[培训]上海｜薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25（三）-27日（五） [复制链接]

特邀专家介绍 /KFfU1
 
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易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，研究生导师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。
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获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 1Ir21un  
随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 U>YAdrx2a  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 :*I#n  
1. Essential Macleod软件介绍 ,c;Kzp>e  
1.1 介绍软件 ASKf'\,dV  
1.2 创建一个简单的设计 ,vr? 2k  
1.3 绘图和制表来表示性能 Njxv4cc  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 /Gd=n  
1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） QA< Rhv,  
1.6 特定设计的公式技术 $mu^G t  
1.7 交互式绘图 <`.X$r*  
2. 光学薄膜理论基础 nL5cK:  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 vx1c,8  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 C
Nih6R  
3. 材料管理 pV9IHs}  
3.1 材料模型 p, h9D_  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 >=qf/K+#  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 ynq}76 H0k  
3.4 基板光学常数的提取 Bc(Y(X$PK  
4. 光学薄膜设计优化方法 ap.K=-H  
4.1 参考波长与g (jnQ -  
4.2 四分之一规则 X.OD`.!>  
4.3 导纳与导纳图 p)jk>j B  
4.4 斜入射光学导纳 TITKj?*o  
4.5 光学薄膜设计的进展 y=fx%~<> 8  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 RmI]1S_=  
4.6.1 优化目标设置 uW=k K0E  
4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法） *T-<|zQ  
4.6.3 膜层锁定和链接 tClg*A;|B  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 HguT"%iv  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 QqDC4+p"  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 Ok|*!
!T  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 y<?kzt  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 |N4.u _hM  
5.5 如何在Function中编写脚本 P60~V"/P  
6. 光学薄膜系统案例 ./-5R|fN  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 hcgMZT!<5  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 s6H]J{1F  
6.3 Stack应用范例说明 wVX[)E\J  
7. 薄膜性能分析 8LyD7P1\  
7.1 电场分布 `[z<4"Os   
7.2 公差与灵敏度分析 FTX=W
yr  
7.3 反演工程 y0{u<"t%w  
7.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真 srr :!5  
8. 真空技术 Pj[PIz  
8.1 常用真空泵介绍 l>2E (Y|  
8.2 真空密封和检漏 ({
8-*  
9. 薄膜制备技术 %<)2/|lCd  
9.1 常见薄膜制备技术 BHIRHmM<Y  
10. 薄膜制备工艺 %oF
}HF.  
10.1 薄膜制备工艺因素 9/{(%XwX  
10.2 薄膜均匀性修正技术 SAH-p*.  
10.3 光学薄膜监控技术 &
c`nR<  
11. 激光薄膜 mf
 A{3  
11.1 薄膜的损伤问题 %d1,a$*3}  
11.2 激光薄膜的制备流程 QHDXW1+|^  
11.3 激光薄膜的制备技术 &x=.$76  
12. 光学薄膜特性测量 v6[!o<@"a  
12.1 薄膜光谱测量 .sx
cCrQE  
12.2 薄膜光学常数测量 3oBtP<yG.  
12.3 薄膜应力测量 g9m-TkNk  
12.4 薄膜损伤测量 H~oail{EQ  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析内容简介 S$f9m  
Macleod软件自带的用户手册功能全面，其介绍涵盖了软件的方方面面，能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而，为了顺应目前薄膜行业的需求，急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍，以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作，因此，我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 5<iV2H
x  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（原著第二版）是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结，结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod，其内容丰富，实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法，还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题，如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节，首先，从光学薄膜的基本理论出发（第2章），为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次，在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作，以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后，从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合，从而使大家将理论知识与实际经验结合起来，对实际镀膜提出实用的建议，以减少设计时间并降低生产成本。 Yab%/z2:  
薄膜光学涵盖范围很广，书中并附设计光盘和参考文献，有兴趣者可依此深入研究，为精准起见，在不影响理解的情况下，尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助，通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限，书中错误纰漏之处在所难免，本书若有不周之处，尚请读者不吝赐教。 45=bGf#  
\6S7T$$ 1m  
O6Vtu Ws%  
mH54ja2  
目录 QEm|])V  
Preface 1 N@;?CKU  
内容简介 2 \n"{qfn`r  
目录 i y>R=`A1b  
1  引言 1 Ot$-!Y;<  
2  光学薄膜基础 2 pe0F0Ruy
 
2.1  一般规则 2 HpR]q05d  
2.2  正交入射规则 3 ;5wn67'  
2.3  斜入射规则 6 f"B3,6m  
2.4  精确计算 7 \K_ET> !  
