[培训]上海｜薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25（三）-27日（五） [复制链接]

特邀专家介绍 j,"@?Wt7  

图片:w800

USM4r!x  
易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，研究生导师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 V0P>YQq9s  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 ^h"`}[+  
随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 v5QqS8u_C  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 K>DRJz  
1. Essential Macleod软件介绍 MMx9(`t*.  
1.1 介绍软件 &L,nqc\3D5  
1.2 创建一个简单的设计 \E*d\hrl{  
1.3 绘图和制表来表示性能
,#L=v]  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 Yd#/1!A7u  
1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） fR*q?,  
1.6 特定设计的公式技术 .ZJRO
>S  
1.7 交互式绘图 "saUai4z  
2. 光学薄膜理论基础 Na?!;1]_  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 ,Q HU_jt  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 4<lRPsvgc  
3. 材料管理 ~;#Y9>7\\'  
3.1 材料模型 HLV2~5Txc  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 !U'QqnT  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 X;"Sx#U  
3.4 基板光学常数的提取 woD>!r>)  
4. 光学薄膜设计优化方法 :[hgxJu+  
4.1 参考波长与g BA%pY|"Q  
4.2 四分之一规则 o1h={ao  
4.3 导纳与导纳图 =[@zF9  
4.4 斜入射光学导纳 :n.f_v}6  
4.5 光学薄膜设计的进展 ?MgUY)X  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 tm#nUw  
4.6.1 优化目标设置 enSXP~9w  
4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法） :"xzj<(  
4.6.3 膜层锁定和链接 "3)4vuX@;c  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 2M68CE  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 }l],.J\BGX  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 R}4So1  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 %sX$nmi3  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 zY"1drE>G  
5.5 如何在Function中编写脚本 xK6n0] A  
6. 光学薄膜系统案例 %Ntcvp)  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 O"c;|zCc>  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 O]1y0BOQ  
6.3 Stack应用范例说明 !,Va(E|=  
7. 薄膜性能分析 v,4pp@8rv  
7.1 电场分布 f-E("o  
7.2 公差与灵敏度分析 &'}RrW-s  
7.3 反演工程 s1h/}  
7.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真 =W BTm  
8. 真空技术 [ji#U s:h  
8.1 常用真空泵介绍 or';A'k  
8.2 真空密封和检漏 H=Y{rq@  
9. 薄膜制备技术 fv
9V7  
9.1 常见薄膜制备技术 79xx2  
10. 薄膜制备工艺 p|&Yku=  
10.1 薄膜制备工艺因素 ,kF}lo)  
10.2 薄膜均匀性修正技术 N=QfP  
10.3 光学薄膜监控技术 \V*xWS  
11. 激光薄膜 0^RXGN  
11.1 薄膜的损伤问题 {O`w,dMOI  
11.2 激光薄膜的制备流程 i*NH'o/  
11.3 激光薄膜的制备技术 HY%i`]4X  
12. 光学薄膜特性测量 NH<5*I/  
12.1 薄膜光谱测量 +L9Eqll  
12.2 薄膜光学常数测量 <\pfIJr$  
12.3 薄膜应力测量 Bb}fj28  
12.4 薄膜损伤测量 S7L=#+Z  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析内容简介 @>)r}b  
Macleod软件自带的用户手册功能全面，其介绍涵盖了软件的方方面面，能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而，为了顺应目前薄膜行业的需求，急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍，以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作，因此，我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 kMt 8/E`  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（原著第二版）是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结，结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod，其内容丰富，实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法，还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题，如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节，首先，从光学薄膜的基本理论出发（第2章），为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次，在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作，以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后，从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合，从而使大家将理论知识与实际经验结合起来，对实际镀膜提出实用的建议，以减少设计时间并降低生产成本。 %+K<<iyR|  
薄膜光学涵盖范围很广，书中并附设计光盘和参考文献，有兴趣者可依此深入研究，为精准起见，在不影响理解的情况下，尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助，通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限，书中错误纰漏之处在所难免，本书若有不周之处，尚请读者不吝赐教。 JAX*hGhkh  
|]ZYa.+:  
LG1r]2  
5yiK+-iTs  
目录 -QmO1U  
Preface 1 [ zEUH:9D  
内容简介 2 DFd%9*N  
目录 i 371 TvZ4  
1  引言 1 Wv/%^3  
2  光学薄膜基础 2 thvYL.U:  
2.1  一般规则 2 i2&ed_h<?  
