  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 ,.qMEMm  
3.4 基板光学常数的提取 #jxe%2'Ot  
4. 光学薄膜设计优化方法 1hziXC0WY  
4.1 参考波长与g 'FS?a  
4.2 四分之一规则 `IY/9'vT  
4.3 导纳与导纳图 l!g]a2x*  
4.4 斜入射光学导纳 ~R@Nd~L  
4.5 光学薄膜设计的进展 [NTtz <i@  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 g=$1cC+(  
4.6.1 优化目标设置 pf_mf.  
4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法） 14"J d\M8  
4.6.3 膜层锁定和链接 ?|ZTaX6A  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 as>L[jyG/  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 #2EI\E&$  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 `8
Lo{P  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 -P]sRl3O;  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 h@LHRMO  
5.5 如何在Function中编写脚本 $O*O/iG  
6. 光学薄膜系统案例 <&:=z?30"  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 ?2g`8[">  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 -G|G_$9  
6.3 Stack应用范例说明 z$kenhFG/  
7. 薄膜性能分析 wW/7F;54  
7.1 电场分布 "|HDGA5  
7.2 公差与灵敏度分析 Y)}Rb6qGW  
7.3 反演工程 Q;D0<Bv  
7.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真 7ek&[SJ>,/  
8. 真空技术 6}KZp~s  
8.1 常用真空泵介绍 H Tz  
8.2 真空密封和检漏 KR%{a(V;7  
9. 薄膜制备技术 Al`e/a  
9.1 常见薄膜制备技术 (S v~2  
10. 薄膜制备工艺 A+UU~?3y  
10.1 薄膜制备工艺因素 ,DZX$Ug~+E  
10.2 薄膜均匀性修正技术 uy}%0vLo  
10.3 光学薄膜监控技术 Usta0Ag  
11. 激光薄膜 b?j< BvQ  
11.1 薄膜的损伤问题 ?Oc{bF7  
11.2 激光薄膜的制备流程 3dDX8M?  
11.3 激光薄膜的制备技术 %:2+ o'  
12. 光学薄膜特性测量 >N.]|\V  
12.1 薄膜光谱测量 >(snII  
12.2 薄膜光学常数测量 &RTX6%'KY  
12.3 薄膜应力测量 =k oSUVO0  
12.4 薄膜损伤测量 v$ub~Q6W  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析内容简介 hnznp1[#@  
Macleod软件自带的用户手册功能全面，其介绍涵盖了软件的方方面面，能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而，为了顺应目前薄膜行业的需求，急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍，以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作，因此，我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 ScSZGs 5&  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（原著第二版）是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结，结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod，其内容丰富，实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法，还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题，如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节，首先，从光学薄膜的基本理论出发（第2章），为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次，在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作，以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后，从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合，从而使大家将理论知识与实际经验结合起来，对实际镀膜提出实用的建议，以减少设计时间并降低生产成本。 QzAK##9bfa  
薄膜光学涵盖范围很广，书中并附设计光盘和参考文献，有兴趣者可依此深入研究，为精准起见，在不影响理解的情况下，尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助，通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限，书中错误纰漏之处在所难免，本书若有不周之处，尚请读者不吝赐教。 ]]"jw{W}A  
p3}?fej&|  
HdLH2+|P;D  
G
lpe/At  
目录 ,do58i K  
Preface 1 Hp(D);0+)  
内容简介 2 .n=Z:*JqQ  
目录 i /P 2[:[w  
1  引言 1 g9Yz*Nee<  
2  光学薄膜基础 2 .m`y><.5  
2.1  一般规则 2 $*W6A/%O  
2.2  正交入射规则 3 h48SItY  
2.3  斜入射规则 6 zR32PG>9  
2.4  精确计算 7  <Tot|R;  
2.5  相干性 8 h)me\U7UC  
2.6 参考文献 10 sQ8s7l0D  
3  Essential Macleod的快速预览 10 3<=G?of  
4  Essential Macleod的特点 32 UQ.7>Ug+8s  
4.1  容量和局限性 33 +GAf O0  
4.2  程序在哪里？ 33 QL$S4 J"  
4.3  数据文件 35 -!8(bjlJ&  
4.4  设计规则 35 Ve/xnn]'  
4.5  材料数据库和资料库 37 kZ=s'QRgL  
4.5.1材料损失 38 4Ua>Yw0  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 ^`D=GF^tX  
4.5.2 材料库 41 Ia'ZV7'  
4.5.3导出材料数据 43 Nlj^Dm  
4.6  常用单位 43 tM#lFmdd\P  
4.7  插值和外推法 46 `4 y]Z)  
4.8  材料数据的平滑 50 k'PQ} ,Vb  
4.9 更多光学常数模型 54 Gx 72  
4.10  文档的一般编辑规则 55 e9E\% p  
4.11 撤销和重做 56 _aPh(qprc  
4.12  设计文档 57 )}L??|#  
4.10.1  公式 58 A4QcQ"  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 &ciN@nJ|$z  
4.10.3  沉积密度 59 9V.u-^o&  
4.10.4 平行和楔形介质 60 I_q~*/<h  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 Vj!
