[培训]上海｜薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25（三）-27日（五） [复制链接]

特邀专家介绍 " `rkp=  
V8`o71p  
易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，研究生导师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 Bw^*6P^l  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 $X1T!i[.X  
随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 )}QtK+Rq  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 f9FJ:?  
1. Essential Macleod软件介绍 ];& @T\Rj  
1.1 介绍软件 @=CN#D12  
1.2 创建一个简单的设计 +&?#Gdb  
1.3 绘图和制表来表示性能 *o<zo `  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 _*\:UBZx6  
1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） M*M,Z  
1.6 特定设计的公式技术 J3Ipk-'lx  
1.7 交互式绘图 chw6_ctR>  
2. 光学薄膜理论基础 c*o05pMS  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 ;a@%FWc  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 _P6e%O8C#  
3. 材料管理 t[HfaW1W  
3.1 材料模型 JC|j*x(k/  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 $ ?ayE  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 o+{]&V->gN  
3.4 基板光学常数的提取 *E$&  
4. 光学薄膜设计优化方法 | Q0Wv8/  
4.1 参考波长与g a2J01B  
4.2 四分之一规则 9FB k|g"U)  
4.3 导纳与导纳图 TmI~P+5w  
4.4 斜入射光学导纳 Mr/;$O{  
4.5 光学薄膜设计的进展 \0gU)tVZ  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 klkshlk d  
4.6.1 优化目标设置 |~)!8N.{  
4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法） v|DgRPY  
4.6.3 膜层锁定和链接 tzH~[n,  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 l/WQqT  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估  ! @EZ  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 mn5y]:;`  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 TsiI5'tx  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 90Rz#qrI*  
5.5 如何在Function中编写脚本 Y!!w*G9b  
6. 光学薄膜系统案例 2
G=prS`s  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 ck0K^o v  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 W(~7e?fO  
6.3 Stack应用范例说明 . W ~&d_n  
7. 薄膜性能分析 ,O`a_b]  
7.1 电场分布 .7GTL  
7.2 公差与灵敏度分析 =;HC7TUM&  
7.3 反演工程 -@=As00Bg  
7.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真 fXo$1!  
8. 真空技术 PBkTI2 v  
8.1 常用真空泵介绍 3MqyHOOv  
8.2 真空密封和检漏 o8uak*"{  
9. 薄膜制备技术 5?] Dn k.o  
9.1 常见薄膜制备技术 _k'?eZB  
10. 薄膜制备工艺 <c;U 0! m  
10.1 薄膜制备工艺因素 },eV?eGj  
10.2 薄膜均匀性修正技术 ^T>P  
10.3 光学薄膜监控技术 Hl"^E*9x  
11. 激光薄膜 86 $88`/2  
11.1 薄膜的损伤问题 5t
=7-  
11.2 激光薄膜的制备流程 KE$I!$zO  
11.3 激光薄膜的制备技术 zE,1zBS<  
12. 光学薄膜特性测量 TzSEQS{  
12.1 薄膜光谱测量 CdZS"I  
12.2 薄膜光学常数测量 M9C v00&  
12.3 薄膜应力测量 JE~;gz]  
12.4 薄膜损伤测量 YY4XCkt  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析内容简介 2E0A`  
Macleod软件自带的用户手册功能全面，其介绍涵盖了软件的方方面面，能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而，为了顺应目前薄膜行业的需求，急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍，以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作，因此，我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 |K.J@zW  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（原著第二版）是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结，结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod，其内容丰富，实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法，还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题，如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节，首先，从光学薄膜的基本理论出发（第2章），为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次，在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作，以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后，从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合，从而使大家将理论知识与实际经验结合起来，对实际镀膜提出实用的建议，以减少设计时间并降低生产成本。 NCX`
-SLv  
薄膜光学涵盖范围很广，书中并附设计光盘和参考文献，有兴趣者可依此深入研究，为精准起见，在不影响理解的情况下，尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助，通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限，书中错误纰漏之处在所难免，本书若有不周之处，尚请读者不吝赐教。 >;^t)6  
jjJvyZi~J  