2.2  正交入射规则 3 Jh?dw3Ai^  
2.3  斜入射规则 6 [>1OJY.S}T  
2.4  精确计算 7 hijgF@  
2.5  相干性 8 4@ML3d/  
2.6 参考文献 10 -OA?BEQ=I  
3  Essential Macleod的快速预览 10 mHBnC&-/  
4  Essential Macleod的特点 32 AG?dGj^  
4.1  容量和局限性 33 `P3>S(Tgy  
4.2  程序在哪里？ 33  uJ5Eka  
4.3  数据文件 35 E8n)}[k!0  
4.4  设计规则 35 JZD[NZ<  
4.5  材料数据库和资料库 37 D6Goa(!9d  
4.5.1材料损失 38 H+ 0$tHi  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 W034N[9  
4.5.2 材料库 41 0Emr<n  
4.5.3导出材料数据 43 Qe}`~a9P  
4.6  常用单位 43 z3K6%rb-  
4.7  插值和外推法 46 Q'YH>oGh^  
4.8  材料数据的平滑 50
d)R:9M}v  
4.9 更多光学常数模型 54 j/nWb`#y  
4.10  文档的一般编辑规则 55 sh`s/JRf  
4.11 撤销和重做 56 N.]qU d  
4.12  设计文档 57 }`v~I4i  
4.10.1  公式 58 Yl#Rib  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 kM
Opi =Z1  
4.10.3  沉积密度 59 YH%'t= <m  
4.10.4 平行和楔形介质 60 X(\
fN[;  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 we;G]`@?  
4.10.4  性能 61 Ar:*oiU  
4.10.5  保存设计和性能 64
pSr{>;bN  
4.10.6  默认设计 64 |&[L?  
4.11  图表 64 \CXQo4P  
4.11.1  合并曲线图 67 %_{tzXim  
4.11.2  自适应绘制 68 #z2rzM@/:  
4.11.3  动态绘图 68 {FIXc^m'  
4.11.4  3D绘图 69 fD07VBS yl  
4.12  导入和导出 73 `>?ra-  
4.12.1  剪贴板 73 x7<\]94  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 sM?MLB\Za  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 _/s(7y!  
4.13  背景 77 i 4%xfN  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 2;^y4ssg  
4.15  生成Rugate 84 M\Z6$<H?U  
4.16  参考文献 91 T:IW%?M  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 1Lg-.-V  
5.1  Jobs 92 B,K>rCZ/  
5.2  创建一个新Job（工作） 93 ;zIP,PMM  
5.3  输入材料 94 @Q^P{  
5.4  设计数据文件夹 95 USVqB\#  
5.5  默认设计 95 W0k0$\i
X  
6  细化和合成 97
|d*&y#kV  
6.1  优化介绍 97 3v mjCm  
6.2  细化 (Refinement) 98 {e[c  
6.3  合成 (Synthesis) 100 $P
(v{W)  
6.4  目标和评价函数 101 (q4),y<:[  
6.4.1  目标输入 102 pDh{Z g6t  
6.4.2  目标 103 .GsO.#p{  
6.4.3  特殊的评价函数 104 n%k!vJ)]  
6.5  层锁定和连接 104 &g.+V/<[  
6.6  细化技术 104 5o6>T!