rT <@  
4.10.4  性能 61 @WKzX41'  
4.10.5  保存设计和性能 64 Hp|}~xjn  
4.10.6  默认设计 64 Cbs5dn(Y  
4.11  图表 64 J4YBqp  
4.11.1  合并曲线图 67 (7DXRcr<  
4.11.2  自适应绘制 68 !7d*v3)d  
4.11.3  动态绘图 68 /(8a~f&%r  
4.11.4  3D绘图 69 HBB{m  
4.12  导入和导出 73 wdvLx  
4.12.1  剪贴板 73 x^*1gv $o  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 1w"8~Z:UXV  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 #*>E*#?t  
4.13  背景 77 :L 3&FA  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 fKtV'/X;Q  
4.15  生成Rugate 84 n& $^04+i  
4.16  参考文献 91 Xe+,wW3YF  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 jn.C|9/mj  
5.1  Jobs 92 gip/(/NX  
5.2  创建一个新Job（工作） 93 &5t :H 8b  
5.3  输入材料 94 |p00j|k   
5.4  设计数据文件夹 95 `O6:t\d@  
5.5  默认设计 95 ,pBh`av  
6  细化和合成 97 A%\tiZe  
6.1  优化介绍 97 j!z-)p8hy  
6.2  细化 (Refinement) 98 0W^dhYO  
6.3  合成 (Synthesis) 100 ~LQ[4h<J !  
6.4  目标和评价函数 101 
i5F:r|  
6.4.1  目标输入 102 F%rHU5CkV  
6.4.2  目标 103 G9g6.8*&  
6.4.3  特殊的评价函数 104 +([!A6:  
6.5  层锁定和连接 104 ,1/}^f6  
6.6  细化技术 104 .C]cK%OO N  
6.6.1  单纯形 105 !SsHAE|  
6.6.1.1 单纯形参数 106 MP>n)!R[`  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 ZlKw_Sq:  
6.6.2.1 Optimac参数 108 2-0$FQ@/  
6.6.3  模拟退火算法 109
Vc3mp;6"  
6.6.3.1　模拟退火参数 109 y/c%+Ca/  
6.6.4  共轭梯度 111 Ov82ibp_1  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 AD('=g J  
6.6.5  拟牛顿法 112 XUV!C7  
6.6.5.1 拟牛顿参数： 112 b @;.F!x  
6.6.6  针合成 113 IK^~X{I?  
6.6.6.1 针合成参数 114 e1q"AOV6  
6.6.7 差分进化 114 O''y>N9  
6.6.8非局部细化 115 x6'^4y])  
6.6.8.1非局部细化参数 115 tK%c@gGU9  
6.7  我应该使用哪种技术？ 116 D';eTy Y  
6.7.1 　细化 116 N6Z{BLZ  
6.7.2　 合成 117 s4T}Bsr  
6.8  参考文献 117 RD<75]**{  
7  导纳图及其他工具 118 8n?kZY$,  
7.1  简介 118 P(omfD4  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 |Wj;QO$C  
7.2.1  四分之一波长规则 119 %|XE#hw  
7.2.2  导纳图 120 H]#Rg`~n  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 {fSfq&o  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 !#?kWAU  
7.5  斜入射导纳图 141 @\Js8[wS9@  
7.6  对称周期 141 ]qw0V   
7.7  参考文献 142 K\Eo z]?  
8  典型的镀膜实例 143 Ey&aBYR  
8.1  单层抗反射薄膜 145 #-cTc&$O;  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 'i>xf ^  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 7]22"mc  
8.4  W-膜层 148 /owO@~G  
8.5  V-膜层 149 v
i {uy  
8.6  V-膜层高折射基底 150 19d6]pJ5  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 rlznwfr7+  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 PK rek  
8.9  四层抗反射薄膜 153 RB3 zHk%  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 (%<'A  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 Lu>H`B7Q"  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 %"Db?  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 G5'_a$  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 yFpySvj}  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 Yr&Ka:  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 et$uP  
8.17  1/4波长堆栈 162 mrZ`Lm#>pS  
8.18  陷波滤波器 163 &$ p[  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 IjZ@U%g@;  
8.20  褶皱 165 r[HT9  
8.21  消偏振分光器1 169 E20 :uZ7\  
8.22  消偏振分光器2 171 !0fI"3P@r  
8.23  消偏振立体分光器 172 KAb(NZK  
8.24  消偏振截止滤光片 173 ^b53}f8H  
8.25  立体偏振分束器1 174 yBn_Kd  
8.26  立方偏振分束器2 177 v:d9o.h  
8.27  相位延迟器 178 T{S4|G1R6  
8.28  红外截止器 179 m@oUvxcd  
8.29  21层长波带通滤波器 180 D[>W{g $  
8.30  49层长波带通滤波器 181 HcJE0-"  
8.31  55层短波带通滤波器 182 k90B!kg  
8.32  47 红外截止器 183 6[==BbZ  
8.33  宽带通滤波器 184 9qH[o?]
