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    [培训]上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-09-25
    时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 O[ tD7 !1  
    授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 _BGw)Z 6  
    授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 0/{$5gy&  
    课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 (gN[<QL  
    课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
    特邀专家介绍 /d;C)%$  
    f Z8%Z   
    易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 WAr;g?Q8  
    获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 #OlU|I  
    随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 n0|oV(0FE  
    本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 fik*-$V`  
    1. Essential Macleod软件介绍 !RX\">z  
    1.1 介绍软件 TZ#(G  
    1.2 创建一个简单的设计 hM}rf6B  
    1.3 绘图和制表来表示性能 8!8 yA  
    1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 nnr g^F  
    1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) #E35%7*  
    1.6 特定设计的公式技术 P<<?7_ ??  
    1.7 交互式绘图 oU/CXz?H  
    2. 光学薄膜理论基础 )P&>Tc?;z  
    2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 \XDc{c]  
    2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 "^sh:{  
    3. 材料管理 SN w3xO!;&  
    3.1 材料模型 U*Q1(C  
    3.2 介质薄膜光学常数的提取 tBR"sBiws  
    3.3 金属薄膜光学常数的提取 LxD >eA  
    3.4 基板光学常数的提取 u,h,;'J  
    4. 光学薄膜设计优化方法 fL^+Qb}  
    4.1 参考波长与g zadn`B#2  
    4.2 四分之一规则 l!r2[T]I@7  
    4.3 导纳与导纳图 2R}9wDP  
    4.4 斜入射光学导纳 QuG=am?l`  
    4.5 光学薄膜设计的进展 =W+ h.?  
    4.6 Macleod软件的设计与优化功能 =Xwr*FTr  
    4.6.1 优化目标设置 s?qRy 2  
    4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) lw/zgR#|  
    4.6.3 膜层锁定和链接 06hzCWm#  
    5. Essential Macleod中各个模块的应用 F_28q15~:  
    5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 | %E\?-TK  
    5.2 光通信用窄带滤光片模拟 sK1YmB :~a  
    5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 bbGSh|u+P  
    5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 ,&+"|,m  
    5.5 如何在Function中编写脚本 .KzGb4U  
    6. 光学薄膜系统案例 j_=A)B?  
    6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 ii0{$}eoh  
    6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 05$;7xnf(  
    6.3 Stack应用范例说明 &x~&]  
    7. 薄膜性能分析 ;Y/{q B!  
    7.1 电场分布 SVr3OyzI  
    7.2 公差与灵敏度分析 P''5A6#5  
    7.3 反演工程 .MoOjx?  
    7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 K})=&<M0  
    8. 真空技术 f?KHp|  
    8.1 常用真空泵介绍 x3./  
    8.2 真空密封和检漏 WCa>~dF>  
    9. 薄膜制备技术 {_#~&IQ  
    9.1 常见薄膜制备技术 X<pg^Y0  
    10. 薄膜制备工艺 o+9b%I^1V  
    10.1 薄膜制备工艺因素 /(/Z~J[  
    10.2 薄膜均匀性修正技术 $-HP5Kj(k-  
    10.3 光学薄膜监控技术 J<p.J3I  
    11. 激光薄膜 JnC$}amr  
    11.1 薄膜的损伤问题 6Z5X?B  
    11.2 激光薄膜的制备流程 7'c ;$~  
    11.3 激光薄膜的制备技术 j41)X'MgJ  
    12. 光学薄膜特性测量 tyEa5sy4  
    12.1 薄膜光谱测量 $0uh8RB  
    12.2 薄膜光学常数测量 ld RV JVZc  
    12.3 薄膜应力测量 2(SU# /,  
    12.4 薄膜损伤测量 'VgdQp$L$  
    12.5 薄膜形貌、结构与组分分析
    Vrwy+o>:X  
    有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系
    书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
    8$!&D&v  
    内容简介 jkTh)Bm|'  
    Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 |@84l  
    《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 :K:oH}4oh  
    薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 FU{$oCh/5  
    &U_YDUQ'L  
    讯技科技股份有限公司
    2015年9月3日
    ^Y;}GeA,  
    xj6@85^  
    目录 W6e,S[J^FY  
    Preface 1 \&{a/e2:S  
    内容简介 2 RA%=_wPD +  
    目录 i lpjeEaw o4  
    1  引言 1 -qI8zs$:5  
    2  光学薄膜基础 2 _T96.~Q  
    2.1  一般规则 2 OouIV3  
    2.2  正交入射规则 3 (D\7EH\9,]  
    2.3  斜入射规则 6 >MTrq%.  