2.5  相干性 8 WKQ^NEqr3  
2.6 参考文献 10 !5wIIS:FT  
3  Essential Macleod的快速预览 10 1;d
$#j  
4  Essential Macleod的特点 32 B5gj_^  
4.1  容量和局限性 33 S_iMVHe  
4.2  程序在哪里？ 33 UN7EF/!Zz  
4.3  数据文件 35 fr,7rS/w{l  
4.4  设计规则 35 "MxnFeLM#  
4.5  材料数据库和资料库 37 yTyj'-4  
4.5.1材料损失 38 &*sP/z  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 y6@0O%TDN  
4.5.2 材料库 41 u=Fv2  
4.5.3导出材料数据 43 *zNYZ#  
4.6  常用单位 43 ,V'o4]H  
4.7  插值和外推法 46 *EI6dD"  
4.8  材料数据的平滑 50 MtM%{=&_  
4.9 更多光学常数模型 54 v.\*./-
i  
4.10  文档的一般编辑规则 55 HPpR.  
4.11 撤销和重做 56 uvg
dY  
4.12  设计文档 57 -1Jg?cPzk  
4.10.1  公式 58 rI{=WPI&WU  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59  ,t}vz 7  
4.10.3  沉积密度 59 909?_v  
4.10.4 平行和楔形介质 60 OL5v).Bb  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 5Y?L>QU"  
4.10.4  性能 61 < |e,05aM  
4.10.5  保存设计和性能 64 }L &^xe  
4.10.6  默认设计 64 W"724fwu&  
4.11  图表 64 .R`5Qds*l  
4.11.1  合并曲线图 67 ai}mOyJs  
4.11.2  自适应绘制 68 (VS5V31"  
4.11.3  动态绘图 68 L%">iQOG#  
4.11.4  3D绘图 69 b>_o xK  
4.12  导入和导出 73 so^lb?g  
4.12.1  剪贴板 73 ,?PTcQF  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 BMhy=+\  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 ~L]|?d"  
4.13  背景 77 dL:-Y.?0M  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 k")R[)92b?  
4.15  生成Rugate 84 %lL.[8r|  
4.16  参考文献 91 ODZ5IO}v  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 JROM_>mC  
5.1  Jobs 92 IOTR/anu  
5.2  创建一个新Job（工作） 93 ckV`OaRw4  
5.3  输入材料 94 %?LOs H  
5.4  设计数据文件夹 95 NHB4y/2  
5.5  默认设计 95 h a|C&G  
6  细化和合成 97 INUG
*JC6  
6.1  优化介绍 97 0?sRDYaX;c  
6.2  细化 (Refinement) 98 KN$}tCU  
6.3  合成 (Synthesis) 100 _\=`6`b)  
6.4  目标和评价函数 101 "~`I::'c  
6.4.1  目标输入 102 ^L0d/,ik  
6.4.2  目标 103 Y;nZ=9Sw  
6.4.3  特殊的评价函数 104 Kqun^"Df  
6.5  层锁定和连接 104 og4UhP^UET  
6.6  细化技术 104 .e3NnOzyxS  
6.6.1  单纯形 105 >
Wh}f3C  
6.6.1.1 单纯形参数 106 ()tp>  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 ag$Vgl  
6.6.2.1 Optimac参数 108 zs%Hb48V  
6.6.3  模拟退火算法 109 ?/TSi0R  
6.6.3.1　模拟退火参数 109 nYWvTvZ  
6.6.4  共轭梯度 111 0ph{  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 *ohL&'y  
6.6.5  拟牛顿法 112 _C.BFE_p  
6.6.5.1 拟牛顿参数： 112 r
I^zB mrr  
6.6.6  针合成 113 9Kg21-?  