c^F@9{I  

w ]%EJ|'  
目录 %4$J.6M
 
Preface 1 6<t<hP_3O  
内容简介 2 u.yjk/jF  
目录 i kac-@  
1  引言 1 3[*x'"Q;H  
2  光学薄膜基础 2 9EFQo^ E  
2.1  一般规则 2 ]broU%#"  
2.2  正交入射规则 3 ^1w<wB\B  
2.3  斜入射规则 6 MkK6.qV\z  
2.4  精确计算 7 qsG}A  
2.5  相干性 8 HrK7qLw7  
2.6 参考文献 10 16-1&WuY@  
3  Essential Macleod的快速预览 10 tNf_,]u  
4  Essential Macleod的特点 32 nN'>>'@>  
4.1  容量和局限性 33 4R}$P1 E  
4.2  程序在哪里？ 33 7X{@$>+S  
4.3  数据文件 35 =Sjf-o1V  
4.4  设计规则 35 y F;KyY{  
4.5  材料数据库和资料库 37 zqCr'$  
4.5.1材料损失 38 v;.w*x8Jw  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 qZ<|A%WQ  
4.5.2 材料库 41  [1Q:  
4.5.3导出材料数据 43 {36QZV*P  
4.6  常用单位 43 Dzr(Fb  
4.7  插值和外推法 46 Bk;/>gD  
4.8  材料数据的平滑 50 os[i  
4.9 更多光学常数模型 54 3gQ2wP*K  
4.10  文档的一般编辑规则 55 'GF<_3I2l  
4.11 撤销和重做 56 ? 4v"y@v  
4.12  设计文档 57 |'QgL0?  
4.10.1  公式 58 R^VmNj  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 LZ4Z]!V  
4.10.3  沉积密度 59 Uqd2{fji=#  
4.10.4 平行和楔形介质 60 
M?v`C>j  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 5E!Wp[^  
4.10.4  性能 61 zgPUW z X=  
4.10.5  保存设计和性能 64 -Gj."ks
  
4.10.6  默认设计 64 ,|^ lqY  
4.11  图表 64 7Um3myXU  
4.11.1  合并曲线图 67 ;\54(x}|K  
4.11.2  自适应绘制 68 S{S.H?{F  
4.11.3  动态绘图 68 k/m-jm_h  
4.11.4  3D绘图 69 S]<%^W'  
4.12  导入和导出 73 rPx:o}&<  
4.12.1  剪贴板 73 w)<h$<tU  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 ]
]6  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 H|8i|vbi  
4.13  背景 77 ^K?Mq1"Db  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 ^$;5ZkQy  
4.15  生成Rugate 84 {SwvUWOf"  
4.16  参考文献 91 JL=s=9N;3  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 +GlG.6  
5.1  Jobs 92 8;fi1 "F;}  
5.2  创建一个新Job（工作） 93 Lw<%?F (  
5.3  输入材料 94 _xdFQ  
5.4  设计数据文件夹 95 W~?mr!`  
5.5  默认设计 95 m%.7l8vT  
6  细化和合成 97 9;L50q>s  
6.1  优化介绍 97 osPrr QoH  
6.2  细化 (Refinement) 98 %&&;06GU}  
6.3  合成 (Synthesis) 100 psM&r  
6.4  目标和评价函数 101 7NP Ny  
6.4.1  目标输入 102 8
?[#\KgH1  
6.4.2  目标 103 =`f"8,5  
6.4.3  特殊的评价函数 104 lQt* LWd[  
6.5  层锁定和连接 104 deqL  
6.6  细化技术 104 I`[s(C>3@  
6.6.1  单纯形 105 9UcSQ"D  
6.6.1.1 单纯形参数 106 e)kVS}e?  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 oF=UjA  
6.6.2.1 Optimac参数 108 U,tWLX$@  
6.6.3  模拟退火算法 109 X@^"@  
6.6.3.1　模拟退火参数 109 q":0\ar&QT  
6.6.4  共轭梯度 111 jB0ED0)wX  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 <lf6gb  
6.6.5  拟牛顿法 112 89l{h8R  
6.6.5.1 拟牛顿参数： 112 `cpUl*Y=  
6.6.6  针合成 113 S)z5=N(Xz  
6.6.6.1 针合成参数 114 x>MY_?a  
6.6.7 差分进化 114 q|xic>.  
6.6.8非局部细化 115 k-|b{QZ8!;  
6.6.8.1非局部细化参数 115 =Y<RG"]a&J  
6.7  我应该使用哪种技术？ 116 *S\/l-D  
6.7.1 　细化 116 T)#eaz$4W  
6.7.2　 合成 117 3vRBK?Q.y  
6.8  参考文献 117 #]e](j>]  
7  导纳图及其他工具 118 J/ZC<dkYQ  
7.1  简介 118 g/jlG%kI}  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 r|JZU  
7.2.1  四分之一波长规则 119 Bw*
6X`'Q  
7.2.2  导纳图 120 =7 ${bp!  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 .>+jtp}  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 x L]Z3"p%  
7.5  斜入射导纳图 141 =J827c{.  
7.6  对称周期 141 O>Ao#_*hOb  
7.7  参考文献 142 K91.-k3)$  
8  典型的镀膜实例 143 WG(%Pkowv
 