    2.4  精确计算 7 a#huK~$~  
    2.5  相干性 8 $#ve^.VHv  
    2.6 参考文献 10 9<e%('@[  
    3  Essential Macleod的快速预览 10 ~CtLSyB  
    4  Essential Macleod的特点 32 _u[2R=h  
    4.1  容量和局限性 33 $ \yZ;Z:  
    4.2  程序在哪里? 33 :V9%R~h/  
    4.3  数据文件 35 cuw 7P  
    4.4  设计规则 35 b7^Db6qu  
    4.5  材料数据库和资料库 37 ab}Kt($  
    4.5.1材料损失 38 Wz8 MV -D  
    4.5.1材料数据库和导入材料 39 B4D#T lB  
    4.5.2 材料库 41 8 vp*U  
    4.5.3导出材料数据 43 KT 4h3D`,  
    4.6  常用单位 43 Bf21u 9  
    4.7  插值和外推法 46 1BjMVMH  
    4.8  材料数据的平滑 50 y[D8rFw  
    4.9 更多光学常数模型 54 Q[vQT?J7  
    4.10  文档的一般编辑规则 55 R&-Vm3mc3  
    4.11 撤销和重做 56 & t.G4  
    4.12  设计文档 57 'bd|Oww1u  
    4.10.1  公式 58 #`HY"-7m_  
    4.10.2 更多关于膜层厚度 59 8 t)?$j$  
    4.10.3  沉积密度 59 >=6 j:  
    4.10.4 平行和楔形介质 60 IjPCaH.:t  
    4.10.5  渐变折射率和散射层 60 < dD)>Y.  
    4.10.4  性能 61 nF)b4`Nd  
    4.10.5  保存设计和性能 64 |zkZF|-  
    4.10.6  默认设计 64 up@I,9C/  
    4.11  图表 64 Irc(5rD7   
    4.11.1  合并曲线图 67 l%_r3W  
    4.11.2  自适应绘制 68 tl=H9w&@  
    4.11.3  动态绘图 68 >p`ZcFNs"  
    4.11.4  3D绘图 69 R<L<kChg  
    4.12  导入和导出 73 t:O"t G  
    4.12.1  剪贴板 73 ^vY[d]R _\  
    4.12.2  不通过剪贴板导入 76 \) FFV-k5  
    4.12.3  不通过剪贴板导出 76 Q,m&XpZ  
    4.13  背景 77 W=S<DtG2  
    4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 6IPQ}/l  
    4.15  生成Rugate 84 xXRlQ|84  
    4.16  参考文献 91 1iJaj  
    5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 BN~gk~t_  
    5.1  Jobs 92 ,J4rKGG  
    5.2  创建一个新Job(工作) 93 (M-W ea!q  
    5.3  输入材料 94 [S_qi,  
    5.4  设计数据文件夹 95 )ppIO"\  
    5.5  默认设计 95 $<s;YhM:u)  
    6  细化和合成 97 Wb%t6N?  
    6.1  优化介绍 97 \Q!I;  
    6.2  细化 (Refinement) 98 YAsE,M+  
    6.3  合成 (Synthesis) 100 '* eeup  
    6.4  目标和评价函数 101 Bln($lOz  
    6.4.1  目标输入 102 wj{[g^y%  
    6.4.2  目标 103 | zyO;  
    6.4.3  特殊的评价函数 104 /wX5>^  
    6.5  层锁定和连接 104 'JRYf;9c  
    6.6  细化技术 104 *~\R0ddz  
    6.6.1  单纯形 105 \0fk^  
    6.6.1.1 单纯形参数 106 u Wxl\+_i  
    6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 M~ku4ZP  
    6.6.2.1 Optimac参数 108 \\)9QP?  
    6.6.3  模拟退火算法 109 ["1Iz{  
    6.6.3.1 模拟退火参数 109 )Y &RMYy  
    6.6.4  共轭梯度 111 asZ(Hz%  
    6.6.4.1 共轭梯度参数 111 P^57a?[`  
    6.6.5  拟牛顿法 112 d` X1cG  
    6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 mv{bX|.  