6.6.6.1 针合成参数 114 !)  S ?m  
6.6.7 差分进化 114 Jm|+-F@I  
6.6.8非局部细化 115 d\%WgH  
6.6.8.1非局部细化参数 115 &GNxo$CG  
6.7  我应该使用哪种技术？ 116 jlp:lX  
6.7.1 　细化 116 xAafm<L@!  
6.7.2　 合成 117 Wf>zDW^"R  
6.8  参考文献 117 ";BlIovT=R  
7  导纳图及其他工具 118 p7);uF^O%  
7.1  简介 118 Av?2<  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 RE}?5XHb  
7.2.1  四分之一波长规则 119 ,\X@~j  
7.2.2  导纳图 120 3VI4X  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 'sLiu8G  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 wx\v:A  
7.5  斜入射导纳图 141 @lCJ G!u  
7.6  对称周期 141 e`d%-9  
7.7  参考文献 142 2LNRtW*  
8  典型的镀膜实例 143 .P.z
B}0=  
8.1  单层抗反射薄膜 145 {D!6%`HKV+  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 eFBeJZuE|  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 \(VTt|}By$  
8.4  W-膜层 148 0OT\"O~S[  
8.5  V-膜层 149 p(PMZVV`  
8.6  V-膜层高折射基底 150 Vm5c+;  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 <cZGxff01  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 Z-8Yd6 4  
8.9  四层抗反射薄膜 153 qP2ekI:y  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 O@MGda9_;  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 vy_D>tp  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 ET_W-  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 bKj%s@x  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 baJxU:Y=p  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 iv?gZg   
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 -:Fe7c  
8.17  1/4波长堆栈 162 5K^69mx  
8.18  陷波滤波器 163 _ ):d`O e  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 TlI<1/fP}  
8.20  褶皱 165 ^Y u6w\QM
 
8.21  消偏振分光器1 169 NM]s8c
K_  
8.22  消偏振分光器2 171 BYTnrPA&Z;  
8.23  消偏振立体分光器 172 ixW@7m  
8.24  消偏振截止滤光片 173 rEHkw '  
8.25  立体偏振分束器1 174 fbWFLSm;  
8.26  立方偏振分束器2 177 (Fynok  
8.27  相位延迟器 178 *.~6S3}  
8.28  红外截止器 179 =`*O1a  
8.29  21层长波带通滤波器 180 qb5#_1qz+^  
8.30  49层长波带通滤波器 181 p/JL9@:'  
8.31  55层短波带通滤波器 182 cE`6uq7p  
8.32  47 红外截止器 183 !O.[PH(,*  
8.33  宽带通滤波器 184 ]?Fi$3Lm  
8.34  诱导透射滤波器 186 j<2m,~k`V  
8.35  诱导透射滤波器2 188 /" ${$b{  
8.36  简单密集型光波复用（DWDM）滤波器 190 # altx=6'  
8.37  高级密集型光波复用技术（DWDM）滤波器 192 |}{B1A  
8.35  增益平坦滤波器 193 B=>RH!&  
8.38  啁啾反射镜 1 196 z\0CE]#T  
8.39  啁啾反射镜2 198 GuGOePV  
8.40  啁啾反射镜3 199 '"?C4mbSl  
8.41  带保护层的铝膜层 200 Zm"{Viv]  
8.42  增加铝反射率膜 201 {cB+mh;mJ>  
8.43  参考文献 202 Mva3+T  
9  多层膜 204 oq4}3bQ  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 [q_`X~3  
9.2  内部透过率 204 U\veOQ;mW  
9.3 内部透射率数据 205 [zL7Q^~  
9.4  实例 206 s@z}YH  
