[培训]上海｜薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25（三）-27日（五） [复制链接]

特邀专家介绍 {9)LHX7dN  

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T$k) ^'  
易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，研究生导师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 )}/9*  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 y_a~>S  
随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 [.0R"|$sy+  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 8mMrGf[Q\  
1. Essential Macleod软件介绍 ";xG[ne$Be  
1.1 介绍软件 Ot(EDa9}IJ  
1.2 创建一个简单的设计 !iZ*ZPu  
1.3 绘图和制表来表示性能 !5[?n3  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 <FGM/e4  
1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） B-Fu/
n  
1.6 特定设计的公式技术 $H-s(3vq  
1.7 交互式绘图 _hXadLt  
2. 光学薄膜理论基础 -BB5bsjA  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 JP[BSmhAV  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 qA*
QFQ'-  
3. 材料管理 ,Kdvt@vle  
3.1 材料模型 Q%@l`V)Rs  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 KaO8rwzDN  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 om@` NW  
3.4 基板光学常数的提取 Y5(`/
 
4. 光学薄膜设计优化方法 P 0,]Ud  
4.1 参考波长与g v6iV#yz3(  
4.2 四分之一规则 0;V2>!  
4.3 导纳与导纳图 G*Qk9bk9  
4.4 斜入射光学导纳 yzXwxi1#  
4.5 光学薄膜设计的进展 .-nA#/2-  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 =#uXO<   
4.6.1 优化目标设置 !dmI}<@&k  
4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法） B
Eu9gu  
4.6.3 膜层锁定和链接 )D(XDN  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 `Ol*"F.+I  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 C[&Lh_F\  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 AD~\/V&+  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 #XNe4#  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 Nnx"b 5I}n  
5.5 如何在Function中编写脚本 }1'C!]j  
6. 光学薄膜系统案例 ^${-^w@,%V  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 %#"uK:(N  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 6nxf<1  
6.3 Stack应用范例说明 F*hs3b0Db  
7. 薄膜性能分析 $JcU0tPq0  
7.1 电场分布 _RhCVoeB  
7.2 公差与灵敏度分析  ~)WE  
7.3 反演工程 l6)*u[}E  
7.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真 3\6jzD  
8. 真空技术 fz,8 <  
8.1 常用真空泵介绍 Z+Z`J; ,  
8.2 真空密封和检漏 ,7tN&R_  
9. 薄膜制备技术 \@gs8K#  
9.1 常见薄膜制备技术 3"&6rdF\jB  
10. 薄膜制备工艺 UB?a-jGZK  
10.1 薄膜制备工艺因素 i7*4hYY  
10.2 薄膜均匀性修正技术 m<r.sq&;  
10.3 光学薄膜监控技术 sL[,J[AN;  
11. 激光薄膜 1<pbO:r  
11.1 薄膜的损伤问题 HOXqIZN85  
11.2 激光薄膜的制备流程 Ujb||(W  
11.3 激光薄膜的制备技术 `P"-9Ue=  
12. 光学薄膜特性测量 v-&^G3  
12.1 薄膜光谱测量 |jc87(x<  
12.2 薄膜光学常数测量 G8eAj%88  
12.3 薄膜应力测量 )%WS(S>8  
12.4 薄膜损伤测量 v;{s@CM m  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析内容简介 !P#lTyz  