    6.6.6  针合成 113 c0v6*O)  
    6.6.6.1 针合成参数 114 Yv/T6z@  
    6.6.7 差分进化 114 E0)43  
    6.6.8非局部细化 115 )>(ZX9diV  
    6.6.8.1非局部细化参数 115 P[%nD cB  
    6.7  我应该使用哪种技术? 116 1W'0h$5^"  
    6.7.1  细化 116 %PlA9@:IZ  
    6.7.2  合成 117 Y=ksrs>w  
    6.8  参考文献 117 E}g)q;0v|2  
    7  导纳图及其他工具 118 JFu9_=%+  
    7.1  简介 118 A&S n^mw  
    7.2  薄膜作为导纳的变换 118 n+57# pS7  
    7.2.1  四分之一波长规则 119 #SX-Y)> 1@  
    7.2.2  导纳图 120 :pdl2#5H^  
    7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 U[{vA6  
    7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 hEq-)-^G  
    7.5  斜入射导纳图 141 [tk6Kx8a  
    7.6  对称周期 141 cBtQ2,<6  
    7.7  参考文献 142 `hf`lq^  
    8  典型的镀膜实例 143 2&zklXuo:  
    8.1  单层抗反射薄膜 145 ?k^~qlye  
    8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 I+/fX0-Lib  
    8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 ML.|\:r*  
    8.4  W-膜层 148 >0JC u^9  
    8.5  V-膜层 149 Ez / W$U  
    8.6  V-膜层高折射基底 150 dC>(UDC  
    8.7  V-膜层高折射率基底b 151 :[&QoEZW  
    8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 <~zPt&C]V  
    8.9  四层抗反射薄膜 153 abw5Gz@Ag  
    8.10  Reichert抗反射薄膜 154 )%09j0y>l"  
    8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 BB imP  
    8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 30W.ks5(  
    8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 g&rz*)|/  
    8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 DMA`Jx  
    8.15十五层宽带抗反射膜 159 0"{-<Wot}  
    8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 Mq='|0,  
    8.17  1/4波长堆栈 162 )|6OPR@(#/  
    8.18  陷波滤波器 163 <+Gf!0i  
    8.19 厚度调制陷波滤波器 164 PlR$s  
    8.20  褶皱 165 \ #N))gAQ  
    8.21  消偏振分光器1 169 .=zBUvy  
    8.22  消偏振分光器2 171 trZU_eouI  
    8.23  消偏振立体分光器 172 tYp 185  
    8.24  消偏振截止滤光片 173 On0,#i=  
    8.25  立体偏振分束器1 174 +DaKP)H\:  
    8.26  立方偏振分束器2 177 +~"(Wooi  
    8.27  相位延迟器 178 Q<Qd*v&-  
    8.28  红外截止器 179 m=25HH7enb  
    8.29  21层长波带通滤波器 180 _UV_n!R  
    8.30  49层长波带通滤波器 181 YjiMUi\V  
    8.31  55层短波带通滤波器 182 +g;{c+Kw:  
    8.32  47 红外截止器 183 7Vu f4Z5  
    8.33  宽带通滤波器 184 Sd/7#  
    8.34  诱导透射滤波器 186 v]#[bqB.b  
    8.35  诱导透射滤波器2 188 K >Q 6  
    8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 qJE_4/<^!  