 
6.6.1  单纯形 105 GF>'\@Th  
6.6.1.1 单纯形参数 106 ( @3\`\X  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 L dm?JrU  
6.6.2.1 Optimac参数 108 0MkSf*  
6.6.3  模拟退火算法 109 E/09hD Q  
6.6.3.1　模拟退火参数 109 u6MzRC  
6.6.4  共轭梯度 111 ~5 *5  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 XP1~d>j  
6.6.5  拟牛顿法 112 F@*+{1R  
6.6.5.1 拟牛顿参数： 112 .h& .K  
6.6.6  针合成 113 t\ 7~S&z  
6.6.6.1 针合成参数 114 aS pWsT  
6.6.7 差分进化 114 w^#L9i'v'  
6.6.8非局部细化 115 |6(ZD^w  
6.6.8.1非局部细化参数 115 Fb4`|  
6.7  我应该使用哪种技术？ 116 m<w"T7  
6.7.1 　细化 116 &CIVL#];e  
6.7.2　 合成 117 g=2Rqi5  
6.8  参考文献 117 +{/*z  
7  导纳图及其他工具 118 sp ]zbX?  
7.1  简介 118 K,e w>U  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 ?@6/E<-Z$  
7.2.1  四分之一波长规则 119 cP}KU5j  
7.2.2  导纳图 120 vk?sk
N@  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 4lM8\Lr  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 >NKe'q<)3  
7.5  斜入射导纳图 141 qKE:3g35  
7.6  对称周期 141 |<Gl91  
7.7  参考文献 142 g"L|n7_b  
8  典型的镀膜实例 143 Q\WC+,
_%  
8.1  单层抗反射薄膜 145 ^kgBa27  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 !Yw3 d   
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 :Pg}Zz<  
8.4  W-膜层 148 7As|Ns`  
8.5  V-膜层 149 OZIW_'Wm/  
8.6  V-膜层高折射基底 150 )6w}<W*1E  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 Ezi-VGjr]  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 &E40* (C  
8.9  四层抗反射薄膜 153 :Mcu  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 
A^RR@D  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 \2(SB
  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 js8{]04y  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 
K^3co  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 R-RDT9&<  
8.15十五层宽带抗反射膜 159
XgxX.`H7  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 H> '>3]G  
8.17  1/4波长堆栈 162 9XHz-+bQ  
8.18  陷波滤波器 163 $F/EJ
>
 
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 Y'u7 IX}  
8.20  褶皱 165 _6k*'aT~FK  
8.21  消偏振分光器1 169 if)Y9:{r^  
8.22  消偏振分光器2 171 A+&xMM2Wj  
8.23  消偏振立体分光器 172 WH$e2[+Y  
8.24  消偏振截止滤光片 173 6AP~]e 8  
8.25  立体偏振分束器1 174 6SC,;p=  
8.26  立方偏振分束器2 177 yg2uC(2  
8.27  相位延迟器 178 (Si=m;g  
8.28  红外截止器 179 M@(^AK{mU  
8.29  21层长波带通滤波器 180 qTB$`f'|$  
8.30  49层长波带通滤波器 181 >;#=gM  
8.31  55层短波带通滤波器 182 z*a8sr  
8.32  47 红外截止器 183 1TM~*<Jb  
8.33  宽带通滤波器 184 ]u-02g  
8.34  诱导透射滤波器 186 zi'Jr)n  
8.35  诱导透射滤波器2 188 3s:%2%jVK  
8.36  简单密集型光波复用（DWDM）滤波器 190 6ATtW+sN]  
8.37  高级密集型光波复用技术（DWDM）滤波器 192 H3H_u4_?SE  
8.35  增益平坦滤波器 193 }%-t+Tf,  
8.38  啁啾反射镜 1 196 ycJg%]F*5  
8.39  啁啾反射镜2 198 ai
'4_  
8.40  啁啾反射镜3 199 Z Dhx5SL&  
8.41  带保护层的铝膜层 200 E_1="&p  
8.42  增加铝反射率膜 201 : 5U"XY x@  
8.43  参考文献 202 nq19Q)  
9  多层膜 204 R|P_GN6>  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 M('d-Q{B7L  
9.2  内部透过率 204 2T)sXBu  
9.3 内部透射率数据 205 hAqg Iu*  
9.4  实例 206 DOQc"+  
9.5  实例2 210 =l9T7az  
9.6  圆锥和带宽计算 212 1mSaS4!"B  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 +-
a&2J;J'  
10  光学薄膜的颜色 216 :+%Zh@u\  
10.1  导言 216 $>R(W=Q  
10.2  色彩 216 RkuuogZ  
10.3  主波长和纯度 220 UzKFf&-:;K  
10.4  色相和纯度 221 M0c9pE  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 aVe/ gE  
10.6 色差 226 A K/z6XGy  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 -#29xRPk  
10.8  颜色渲染指数 234 FZH\Q~IUV  
10.9  色差计算 235 )2Hff.  