Macleod软件自带的用户手册功能全面，其介绍涵盖了软件的方方面面，能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而，为了顺应目前薄膜行业的需求，急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍，以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作，因此，我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 RIb< 7  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（原著第二版）是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结，结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod，其内容丰富，实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法，还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题，如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节，首先，从光学薄膜的基本理论出发（第2章），为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次，在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作，以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后，从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合，从而使大家将理论知识与实际经验结合起来，对实际镀膜提出实用的建议，以减少设计时间并降低生产成本。 }_XKO\  
薄膜光学涵盖范围很广，书中并附设计光盘和参考文献，有兴趣者可依此深入研究，为精准起见，在不影响理解的情况下，尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助，通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限，书中错误纰漏之处在所难免，本书若有不周之处，尚请读者不吝赐教。 .(nq"&u-*  
v5 $"v?PT  
L}x"U9'C  
a&4>xZU #  
目录 jbfMTb4  
Preface 1 =as]>
?<  
内容简介 2 t$rWE|+_z  
目录 i 6BNOF66kH  
1  引言 1 ,8EeSnI  
2  光学薄膜基础 2 W<v?D6dFq  
2.1  一般规则 2 - C8h$P  
2.2  正交入射规则 3 T?NwSxGo  
2.3  斜入射规则 6 d v"  
2.4  精确计算 7 y7$e7~}/  
2.5  相干性 8 LYv+Sv  
2.6 参考文献 10 Y KeOH  
3  Essential Macleod的快速预览 10 xOPSw|!w
 
4  Essential Macleod的特点 32 &2#<6=
}  
4.1  容量和局限性 33 JzCfs<D  
4.2  程序在哪里？ 33 0.bmVN<  
4.3  数据文件 35 6e
/2X<O  
4.4  设计规则 35 Nl PP|=o  
4.5  材料数据库和资料库 37 xw]Zo<F  
4.5.1材料损失 38 `N ;!=7y7Y  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 >"N\ZC^  
4.5.2 材料库 41 Wvmf[!V;  
4.5.3导出材料数据 43 {_KuztJGA  
4.6  常用单位 43 =`Nnd@3v  
4.7  插值和外推法 46 -9vAY+s.  
4.8  材料数据的平滑 50 /Y%) Y  
4.9 更多光学常数模型 54 v)4 kS  
4.10  文档的一般编辑规则 55 FHqa|4Ie  
4.11 撤销和重做 56 J(g!>Sp!p  
4.12  设计文档 57 JKGUg3\~  
4.10.1  公式 58 *cq#>r
N  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 _N0x&9S$  
4.10.3  沉积密度 59 J1yy6Wq3
[  
4.10.4 平行和楔形介质 60 i#
iY;R8  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 jZe]zdml  
4.10.4  性能 61 \D>'  
4.10.5  保存设计和性能 64  H[fD >  
4.10.6  默认设计 64 k;l^wM  
4.11  图表 64 BqKD+  
4.11.1  合并曲线图 67 fh:=ja?bM3  
4.11.2  自适应绘制 68 ?^5W.`Y2i  
4.11.3  动态绘图 68 ;@ %~eIlu  
4.11.4  3D绘图 69 31<hn+pE&  
4.12  导入和导出 73 R qOEQ*k  
4.12.1  剪贴板 73 2lE { P  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 BDD^*Y  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 J+w"{ O  
4.13  背景 77 GVCyVt[!-  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 <@(HQuL#  
4.15  生成Rugate 84 5H""_u
w  
4.16  参考文献 91 l{_>?]S5  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 pjrVPi5&t  
5.1  Jobs 92 _QkU,[E  
5.2  创建一个新Job（工作） 93 !A&Vg #  
5.3  输入材料 94 hRtnO|Z6  
5.4  设计数据文件夹 95 VDCrFZ!]  
5.5  默认设计 95 nNq|v=L  
6  细化和合成 97 eNi.d;8F  
6.1  优化介绍 97 ]'DtuT?Z  
6.2  细化 (Refinement) 98 pG:FDlR~  
6.3  合成 (Synthesis) 100 I^0bEwqZ~  
6.4  目标和评价函数 101 bXC;6xZV  
6.4.1  目标输入 102 Q3_ia5 `O  
6.4.2  目标 103 ~|R"GloUw  
6.4.3  特殊的评价函数 104 S'B7C>i`#N  
6.5  层锁定和连接 104 3,S5>~R=  
6.6  细化技术 104 v
=iz*2+X  
6.6.1  单纯形 105 n[AJ'A{  
6.6.1.1 单纯形参数 106 AbcmI*y  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 DyYl97+Z?  