8.1  单层抗反射薄膜 145 @Yzc?+x  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146
"&N1$$  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 QP1bm]QYA  
8.4  W-膜层 148 V8IEfU  
8.5  V-膜层 149 U(u$5  
8.6  V-膜层高折射基底 150 r^$WX@ t&  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 Bw8&Amxx:  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 @DK;i_i  
8.9  四层抗反射薄膜 153 7
J+cs^2  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 Y|y X]\,  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 -40OS=wpA  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 OVf%m~%&s  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 zx=AT
 
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 P4.snRQ  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 N cnL-k.  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 V.12  
8.17  1/4波长堆栈 162 dRPX
`%J  
8.18  陷波滤波器 163 6n5>{X  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 [SA$d`B/  
8.20  褶皱 165 Ialbz\;F2%  
8.21  消偏振分光器1 169 Gw0MDV&[  
8.22  消偏振分光器2 171 ;'xd8Jf  
8.23  消偏振立体分光器 172 BHEZ<K[U   
8.24  消偏振截止滤光片 173 n 2m!a0;
 
8.25  立体偏振分束器1 174 `Wy8g?d;bn  
8.26  立方偏振分束器2 177 p@bcf5'  
8.27  相位延迟器 178 {fAj*,pzl  
8.28  红外截止器 179 84UI)nE:Q  
8.29  21层长波带通滤波器 180 eE-c40Bae  
8.30  49层长波带通滤波器 181 4.}J'3 .  
8.31  55层短波带通滤波器 182 Lyj0$wbH`  
8.32  47 红外截止器 183 &0QtHcXpR  
8.33  宽带通滤波器 184 `1qM Sq  
8.34  诱导透射滤波器 186 [
Csv/  
8.35  诱导透射滤波器2 188 +\@WO
s  
8.36  简单密集型光波复用（DWDM）滤波器 190 ~f:jI1(}  
8.37  高级密集型光波复用技术（DWDM）滤波器 192 3^J~ts{*  
8.35  增益平坦滤波器 193 s u)AIvF
{  
8.38  啁啾反射镜 1 196 +7|Qd}\X  
8.39  啁啾反射镜2 198 DV">9{"5']  
8.40  啁啾反射镜3 199  LAfv1  
8.41  带保护层的铝膜层 200 Nw=mSW^E  
8.42  增加铝反射率膜 201 cp\A xWtUZ  
8.43  参考文献 202 c<n <!!
vi  
9  多层膜 204 x0dO^D  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 b+qdl`Vd  
9.2  内部透过率 204 sU}.2k  
9.3 内部透射率数据 205 6fr@y=s2:  
9.4  实例 206 #pm0T1+jW  
9.5  实例2 210 ~Q/G_^U:  
9.6  圆锥和带宽计算 212 .ECT  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 BV`,~n:
 