10.10  参考文献 236 `*\{.;,]#  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 6e25V4e?I  
11.1  短脉冲 238 %gcc y|  
11.2  群速度 239 (X6sSO  
11.3  群速度色散 241 p{=QGrxB*  
11.4  啁啾(chirped) 245 quo^fqS&a  
11.5  光学薄膜—相变 245 . -"E^f  
11.6  群延迟和延迟色散 246 O}#yijU3e  
11.7  色度色散 246 -@IL"U6  
11.8  色散补偿 249 O4No0xeWo  
11.9  空间光线偏移 256 q6wr=OWD  
11.10  参考文献 258 `!G7k  
12  公差与误差 260 vtMJ@!MN;  
12.1  蒙特卡罗模型 260 WA)Ij(M8 p  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 g6sjc,`  
12.2.1  误差工具 267 P|^$kK  
12.2.2  灵敏度工具 271 D6Y6^eS-  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 \NXQ  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 z8Q"%
@  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 xq!IbVV/h  
12.3  参考文献 276 BN@,/m9OQ%  
13  Runsheet 与Simulator 277 YCw('i(|  
13.1  原理介绍 277 ]=D5p_A(  
13.2  截止滤光片设计 277 )9P&=  
14  光学常数提取 289 ex?\c"  
14.1  介绍 289 t#<KxwhcN  
14.2  电介质薄膜 289 u8OxD  
14.3  n 和k 的提取工具 295 T+RZ  
14.4  基底的参数提取 302 L8V3BH7B  
14.5  金属的参数提取 306 nd+?O7~}(  
14.6  不正确的模型 306 Y5-kj,CB  
14.7  参考文献 311 mjEs5XCC"  
15  反演工程 313 djT. 1(  
15.1  随机性和系统性 313 |,}E0G.  
15.2  常见的系统性问题 314 +=8X8<Pu  
15.3  单层膜 314 
ggou*;'  
15.4  多层膜 314 XLTD;[
jO  
15.5  含义 319 b Dg9P^<n  
15.6  反演工程实例 319 4w{-'M.B  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 k_3
j '  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 H_X?dj15  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 h)E|?b_  
16.1  光学性质的热致偏移 329 ;IC'Gq  
16.2  应力工具 335 hXX1<~k  
16.3  均匀性误差 339 ?En7_X{C?  
16.3.1  圆锥工具 339 " OGdE_E  
16.3.2  波前问题 341 <{019Oa  
16.4  参考文献 343 C(]'&~}(  
17  如何在Function（模块）中编写操作数 345 A/Khk2-:  
17.1  引言 345 m{&w{3pQk  
17.2  操作数 345 `Lz1{#F2G  
18  如何在Function中编写脚本 351 7<yp"5><)  
18.1  简介 351 \>)f5 gV@  
18.2  什么是脚本？ 351 _=6OP8  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 /R%^r
z'w  
18.4  基础 352 B <+K<,S  
18.4.1  Classes（类别） 352 X&\o{w9%  
18.4.2  对象 352 +8UdvMN  
18.4.3  信息（Messages） 352 JIUtj7HQ  
18.4.4  属性 352 w4{y"A  
18.4.5  方法 353 GOW"o"S  
18.4.6  变量声明 353 d,R6` i  
18.5  创建对象 354 "2mFC!  