6.6.2.1 Optimac参数 108 <b{Le{QJ*  
6.6.3  模拟退火算法 109 VL7zU->  
6.6.3.1　模拟退火参数 109 W(a=ev2sa  
6.6.4  共轭梯度 111 /XtxgO\T.  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 X 4;+`  
6.6.5  拟牛顿法 112 +.b~2K1  
6.6.5.1 拟牛顿参数： 112 adHHnH`,  
6.6.6  针合成 113 =DcKHL(m  
6.6.6.1 针合成参数 114 4$1sBY/  
6.6.7 差分进化 114 rqT@i(i  
6.6.8非局部细化 115 CYes'lr  
6.6.8.1非局部细化参数 115 v|CRiwx  
6.7  我应该使用哪种技术？ 116 rM_8piD  
6.7.1 　细化 116 D9 ,~Fc  
6.7.2　 合成 117 f\2'/g}6a  
6.8  参考文献 117 gV$Lfkz  
7  导纳图及其他工具 118 mY |$=n5X  
7.1  简介 118 "<txg%j\J  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 |A[Le ;,  
7.2.1  四分之一波长规则 119 s{Ryh.IyI  
7.2.2  导纳图 120 y3))I\QT  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 q71Tg  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 !H~G_?Mf\O  
7.5  斜入射导纳图 141 $NT{ssh  
7.6  对称周期 141 +wS?Z5%mU  
7.7  参考文献 142 Y[ a$~n^:n  
8  典型的镀膜实例 143 li$(oA2  
8.1  单层抗反射薄膜 145 CP["N(fF  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 coyy T  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 ^W3xw[{  
8.4  W-膜层 148 eiJ $}\qJL  
8.5  V-膜层 149 QVQe9{ "0  
8.6  V-膜层高折射基底 150 ;~tKNytD`B  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 Y GvtG U-  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 *^}(LoPZ  
8.9  四层抗反射薄膜 153 7K%Ac  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 s-3vp  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 k 32Jz.\B  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 G%Wjtrpj  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 Z_ak4C  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 > ~J&i3  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 sMs 0*B-[  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 M,3sK!`>  
8.17  1/4波长堆栈 162 ~eA7:dZLb  
8.18  陷波滤波器 163 D}&U3?g=  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 k`'^e
/  
8.20  褶皱 165 f*aYS  
8.21  消偏振分光器1 169 Bd31> %6  
8.22  消偏振分光器2 171 O{%yO=`r  
8.23  消偏振立体分光器 172 Rm&

i"  
8.24  消偏振截止滤光片 173 ?R#-
gvX%  
8.25  立体偏振分束器1 174 ,4)zn6tC  
8.26  立方偏振分束器2 177 |9@?8\  
8.27  相位延迟器 178 <;=?~QK%-  
8.28  红外截止器 179 ZdY:I;)s  
8.29  21层长波带通滤波器 180 }BzV<8F  
8.30  49层长波带通滤波器 181 .?@$Rd2@W  
8.31  55层短波带通滤波器 182 L:}hZf{p*  
8.32  47 红外截止器 183 _r?H by<b  
8.33  宽带通滤波器 184 &Plc  
8.34  诱导透射滤波器 186 ![0\m2~iv  
8.35  诱导透射滤波器2 188 G ZDyw9  
8.36  简单密集型光波复用（DWDM）滤波器 190 !Hr~B.f7  
8.37  高级密集型光波复用技术（DWDM）滤波器 192 z^ rf;  
8.35  增益平坦滤波器 193 oDrfzm|[Y  
8.38  啁啾反射镜 1 196 l> W?XH  
8.39  啁啾反射镜2 198 F$^RM3  
8.40  啁啾反射镜3 199 LeF Z%y)F  
8.41  带保护层的铝膜层 200 'W@X139zq  