    8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 rv c%[HfW;  
    8.35  增益平坦滤波器 193 <cxe   
    8.38  啁啾反射镜 1 196 &3Lhb}m  
    8.39  啁啾反射镜2 198 UrO& K]Z  
    8.40  啁啾反射镜3 199 ]X> I(p@  
    8.41  带保护层的铝膜层 200 c-"vQ>ux+  
    8.42  增加铝反射率膜 201 *z};&UsF{  
    8.43  参考文献 202 ;I*N%a TK  
    9  多层膜 204 s>)?MB*vb  
    9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 N'CW Sf.e  
    9.2  内部透过率 204 o]WcODJdl  
    9.3 内部透射率数据 205 mkq246<D~  
    9.4  实例 206 qP-_xpu]R  
    9.5  实例2 210 g_J QW(_  
    9.6  圆锥和带宽计算 212 51-'*Y  
    9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 Y`3\Z6KlV  
    10  光学薄膜的颜色 216  % s@  
    10.1  导言 216 [hV}$0#E[O  
    10.2  色彩 216 }a;H2&bu  
    10.3  主波长和纯度 220 V.ETuS;  
    10.4  色相和纯度 221 ;ik,6_/Y  
    10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 nNeCi  
    10.6 色差 226 -d-xsP} s  
    10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 NLu[<u U*  
    10.8  颜色渲染指数 234 jrpki<D  
    10.9  色差计算 235 jz S iw z  
    10.10  参考文献 236 "MK2QIo  
    11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 ^CgN>-xZ?#  
    11.1  短脉冲 238 SYh>FF"  
    11.2  群速度 239 ss6{+@,  
    11.3  群速度色散 241 6uTC2ka[&R  
    11.4  啁啾(chirped) 245  ^"~r/@l  
    11.5  光学薄膜—相变 245 lI~8[[$xd  
    11.6  群延迟和延迟色散 246 fhyoSRLR:  
    11.7  色度色散 246 i'.D=o  
    11.8  色散补偿 249 yo8mfH_,  
    11.9  空间光线偏移 256 AxeQv'e  
    11.10  参考文献 258 |bhv7(_  
    12  公差与误差 260 {|<yZ,,p  
    12.1  蒙特卡罗模型 260 KyQTrl.qdl  
    12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 fg lN_  
    12.2.1  误差工具 267 *3]2vq  
    12.2.2  灵敏度工具 271 e1y#p3 @d  
    12.2.2.1 独立灵敏度 271 )CHXfO w  
    12.2.2.2 灵敏度分布 275 oW(EV4J"  
    12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 / !y~Q|<|=  
    12.3  参考文献 276 hk$I-  
    13  Runsheet 与Simulator 277 $xK\$kw\  
    13.1  原理介绍 277 y4r?M8]"r  
    13.2  截止滤光片设计 277 HAo=t  
    14  光学常数提取 289 >?_}NZ,y  
    14.1  介绍 289 59p'U/|  
    14.2  电介质薄膜 289 aX zb]">  
    14.3  n 和k 的提取工具 295 cucmn*o?  
    14.4  基底的参数提取 302 ?JTTl;  
    14.5  金属的参数提取 306 1GIBqs~-  
    14.6  不正确的模型 306 2h#.:!/SMw  
    14.7  参考文献 311 \B:k|Pw6~  
    15  反演工程 313 &,3s2,1U(  
    15.1  随机性和系统性 313 mU  
    15.2  常见的系统性问题 314 ^Bo'87!.  
    15.3  单层膜 314 P{BW^kAdH  
    15.4  多层膜 314 X|/RV4x@Cq  
    15.5  含义 319 !@wUAR Q  
    15.6  反演工程实例 319 sCP|d`'  
    15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 CU*TY1%  
    15.6.2 反演工程提取折射率 327 =CD.pw)B1  
    16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 {'[VL;k  
    16.1  光学性质的热致偏移 329 +0j{$MPZ  
    16.2  应力工具 335 Om;aE1sW  
    16.3  均匀性误差 339 UbGnU_}  
    16.3.1  圆锥工具 339 N-t"CBTO  
    16.3.2  波前问题 341 kM[!UOnC!<  
    16.4  参考文献 343 |@d}O8  
    17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 +IWf~|s  
    17.1  引言 345 3aBE[  
    17.2  操作数 345 q@~{ g[   
    18  如何在Function中编写脚本 351 *4LRdLMn  
    18.1  简介 351 B2*7H  
    18.2  什么是脚本? 351 iq?T&44&  
    18.3  Function中脚本和操作数对比 351 Z_edNf }|  
    18.4  基础 352 )MLbE-@  
    18.4.1  Classes(类别) 352 J7C?Z  
    18.4.2  对象 352 x!vyjp  
    18.4.3  信息(Messages) 352 <L11s%5-  
    18.4.4  属性 352 B/qN1D]U.  