 
8.34  诱导透射滤波器 186 FDLd&4Ex  
8.35  诱导透射滤波器2 188 Y%IJ8P^Y  
8.36  简单密集型光波复用（DWDM）滤波器 190 \f"?Tv-C'  
8.37  高级密集型光波复用技术（DWDM）滤波器 192 %2yAvG
a1  
8.35  增益平坦滤波器 193 `fW{yb  
8.38  啁啾反射镜 1 196 o'qm82* =  
8.39  啁啾反射镜2 198 c#\-%h  
8.40  啁啾反射镜3 199 |%ZpatZA5  
8.41  带保护层的铝膜层 200 #%cR%Z  
8.42  增加铝反射率膜 201 6ojo##j  
8.43  参考文献 202 6q%ed UED  
9  多层膜 204 Fp:3#Bh  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 #?m{YT{P  
9.2  内部透过率 204 "=A|K~b  
9.3 内部透射率数据 205 ?'2 v.5TQt  
9.4  实例 206 BLW]|p|1:  
9.5  实例2 210 .Z5[_'T
  
9.6  圆锥和带宽计算 212 UB&2f>  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 +k rFB?>`  
10  光学薄膜的颜色 216 7!- \L7<  
10.1  导言 216 eycV@|6u*  
10.2  色彩 216 ylkqhs&  
10.3  主波长和纯度 220 /c^e&D  
10.4  色相和纯度 221 :r39wFi  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 #{w5)|S#JD  
10.6 色差 226 h[H%:743  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 (rMZ  
10.8  颜色渲染指数 234 AP ;
*iyQ[  
10.9  色差计算 235 kJeu40oN  
10.10  参考文献 236 Ma_=-cD  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 <_f`$z  
11.1  短脉冲 238 ,cS0  
11.2  群速度 239 Ps7_-cH  
11.3  群速度色散 241 *+~D+_,  
11.4  啁啾(chirped) 245 _3U|2(E  
11.5  光学薄膜—相变 245 ni0LQuBp  
11.6  群延迟和延迟色散 246 sU*3\  
11.7  色度色散 246 2H>aC wfX  
11.8  色散补偿 249 {jhcZ"#>\  
11.9  空间光线偏移 256 Gt5$6>A


 
11.10  参考文献 258 SW=aHM  
12  公差与误差 260 #4q
1{)=  
12.1  蒙特卡罗模型 260 2*YP"R
yh  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 ?.j,Bq5At  
12.2.1  误差工具 267 =g[H]-Ee  
12.2.2  灵敏度工具 271 7%YYr^d  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 44<v9uSK  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 X?kPi&ru  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 /KP_Vc:g2_  
12.3  参考文献 276 rr)9Y][l}  
13  Runsheet 与Simulator 277 'ucGt  
13.1  原理介绍 277 776 nWw)  
13.2  截止滤光片设计 277
cUNGo%Y  
14  光学常数提取 289 iBS0rT_  
14.1  介绍 289 /evaTQPz  
14.2  电介质薄膜 289 `%%?zgY  
14.3  n 和k 的提取工具 295 v0u\xX[H;  
14.4  基底的参数提取 302 {NY]L==H  
14.5  金属的参数提取 306 8k%H[Smn:  
14.6  不正确的模型 306 `:R-[>5P8  
14.7  参考文献 311 Lv^a+'  
15  反演工程 313 9Yd-m  
15.1  随机性和系统性 313 R;.d/U|av  
15.2  常见的系统性问题 314 F[(6*/46x  
15.3  单层膜 314 !rz)bd
3$  
15.4  多层膜 314 &E`9>&~J  
15.5  含义 319 5(KG=EHj_  
15.6  反演工程实例 319 6l<1A$BQ  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 EuLXtq  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 G
+fd.~aGE  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 oAC^4-Ld  
16.1  光学性质的热致偏移 329 C*$|#.l  
16.2  应力工具 335 B0S8vU  
16.3  均匀性误差 339 >]^>gUmq
 
16.3.1  圆锥工具 339 v<%]XHN  
16.3.2  波前问题 341 2h5tBEOX.s  
16.4  参考文献 343 )< l\jfx e  
17  如何在Function（模块）中编写操作数 345 ~DK F%}E  
17.1  引言 345 [Yn;G7cK  
17.2  操作数 345 6/VNuQ_#  
18  如何在Function中编写脚本 351 #fO*ROe  
18.1  简介 351 4VC/-.At  
18.2  什么是脚本？ 351 xp~YIeSg  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 .Dc28F~t  
18.4  基础 352 Th_Q owk  
18.4.1  Classes（类别） 352 R9b
hC9NP  
18.4.2  对象 352 5Zzr5WM  
18.4.3  信息（Messages） 352 ^P]?3U\nj  
18.4.4  属性 352 R&]c"cO L8  
18.4.5  方法 353 jGJ.P
vc>i  
18.4.6  变量声明 353 Jk%'mEGE  
18.5  创建对象 354 (y%%6#bd  