9.5  实例2 210 VtzI9CD  
9.6  圆锥和带宽计算 212 t~E<j+<2B  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 "6R 5+  
10  光学薄膜的颜色 216 (RUT{)p[  
10.1  导言 216 &ISb~5  
10.2  色彩 216 $we]91(::  
10.3  主波长和纯度 220 6`0mta Q  
10.4  色相和纯度 221 Nru7(ag1~  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 d~/q"r1"  
10.6 色差 226 sp7*_&'J  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 MZpK~c1`  
10.8  颜色渲染指数 234 v
1|Bf8  
10.9  色差计算 235 \k]x;S<a  
10.10  参考文献 236 &K43x&mFF  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 :9R=]#uD  
11.1  短脉冲 238 :}h>by=  
11.2  群速度 239 ]J* ,g,  
11.3  群速度色散 241 6\u!E~zy  
11.4  啁啾(chirped) 245 L4b:F0  
11.5  光学薄膜—相变 245 4-kZJ\]  
11.6  群延迟和延迟色散 246 (]RM6i7  
11.7  色度色散 246 DNR~_3Aq  
11.8  色散补偿 249 kdxz!  
11.9  空间光线偏移 256 6ns! ~g@  
11.10  参考文献 258 [F_/2+e  
12  公差与误差 260 &O)
&k  
12.1  蒙特卡罗模型 260 :LWn<,4F&  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 E]J:~H'Er  
12.2.1  误差工具 267 (faK+z,*6R  
12.2.2  灵敏度工具 271 rUlS'L;$"  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 t4qej  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 \.f}W_OF  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 4<lQwV6=  
12.3  参考文献 276 qC_mu)6  
13  Runsheet 与Simulator 277 l akp  
13.1  原理介绍 277 kWlAY%  
13.2  截止滤光片设计 277 jYVE8Y)my  
14  光学常数提取 289 8K;Y2 #
 
14.1  介绍 289 t ?h kL  
14.2  电介质薄膜 289 [3W*9j  
14.3  n 和k 的提取工具 295 7QVuc!V  
14.4  基底的参数提取 302 uK("<u|  
14.5  金属的参数提取 306 Aj9Ji"18za  
14.6  不正确的模型 306 9'DtaTmGW  
14.7  参考文献 311 b$H
z3TJ(  
15  反演工程 313 WKpA|  
15.1  随机性和系统性 313 .}k(L4T|=  
15.2  常见的系统性问题 314 v!42DA)  
15.3  单层膜 314 (f_g7B2&y  
15.4  多层膜 314 1[E#vdbT  
15.5  含义 319 ]WUC:6x  
15.6  反演工程实例 319 =39 ?:VoD  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 1`LXz3uBe  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 nRb^<cZf  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 wNNB;n`l  
16.1  光学性质的热致偏移 329 )9B:wc"
 
16.2  应力工具 335 #5&jt@NS  
16.3  均匀性误差 339 /ahNnCtu?1  
16.3.1  圆锥工具 339 1|ZhPsD.}g  
16.3.2  波前问题 341 3L_I[T$s  
16.4  参考文献 343 1/ZR*fa  
17  如何在Function（模块）中编写操作数 345 #fs|BV !  
17.1  引言 345 o5Y2vmz?9  
17.2  操作数 345 85IMdZ7I  
18  如何在Function中编写脚本 351 (X+s-4%  
18.1  简介 351 lFUWV)J\  
18.2  什么是脚本？ 351 tfkr+ /  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 #hL*rbpT  
18.4  基础 352 +'#oz+  
18.4.1  Classes（类别） 352 1ndJ+H0H  
18.4.2  对象 352 .mL#6P!d3^  
18.4.3  信息（Messages） 352 \aP6_g:N}  
18.4.4  属性 352 4'Xgk
8)  
18.4.5  方法 353 8BXqZVm.  