8.42  增加铝反射率膜 201 0h_9  
8.43  参考文献 202 ?<%GYdus  
9  多层膜 204 }} J?, >g  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 P>9F(#u_(F  
9.2  内部透过率 204 `gDpb.=Y  
9.3 内部透射率数据 205 pW2NrBq@w  
9.4  实例 206 kD8$ir'UYG  
9.5  实例2 210 RplLU7  
9.6  圆锥和带宽计算 212 @/9#Z4&d0  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 W_Z%CBjcT  
10  光学薄膜的颜色 216 1~zzQ:jAZ  
10.1  导言 216 1I{vBeMj  
10.2  色彩 216 iV58 m  
10.3  主波长和纯度 220 $BXZFC_1S  
10.4  色相和纯度 221 yT.h[yv"w  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 +C' u!^)  
10.6 色差 226 %iPWg
  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 FAX|.!US*p  
10.8  颜色渲染指数 234 !KKkw
4  
10.9  色差计算 235 nD@/,kw"  
10.10  参考文献 236 ;:4&nJ*qG  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 EZ:pcnL{  
11.1  短脉冲 238 m(i84~  
11.2  群速度 239 1hp`.!3]H  
11.3  群速度色散 241 2!Yq9,`  
11.4  啁啾(chirped) 245 ]w`)"{j5m  
11.5  光学薄膜—相变 245 ikX"f?Q;S2  
11.6  群延迟和延迟色散 246 o$;t  
11.7  色度色散 246 ^~9fQJNs  
11.8  色散补偿 249 q^; SZ^yW5  
11.9  空间光线偏移 256 6<u=hhL  
11.10  参考文献 258 -K
eoq  
12  公差与误差 260 8Wqh 8$  
12.1  蒙特卡罗模型 260 O]3$$uI=QE  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 1LYz X;H1  
12.2.1  误差工具 267 (0dy,GRN  
12.2.2  灵敏度工具 271 +pXYBwH 7Q  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 ,h,OUo]LIY  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 Z}#'.y\ f  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 CT1@J-np  
12.3  参考文献 276 1y'8bt~7Pf  
13  Runsheet 与Simulator 277 `?E|frz[  
13.1  原理介绍 277 >Q3_-yY+  
13.2  截止滤光片设计 277 d9e_slx  
14  光学常数提取 289 QxS]6hA  
14.1  介绍 289 =z^2KH  
14.2  电介质薄膜 289 #{K}o}  
14.3  n 和k 的提取工具 295 ,.DTJ7H+  
14.4  基底的参数提取 302 i^T@jg+K  
14.5  金属的参数提取 306 .j^tFvN~L
 
14.6  不正确的模型 306 |y1O M  
14.7  参考文献 311 !l NCuR/T  
15  反演工程 313 M$_E:u&D  
15.1  随机性和系统性 313 7.)kG}q]  
15.2  常见的系统性问题 314 %hDx UZ#0  
15.3  单层膜 314 : N9,/-s  
15.4  多层膜 314 }?G([s56  
15.5  含义 319 /JsA[}.6  
15.6  反演工程实例 319 3 @ahN2  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 C2t]  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 ,+2!&"zD  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 &pHSX  
16.1  光学性质的热致偏移 329 )|3BS`  
16.2  应力工具 335 wnUuoX(  
16.3  均匀性误差 339 tV?-  
16.3.1  圆锥工具 339 )R6h 1  
16.3.2  波前问题 341 abMB-  
16.4  参考文献 343 +pUG6.j%  
17  如何在Function（模块）中编写操作数 345 ]31>0yj[Q  
17.1  引言 345 $40G$w  
17.2  操作数 345 P* X^)R  
18  如何在Function中编写脚本 351 ^^,
cnDlm  
18.1  简介 351 d?:KEi-<7  
18.2  什么是脚本？ 351 #qLsAw--Q  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 6-E>-9]'E  