10  光学薄膜的颜色 216 !mtq?LV  
10.1  导言 216 aO]FQ#
l2b  
10.2  色彩 216 b3RCsIz  
10.3  主波长和纯度 220 _]~= Kjp  
10.4  色相和纯度 221 hJcN*2\:  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 O.g!k"nas&  
10.6 色差 226 />E:}1}{  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 ON~K(O2g(  
10.8  颜色渲染指数 234 #Z.2g].  
10.9  色差计算 235 ,F)9{ <r]  
10.10  参考文献 236 _[_mmf1;:'  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 A]k-bX= s  
11.1  短脉冲 238 aE'nW@YL
.  
11.2  群速度 239 6xsB#v*  
11.3  群速度色散 241 %x G3z7;  
11.4  啁啾(chirped) 245 y@?t[A#v  
11.5  光学薄膜—相变 245 d#*n@@V4  
11.6  群延迟和延迟色散 246 a1nj}1M%  
11.7  色度色散 246 MU/3**zoW  
11.8  色散补偿 249 !<P|:Oo*Dl  
11.9  空间光线偏移 256 E")g1xGaK  
11.10  参考文献 258 '&#YaD=""  
12  公差与误差 260 k_}aiHdG  
12.1  蒙特卡罗模型 260 ]sf1+3  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 !33)6*s  
12.2.1  误差工具 267 !=w&=O0(  
12.2.2  灵敏度工具 271 hL8GW> `a  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 ozr82  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 @&G< Np
`  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 ZXR#t?D  
12.3  参考文献 276 M XX:i  
13  Runsheet 与Simulator 277 @h&crI[c  
13.1  原理介绍 277 HI}9"(t}  
13.2  截止滤光片设计 277 n2#Yw}7^,o  
14  光学常数提取 289 :J{| /"==  
14.1  介绍 289 Mx<?c  
14.2  电介质薄膜 289 m)aNuQvy:Z  
14.3  n 和k 的提取工具 295 X>`5YdT~+  
14.4  基底的参数提取 302  c>(`X@KL  
14.5  金属的参数提取 306 ^bjaa  
14.6  不正确的模型 306 q0l=S+0
 