18.4.6  变量声明 353 RGD
]8mw  
18.5  创建对象 354 V
&Mf:@y  
18.5.1  创建对象函数 355 ;`v% sx#  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 _7kM]">j  
18.5.3 丢弃对象 356 P20|RvE  
18.5.4  总结 356 ,>LRa  
18.6  脚本中的表格 357 "Vd_CO  
18.6.1  方法1 357 K3mAXC,d  
18.6.2  方法2 357 Zt@Z=r:&  
18.7 2D Plots in Scripts 358 68R1AqU_  
18.8 3D Plots in Scripts 359 MR'o{?{e`  
18.9  注释 360 XD-^w_  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 Y7U&Q:5'  
18.11  一个更高级的脚本 362 zz_[S{v!#  
18.12  <esc>键 364 fT Y/4(  
18.13 包含文件 365 ohc1 ~?3b  
18.14  脚本被优化调用 366 Q;h3v1GC\P  
18.15  脚本中的对话框 368 \k.vN@K#  
18.15.1  介绍 368 !:fv>FEI9  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 *(GZ^QH.  
18.15.3  输入框函数 370 )%Y IGV;&  
18.15.4  自定义对话框 371 ujgLJ77  
18.15.5  对话框编辑器 371 S{p}ux[}=  
18.15.6  控制对话框 377 noNm^hFL  
18.15.7  更高级的对话框 380 `_ (~ Ud  
18.16 Types语句 384 ivrXwZ7jT  
18.17 打开文件 385 %85Icg  
18.18 Bags 387 dEp/dd~(&  
18.13  进一步研究 388 (:\LWJX0=  
19  vStack 389 FfMnul  
19.1  vStack基本原理 389 We`'>'W0  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 q42FPq  
19.3  五棱镜 393 Fa3gJ[ZAqf  
19.4 光束距离 396 }fIqH4
bp  
19.5 误差 399 lr('k`KO
Q  
19.6  二向分色棱镜 399 xRDiRj  
19.7  偏振泄漏 404 `1p 8C%  
19.8  波前误差—相位 405 EychR/s  
19.9  其它计算参数 405 A
%ywj'|z  
20  报表生成器 406 zTCP)x  
20.1  入门 406 s`
>H  
20.2  指令(Instructions) 406 'M'w,sID  
20.3  页面布局指令 406 K6pw8  
20.4  常见的参数图和三维图 407 IG.f=+<0  
20.5  表格中的常见参数 408 9Z!lmfnJ  
20.6  迭代指令 408 WPY8C3XO  
20.7  报表模版 408 a&/HSf_G  
20.8  开始设计一个报表模版 409 K&pM o.  
21  一个新的project 413 ER|!KtCSM  
21.1  创建一个新Job 414 Q5E:|)G  
21.2  默认设计 415 & 5 <**  
21.3  薄膜设计 416 %"7WXOv&z  
21.4  误差的灵敏度计算 420 {y);vHf$  
21.5  显色指数计算 422 ` %' z  
21.6  电场分布 424 R "E<8w  
后记 426 Xt(! a  
6$B'Q30}r  
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书籍名称：《Essential Macleod中文手册》 lL2-.!]R  
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《Essential Macleod中文手册》 SWoEt1w  
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目  录 t*z'c  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 :{CFTc5:A  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 E\e]K !  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17
[y{E  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 _O52ai><b  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 x*mc -&N  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 T8q[7Zn  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 Z% Z"VoxH  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 8xo;E=`   
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 O
LFt;h  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 M]0^ind  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 RV]a%mVlM  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 <lx^aakk!  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 U+!UL5k  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 3LfTGO  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 Dh8(HiXf:  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 ~j}J<4&OvC  
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价  格：400元