时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 @:7gHRJ!
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天 AM 9:00-PM 16:00 <]'"e]
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 >jX
UO
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 >$mSFJz5S
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
特邀专家介绍
9 <KtI7 ~}5Ml_J$,l 易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事
光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率
激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。
.UrYF 0 获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要
A(n=kx 随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。
{}pqxouE 本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲
%]ayW$4 1. Essential Macleod软件介绍
|mk}@OEf 1.1 介绍
软件 ,8IAhQa 1.2 创建一个简单的设计
8sIrG 1.3 绘图和制表来表示性能
kP)o=\|W{z 1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据
v\Y}(fD 1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann)
5FSv"= 1.6 特定设计的公式技术
gOyY#]g 1.7 交互式绘图
b.4Xn0-M 2. 光学薄膜理论基础
_g 4/% 2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算
<}
y p 2.2 后表面对光学薄膜特性的影响
xD 3. 材料管理
I/Jp,~JT* 3.1 材料模型
&ZE\@Vc 3.2 介质薄膜光学常数的提取
EyPJvs 3.3 金属薄膜光学常数的提取
c,q"}nE8w 3.4 基板光学常数的提取
%%~}Lw 4. 光学薄膜设计
优化方法
_?s %MNaX 4.1 参考
波长与g
p%"yBpSK 4.2 四分之一规则
DAnb.0 4.3 导纳与导纳图
|.C
4.4 斜入射光学导纳
)@qup _M@ 4.5 光学薄膜设计的进展
}{8Fo4/ 4.6 Macleod软件的设计与优化功能
#\;>8 4.6.1 优化目标设置
5)yOw|Bd 4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法)
lB!vF ~A& 4.6.3 膜层锁定和链接
90T%T2K 5. Essential Macleod中各个模块的应用
FxfL+}?Q 5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估
KO|pJ3 5.2 光通信用窄带滤光片模拟
HRV*x!|I 5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号
um jhG6 5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟
:B=8_M 5.5 如何在Function中编写脚本
wm=RD98 6. 光学薄膜系统案例
ns#~}2"d 6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等
gKN}Of@^1 6.2 仿生蛾眼/复眼结构等
Mi}I0yhVm 6.3 Stack应用范例说明
ole|J 7. 薄膜性能分析
<'[Ku;m 7.1 电场分布
*J_iXu| 7.2 公差与灵敏度分析
-~][0PVL9 7.3 反演工程
*AH^%!kVP 7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真
ZCQ<%f 8. 真空技术
"#twY|wW 8.1 常用真空泵介绍
<jUrE[x 8.2 真空密封和检漏
8lOI\- 9. 薄膜制备技术
/zG+] 9.1 常见薄膜制备技术
#%^\\|'z 10. 薄膜制备工艺
nlzW.OLM 10.1 薄膜制备工艺因素
ejklpa ./ 10.2 薄膜均匀性修正技术
A)Qh 10.3 光学薄膜监控技术
3@)obb 11. 激光薄膜
8?7kIin 11.1 薄膜的损伤问题
i-,D_ 11.2 激光薄膜的制备流程
0/\PZX+ 11.3 激光薄膜的制备技术
YOV : 12. 光学薄膜特性测量
*KK[(o}^J- 12.1 薄膜
光谱测量
&$qF4B* 12.2 薄膜光学常数测量
kG1;]1tT# 12.3 薄膜应力测量
qO-C%p
[5 12.4 薄膜损伤测量
o\ngR\> 12.5 薄膜形貌、结构与组分分析
?j/kOD0
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书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
'@TI48 J+
内容简介
H&X:!xa5 Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。
>z=Ou<, 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。
/vjGjb=3U 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。
%bP~wl~ {l2N& 讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
(=1q!c`
53
@oP 目录
dEASvD' Preface 1
b~_B
[cf 内容简介 2
(0i'Nb" 目录 i
~G>jw"r 1 引言 1
47IY|Jdz 2 光学薄膜基础 2
{-@~Q.&}v 2.1 一般规则 2
?7#7: 2.2 正交入射规则 3
<jeh`g 2.3 斜入射规则 6
lhqQCV 2.4 精确计算 7
XGfzEld2" 2.5 相干性 8
Y@Y`gF6F 2.6 参考文献 10
QDS0ejhp 3 Essential Macleod的快速预览 10
XHs d- 4 Essential Macleod的特点 32
?6i;)eIOI 4.1 容量和局限性 33
+YTx
4.2 程序在哪里? 33
2;G98H 4.3 数据文件 35
mD7}t 4.4 设计规则 35
(w+%=z"M 4.5 材料数据库和
资料库 37
&p5&=zV} 4.5.1材料损失 38
TPHYz>D] 4.5.1材料数据库和导入材料 39
tPA:_ 4.5.2 材料库 41
Qyz>ZPu}sz 4.5.3导出材料数据 43
o{V#f_o 4.6 常用单位 43
t5paYw-b 4.7 插值和外推法 46
c/
_yMN 4.8 材料数据的平滑 50
bGN
5 4{f 4.9 更多光学常数模型 54
lop uf/U0 4.10 文档的一般编辑规则 55
Y0@yD#,0~ 4.11 撤销和重做 56
CtM'L 4.12 设计文档 57
W,3zL.qH" 4.10.1 公式 58
d$K=c1 4.10.2 更多关于膜层厚度 59
@l~7x 4.10.3 沉积密度 59
-Q$b7*"z( 4.10.4 平行和楔形介质 60
HA!t$[_Ve 4.10.5 渐变折射率和散射层 60
9?