14.7  参考文献 311 f;w7YO+$p9  
15  反演工程 313 >P/Nb]C  
15.1  随机性和系统性 313 &S8Pnb)d  
15.2  常见的系统性问题 314 10 D6fkjf  
15.3  单层膜 314 X/D^?BKC  
15.4  多层膜 314 .9Y,N&V<H  
15.5  含义 319 |<q9Ee  
15.6  反演工程实例 319 K3WhF  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 q|23l1PI  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 4CT _MAj  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 +TQMA>@g<  
16.1  光学性质的热致偏移 329 EGKj1_ml  
16.2  应力工具 335 %S
X)Z i=O  
16.3  均匀性误差 339 {B_p
js  
16.3.1  圆锥工具 339 y ;$8C  
16.3.2  波前问题 341 6_s_2cr  
16.4  参考文献 343 HZHzjrx  
17  如何在Function（模块）中编写操作数 345 APC,p,"  
17.1  引言 345 E(;V.=I  
17.2  操作数 345 bJz}\[z  
18  如何在Function中编写脚本 351 q*^F"D:?k  
18.1  简介 351 fW,,@2P  
18.2  什么是脚本？ 351 7%E]E,f/#  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351
Q--VZqn  
18.4  基础 352 R6N+c\W  
18.4.1  Classes（类别） 352 ![{>$Q?5  
18.4.2  对象 352 nlfu y[oX  
18.4.3  信息（Messages） 352 x'.OLXx>  
18.4.4  属性 352 *r&q;ER  
18.4.5  方法 353 ygvX}q  
18.4.6  变量声明 353 9b/7~w.  
18.5  创建对象 354 krw_1Mm  
18.5.1  创建对象函数 355 Bj ~bsT@a.  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 GomTec9.  
18.5.3 丢弃对象 356 aa'u5<<W  
18.5.4  总结 356 I4%p?'i,C  
18.6  脚本中的表格 357 0 tZ>yR  
18.6.1  方法1 357 h#o3qY  
18.6.2  方法2 357 yJ
heni  
18.7 2D Plots in Scripts 358 f~RS[h`:  
18.8 3D Plots in Scripts 359 XM+o e0:[  
18.9  注释 360 vtv^l3  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 >z`^Q[  
18.11  一个更高级的脚本 362 [&Z3+/lR*  
18.12  <esc>键 364 WCg*TL}  
18.13 包含文件 365 >~g(acH%`x  
18.14  脚本被优化调用 366 lO)0p2  
18.15  脚本中的对话框 368 ;}t
EU'&  
18.15.1  介绍 368 #9{9T"ed  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 vSt7&ec  
18.15.3  输入框函数 370 lE8M.ho\  
18.15.4  自定义对话框 371 [Ipg",Su;f  
18.15.5  对话框编辑器 371 Tk^J#};N  
18.15.6  控制对话框 377 P~>E  
18.15.7  更高级的对话框 380 {EoRY/]  
18.16 Types语句 384 UogkQ& B  
18.17 打开文件 385 
<h$Nh0  
18.18 Bags 387 3c"$@W:>  
18.13  进一步研究 388 6a+w/IO3OU  
19  vStack 389 \,w*K'B_Y  
19.1  vStack基本原理 389 Lqt.S|  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 "w)Y0Qq*z  
19.3  五棱镜 393 MpV
3.  
19.4 光束距离 396 D['z/r6F  
19.5 误差 399 W;Rx(o>  
19.6  二向分色棱镜 399 ]8}+%P,Q  
19.7  偏振泄漏 404 'E4`qq  
19.8  波前误差—相位 405 (6aSDx Sc  
19.9  其它计算参数 405 \k#|5W  
20  报表生成器 406 4>uy+"8PO  
20.1  入门 406 b.`<T"y  
20.2  指令(Instructions) 406 },"T,t#  
20.3  页面布局指令 406 2\$P&L a  
20.4  常见的参数图和三维图 407 6z/ct|n  
20.5  表格中的常见参数 408 x2#5"/~4  
20.6  迭代指令 408 yzvNv]Z'*  
20.7  报表模版 408 2 kOFyD  
20.8  开始设计一个报表模版 409 r((2.,\Z  
21  一个新的project 413 D# $Fj  
21.1  创建一个新Job 414 .`iG}j)\  
21.2  默认设计 415 '`-W!g[ >  
21.3  薄膜设计 416 3f u*{8.XZ  
21.4  误差的灵敏度计算 420 U{IY F{;@  
21.5  显色指数计算 422 &B^zu+J  
21.6  电场分布 424 z/JoUje  
后记 426 Q^&oXM'x/i  
~*3obZ2>2  
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>vZS  
书籍名称：《Essential Macleod中文手册》 ~wMdk9RQ  
]x8_f6;D  
《Essential Macleod中文手册》 FS3MR9  
A
`=;yD  
目  录 7,i}M  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 c+6/@y  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 !)jw o=l}J  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 iqzl(9o.D  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 jWn!96NhlL  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100
4%8}vCs  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 dLtSa\2Hn  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 bIFKP  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 TZ`@pDi  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 4G:I VK9  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 z (N3oBW  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 E8TJ*ZU  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 +`EF0sux  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 !]%M  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 IETdL{`~  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 [DW}z  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 U({20  
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价  格：400元