18.5.1  创建对象函数 355 ip<15;Z  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 Ri9Kr  
18.5.3 丢弃对象 356 5XI;<^n2  
18.5.4  总结 356 U8EJC .e&O  
18.6  脚本中的表格 357 -*rHB&e  
18.6.1  方法1 357 lt&$8jh  
18.6.2  方法2 357 Oi6f8*,  
18.7 2D Plots in Scripts 358 vU?b"n  
18.8 3D Plots in Scripts 359 0S%tsXt+  
18.9  注释 360 f<'n5}{RO0  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 j l}!T[5  
18.11  一个更高级的脚本 362 G`9cd\^  
18.12  <esc>键 364 '" ^ B&W  
18.13 包含文件 365 =U=e?AOG2  
18.14  脚本被优化调用 366 (s5<  
18.15  脚本中的对话框 368 ]z+*?cc  
18.15.1  介绍 368 F\o;t:  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 XulaPq  
18.15.3  输入框函数 370 iTj"lA  
18.15.4  自定义对话框 371 ,}eRnl
\  
18.15.5  对话框编辑器 371 ,:Rft  
18.15.6  控制对话框 377 <jpeu^7  
18.15.7  更高级的对话框 380 x-w`KFS  
18.16 Types语句 384 Lhl$w'r  
18.17 打开文件 385 := ]sq}IN  
18.18 Bags 387 MFf05\aDu  
18.13  进一步研究 388 'bZMh9|  
19  vStack 389 V"w`!  
19.1  vStack基本原理 389 $&ex\_W  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 #;5[('&[  
19.3  五棱镜 393 XRClBTKF  
19.4 光束距离 396 ZMdM_i?  
19.5 误差 399 =Jsg{vI  
19.6  二向分色棱镜 399 BM|-GErE  
19.7  偏振泄漏 404 NFrNm'v  
19.8  波前误差—相位 405 N$N;Sw  
19.9  其它计算参数 405 l*F!~J3  
20  报表生成器 406 %KbBH:z05  
20.1  入门 406 73'U#@g6  
20.2  指令(Instructions) 406
8#X?k/mzU  
20.3  页面布局指令 406 "bHtf_  
20.4  常见的参数图和三维图 407 #[gcg]6c  
20.5  表格中的常见参数 408 E}xz7u   
20.6  迭代指令 408 R88(dEK  
20.7  报表模版 408 ?2JS&i  
20.8  开始设计一个报表模版 409 zAKq7'_=  
21  一个新的project 413 u5u0*c  
21.1  创建一个新Job 414 fo/ D3  
21.2  默认设计 415 @4G.(zW  
21.3  薄膜设计 416 1<XiD3H;  
21.4  误差的灵敏度计算 420 Paae-EmC  
21.5  显色指数计算 422 ?&whE!  
21.6  电场分布 424 <Cf7E  
后记 426 QVnO
  
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书籍名称：《Essential Macleod中文手册》 &Iv\jhq  
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《Essential Macleod中文手册》 ()+jrrK  
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目  录 F'V+2,.  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 NZfo`iHAN  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 3Ew"[FUs  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 o1fyNzq<  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 BxSk%$J  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 
377j3dP  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 }Q{ =:X9  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 p
l jV|.?  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 r6O7&Me<  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 syWv'Y[k?  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 az:~{f*-  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 Y(#d8o}}#  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 ?`vM#)  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 Q9Y9{T  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 `@u+u0  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 yS:IR
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第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 ;[WSf{k  
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价  格：400元