2 4.10.4 性能 61
66Gx.tE 4.10.5 保存设计和性能 64
^agj4$ 4.10.6 默认设计 64
\~>e_; 4.11 图表 64
OV[`|<C ' 4.11.1 合并曲线图 67
?E<c[*F05 4.11.2 自适应绘制 68
*69c-`o 4.11.3 动态绘图 68
uEx9-,! 4.11.4 3D绘图 69
xc;DdK=1X 4.12 导入和导出 73
zDDK 4.12.1 剪贴板 73
G2]^F Y 4.12.2 不通过剪贴板导入 76
s qpGrW. 4.12.3 不通过剪贴板导出 76
CWi8Fv 4.13 背景 77
}c%
pH{HI 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80
,r=re!QI7 4.15 生成Rugate 84
',ZF5T5z@ 4.16 参考文献 91
WPo:^BD 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92
bLbR IY"l 5.1 Jobs 92
:p>hW!~ 5.2 创建一个新Job(工作) 93
\dcdw*v@ 5.3 输入材料 94
A59gIp*> 5.4 设计数据文件夹 95
ewnfeg1 5.5 默认设计 95
d~@q%-`lA 6 细化和合成 97
r`6:Q&& 6.1 优化介绍 97
/v#)f-N%zs 6.2 细化 (Refinement) 98
^ve14mbF#. 6.3 合成 (Synthesis) 100
hj!+HHYSk 6.4 目标和评价函数 101
LjaGyj>) 6.4.1 目标输入 102
5G(E&>~ 6.4.2 目标 103
8>N wCjN 6.4.3 特殊的评价函数 104
M2@;RZ(| 6.5 层锁定和连接 104
|~K(F<;j 6.6 细化技术 104
%NajFjBI 6.6.1 单纯形 105
>(3\kiYS 6.6.1.1 单纯形
参数 106
%8mm Hh 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107
s-rfS7; 6.6.2.1 Optimac参数 108
r:&|vP 6.6.3 模拟退火算法 109
ONX8}Ob~ 6.6.3.1 模拟退火参数 109
*Zbuq8> 6.6.4 共轭梯度 111
WVX`< 6.6.4.1 共轭梯度参数 111
T_;]fPajjD 6.6.5 拟牛顿法 112
a#0;==# 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112
-5bA
$ 6.6.6 针合成 113
DBs DkkB{ 6.6.6.1 针合成参数 114
p&N#_dmlH 6.6.7 差分进化 114
2e1]}wlK 6.6.8非局部细化 115
zY=jXa)K~ 6.6.8.1非局部细化参数 115
,^$|R32 6.7 我应该使用哪种技术? 116
5`-UMz<] 6.7.1 细化 116
o3N] `xD' 6.7.2 合成 117
^6;V}2>v} 6.8 参考文献 117
>#(n"RCHf 7 导纳图及其他工具 118
x,8<tSW)Z 7.1 简介 118
S%mfs!E> 7.2 薄膜作为导纳的变换 118
?+2b(2&MXE 7.2.1 四分之一波长规则 119
2oVV'9;B 7.2.2 导纳图 120
1||+6bRP 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124
\9{F5Sz 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125
\Kavw 7.5 斜入射导纳图 141
aFj.i8+ 7.6 对称周期 141
q%/uQT? 7.7 参考文献 142
4Ysb5m)u 8 典型的镀膜实例 143
.Zmp , 8.1 单层抗反射薄膜 145
pyZ9OA!PD 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146
=!b6FjsiG 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147
},@^0UH4c 8.4 W-膜层 148
d8o53a] 8.5 V-膜层 149
?GT@puJS- 8.6 V-膜层高折射基底 150
G"dS+,Q 8.7 V-膜层高折射率基底b 151
X~9j$3lUBR 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152
Pm{*.AW1 8.9 四层抗反射薄膜 153
y9l*m~ 8.10 Reichert抗反射薄膜 154
sLL7]m} 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155
'UU\4M 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156
:t("L-GPW 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157
&1|?BZv 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158
0?DC00O 8.15十五层宽带抗反射膜 159