18.5.1  创建对象函数 355 ~|R[O^9B  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 p^8JLC  
18.5.3 丢弃对象 356 wZv-b*4  
18.5.4  总结 356 a9[<^  
18.6  脚本中的表格 357 >Me]m<$E;  
18.6.1  方法1 357 y[:q"BB3  
18.6.2  方法2 357 Z}[xQ5  
18.7 2D Plots in Scripts 358 pAg$oe#  
18.8 3D Plots in Scripts 359 !BRcq~-.  
18.9  注释 360 sA\L7`2H  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 ] SK[C" S  
18.11  一个更高级的脚本 362 _[1^
s$  
18.12  <esc>键 364 ycjJbL(.  
18.13 包含文件 365 S'?fJ.  
18.14  脚本被优化调用 366 hb!
ln7  
18.15  脚本中的对话框 368 Yzd2G,kZ=  
18.15.1  介绍 368 ou;qO 5CT  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 cDO:'-  
18.15.3  输入框函数 370 ~@YQ,\Y  
18.15.4  自定义对话框 371 @,YlmX}  
18.15.5  对话框编辑器 371 JmjxGcG  
18.15.6  控制对话框 377 h^d\xn9GT#  
18.15.7  更高级的对话框 380 .M+v?Ad  
18.16 Types语句 384 OT+Ee  
18.17 打开文件 385 yId;\o B  
18.18 Bags 387 >i`8R  
18.13  进一步研究 388 E&9!1!B
 
19  vStack 389 C.HYS S  
19.1  vStack基本原理 389 &>V/X{>$`K  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 jIZ+d;1  
19.3  五棱镜 393 3q CHh  
19.4 光束距离 396 hpjUkGm5  
19.5 误差 399 A:c]1  
19.6  二向分色棱镜 399 |1i]L@&  
19.7  偏振泄漏 404 cdN/Qy  
19.8  波前误差—相位 405 3]_qj*V
 
19.9  其它计算参数 405 {WKOJG+.  
20  报表生成器 406 H%cp^G  
20.1  入门 406 (s Jq;Z  
20.2  指令(Instructions) 406 vu ?3
$  
20.3  页面布局指令 406 *) } :l  
20.4  常见的参数图和三维图 407 R|H[lbw  
20.5  表格中的常见参数 408 oc((Yo+B  
20.6  迭代指令 408 Dh?vU~v(6  
20.7  报表模版 408 3!bK d2"  
20.8  开始设计一个报表模版 409 77^ "xsa  
21  一个新的project 413 K{N%kk%F  
21.1  创建一个新Job 414 Tr$i= M  
21.2  默认设计 415 `1$y(w]  
21.3  薄膜设计 416 +h|K[=l\  
21.4  误差的灵敏度计算 420 + lP5XY{  
21.5  显色指数计算 422 ]xI?,('_m  
21.6  电场分布 424 bk
0Y  
后记 426 T|!D>l'  
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书籍名称：《Essential Macleod中文手册》 h*G#<M  
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《Essential Macleod中文手册》 =tNzGaWJ  
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目  录 K Ka c6Zj  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 E;xMPK$  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 n+X1AOE[L  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 KCl &H  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 PK_Fx';ke^  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 Ogd8!'\  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 l`G(O$ct  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 9E^~#j@Zr  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 [4ee <J  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 G{/;AK  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 H/pcXj  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 )&XnM69~b  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 kAY@^vi  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 (eki X*y  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 WBy[m ?d  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 v;Swo("  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 \ibCR~
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价  格：400元