    18.4.5  方法 353 9W+DW_M  
    18.4.6  变量声明 353 PkZ1Db  
    18.5  创建对象 354 sDR Av%w  
    18.5.1  创建对象函数 355 <Rs$d0/  
    18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 n%G[Y^^,  
    18.5.3 丢弃对象 356 ,3c25.,*  
    18.5.4  总结 356 ~l?c.CS d  
    18.6  脚本中的表格 357 _L` uC jA  
    18.6.1  方法1 357 mPqK k  
    18.6.2  方法2 357 h-sO7M0E]  
    18.7 2D Plots in Scripts 358 c0HPS9N\  
    18.8 3D Plots in Scripts 359 jUl_ToX  
    18.9  注释 360 6J#R1.h  
    18.10  脚本管理器调用Scripts 360 jJNl{nyq  
    18.11  一个更高级的脚本 362 O!hp=`B,jf  
    18.12  <esc>键 364 \IYv9ScAx  
    18.13 包含文件 365 jcvq:i{  
    18.14  脚本被优化调用 366 zDEgC  
    18.15  脚本中的对话框 368 \ykA7Y%  
    18.15.1  介绍 368 n7Bv~?DM  
    18.15.2  消息框-MsgBox 368 isy[RAP<  
    18.15.3  输入框函数 370 Gc*=n*@^K  
    18.15.4  自定义对话框 371 kOdpW  
    18.15.5  对话框编辑器 371 iOCs% J  
    18.15.6  控制对话框 377 +-SO}P  
    18.15.7  更高级的对话框 380 ;($xAAR  
    18.16 Types语句 384 QVkji7)ZT  
    18.17 打开文件 385 w1(5,~OB  
    18.18 Bags 387 b/JjA  
    18.13  进一步研究 388 iPY)Ew`Im  
    19  vStack 389 KHx;r@{<  
    19.1  vStack基本原理 389 v@ qDR|?^  
    19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 {QmK4(k?|c  
    19.3  五棱镜 393 nUVk;0at  
    19.4 光束距离 396 n%RaEL  
    19.5 误差 399 &OE-+z  
    19.6  二向分色棱镜 399 m\CU,9;;(  
    19.7  偏振泄漏 404 ,quUGS  
    19.8  波前误差—相位 405 ^c9_F9N  
    19.9  其它计算参数 405 ]q4LN o  
    20  报表生成器 406 y1~ QKz  
    20.1  入门 406 2 M\7j  
    20.2  指令(Instructions) 406 $;} @2U   
    20.3  页面布局指令 406 AS:k&t  
    20.4  常见的参数图和三维图 407 $Q}L*4?]  
    20.5  表格中的常见参数 408 B0p;Zh  
    20.6  迭代指令 408 ]B8iQr-!  
    20.7  报表模版 408 }.U(Gxu$  
    20.8  开始设计一个报表模版 409 n9 FA` e  
    21  一个新的project 413 ^_ V0irv  
    21.1  创建一个新Job 414 WBJn1  
    21.2  默认设计 415 H^`J(J+  
    21.3  薄膜设计 416 z.\\m;s  
    21.4  误差的灵敏度计算 420 VPuo!H  
    21.5  显色指数计算 422 >Di`zw~  
    21.6  电场分布 424 8tf>G(I{  
    后记 426 &e3}Vop  
    1:M'|uc  
    K4E2W9h  
    书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 ;"e55|d9I  
    2XV|(  
    《Essential Macleod中文手册》
    &U=_:]/  
    [T)>RF  
    目  录 $7xfLS8Vo  
    ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 .YH#+T'  
    第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 +XX5;;IC  
    第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17  xiQc\k$  
    第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 /#"9!8%V  
    第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 bO6cv{>x  
    第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 4AvIU!0w  
    第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 3m21n7F4*  
    第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 [I'q"yRu]i  
    第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 NU{eoqaT  
    第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 =%>E8)Jb  
    第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 ?$<~cD" Sw  
    第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 < 0S\P=\  
    第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 ts@ e ,  
    第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 ,,IK}  
    第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 kf~>%tES]  
    第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 /J c^XWf  
    $gk=~p|  
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    只看该作者 1楼 发表于: 2023-10-11
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    课程最后报名中,有兴趣的小伙伴别错过