K^l:MxO-X 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161
/t%u"dP"T~ 8.17 1/4波长堆栈 162
iw9Q18:I} 8.18 陷波滤波器 163
b=;nm#cAI 8.19 厚度调制陷波滤波器 164
_BM4>r?\ 8.20 褶皱 165
Q \hY7Xq' 8.21 消偏振分光器1 169
NH A 5e< 8.22 消偏振分光器2 171
.)tSg 8.23 消偏振立体分光器 172
]0V}D,V($ 8.24 消偏振截止滤光片 173
Qdk6Qubi! 8.25 立体偏振分束器1 174
]< l6s 8.26 立方偏振分束器2 177
i[jJafAcN 8.27 相位延迟器 178
*fMpZ+;[m 8.28 红外截止器 179
iBg3mc@OO 8.29 21层长波带通滤波器 180
_fk#< 8.30 49层长波带通滤波器 181
J3RB]O_ 8.31 55层短波带通滤波器 182
OhZgcUqQ8 8.32 47 红外截止器 183
0%Ll 8.33 宽带通滤波器 184
*/qtzt 8.34 诱导透射滤波器 186
y046:@v( 8.35 诱导透射滤波器2 188
xw5d|20b 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190
(2ot5x}`j 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192
'9p@vi{\ 8.35 增益平坦滤波器 193
Sl2iz? 8.38 啁啾反射镜 1 196
dUrElXbXd 8.39 啁啾反射镜2 198
uN*KHE+h 8.40 啁啾反射镜3 199
LpbsYl 8.41 带保护层的铝膜层 200
df}r% i 8.42 增加铝反射率膜 201
_gj&$zP 8.43 参考文献 202
G3P&{.v 9 多层膜 204
* |.0Myjo 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204
>et-{(G 9.2 内部透过率 204
uA tV". 9.3 内部透射率数据 205
p9!"O 9.4 实例 206
5|0,X<& 9.5 实例2 210
S{t +>/ 9.6 圆锥和带宽计算 212
~/pzxo$ 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214
fEf_F
r 10 光学薄膜的颜色 216
CvSIV7zYo 10.1 导言 216
E51dV:l 10.2 色彩 216
f
3V Dv9( 10.3 主波长和纯度 220
PX:'/{V 10.4 色相和纯度 221
$
i)bq6 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222
]B"'}%>ez 10.6 色差 226
F_iXd/ 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227
(/d5UIM{& 10.8 颜色渲染指数 234
qU2~fNY 10.9 色差计算 235
H={DB 10.10 参考文献 236
r`y ezbG 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238
1d"Z>k:mn 11.1 短脉冲 238
Ei}/iBG@ 11.2 群速度 239
J?@DGp+t 11.3 群速度色散 241
-C-?`R 11.4 啁啾(chirped) 245
xJ^>pg8 11.5 光学薄膜—相变 245
`pf4X/Py 11.6 群延迟和延迟色散 246
z?/1Kj}xG 11.7 色度色散 246
_R'Fco 11.8 色散补偿 249
<9E0iz+j 11.9 空间
光线偏移 256
'FlJpA} 11.10 参考文献 258
E1dD7r\ 12 公差与误差 260
[Aj Q#;#Q 12.1 蒙特卡罗模型 260
WG*t::NN 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267
`g8E1-]l 12.2.1 误差工具 267
kIw`P[ 12.2.2 灵敏度工具 271
1_fZm+oW! 12.2.2.1 独立灵敏度 271
0N[&3Ee8 12.2.2.2 灵敏度分布 275
(Fq5IGs 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276
K8n4oz#z 12.3 参考文献 276
T{V/+RM 13 Runsheet 与Simulator 277
v(*C%.M) 13.1 原理介绍 277
Y$N)^=7 13.2 截止滤光片设计 277
H gTUy[( 14 光学常数提取 289
2"|2a@ 14.1 介绍 289
0&qr 14.2 电介质薄膜 289
UNijFGi 14.3 n 和k 的提取工具 295
GRb*EeT 14.4 基底的参数提取 302
d(vsE%/! 14.5 金属的参数提取 306
Zfk*HV#\ 14.6 不正确的模型 306
l Z#o+d2Y 14.7 参考文献 311
)1N 54FNO 15 反演工程 313
(8v7|Pe8 15.1 随机性和系统性 313
8^Hn"v 15.2 常见的系统性问题 314
ju}fL<