18.4  基础 352 n?Zt
\Kto  
18.4.1  Classes（类别） 352 tTEw"DL_-  
18.4.2  对象 352 tJBj9{  
18.4.3  信息（Messages） 352 '+EtnWHs  
18.4.4  属性 352 `D/<*e,#  
18.4.5  方法 353 hY5GNYDh  
18.4.6  变量声明 353 izDfp
r}s4  
18.5  创建对象 354 :; z]:d  
18.5.1  创建对象函数 355 qu\cU(H|  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 cMs8D  
18.5.3 丢弃对象 356 ZLDO&}  
18.5.4  总结 356 QmgO00{  
18.6  脚本中的表格 357 <)$&V*\  
18.6.1  方法1 357 $^:s)Yv  
18.6.2  方法2 357 []lMv ZW  
18.7 2D Plots in Scripts 358 !;3hN$5  
18.8 3D Plots in Scripts 359 'm=TBNQTS  
18.9  注释 360 knn9s0'Q  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 *@I/TX'\rY  
18.11  一个更高级的脚本 362 ]l7rM"  
18.12  <esc>键 364 E3hXs6P  
18.13 包含文件 365 |)VNf.aJZ  
18.14  脚本被优化调用 366 ="p,~ivrz  
18.15  脚本中的对话框 368 *iX PG9XZ  
18.15.1  介绍 368 {x,d9I  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 lvAKL>qX  
18.15.3  输入框函数 370 !C(U9p. 0  
18.15.4  自定义对话框 371 mE\)j*Nnv  
18.15.5  对话框编辑器 371 8]K+,0m6  
18.15.6  控制对话框 377 z0H+Or  
18.15.7  更高级的对话框 380 )O],$\u  
18.16 Types语句 384 23d*;ri5  
18.17 打开文件 385 j/t
)=c  
18.18 Bags 387 Tnv,$KOhs  
18.13  进一步研究 388 S5BS![-QK  
19  vStack 389 dQn,0  
19.1  vStack基本原理 389 s6F0&L;N&  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 ~9y/MR  
19.3  五棱镜 393 HTLS$o;Q  
19.4 光束距离 396 *Sg6VGP  
19.5 误差 399 /HH_Zi0?N|  
19.6  二向分色棱镜 399 l(Ya,/4  
19.7  偏振泄漏 404 7@R^B=pb  
19.8  波前误差—相位 405 00B,1Q HP  
19.9  其它计算参数 405 b
*(,W  
20  报表生成器 406 x)jc  
20.1  入门 406 >*/:"!u  
20.2  指令(Instructions) 406 `_()|;!y  
20.3  页面布局指令 406 XXw>h4hl  
20.4  常见的参数图和三维图 407 EK.n $  
20.5  表格中的常见参数 408 5g%D0_e5  
20.6  迭代指令 408 URbHVPCPb  
20.7  报表模版 408 +[ng99p  
20.8  开始设计一个报表模版 409 &^`[$LtYd  
21  一个新的project 413 H:nO\]  
21.1  创建一个新Job 414 H|S hi/  
21.2  默认设计 415 !K-qoBqKM  
21.3  薄膜设计 416 2g~W})e  
21.4  误差的灵敏度计算 420 g"~`\xhx  
21.5  显色指数计算 422 AJ>$`=  
21.6  电场分布 424 O5MV&Zb(  
后记 426 )<%CI#s#  
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;VzdlCZ@  
书籍名称：《Essential Macleod中文手册》 jM-7  
JXjH}C  
《Essential Macleod中文手册》 O1@3V/.Wu  
NoMlTh(O  
目  录 HVdB*QEH  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 4B9D  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 i[4!% FxB  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 bXvriQ.UH  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 SKF0p))BJ  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 ~|[i64V<^  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 Q,M,^_  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 .}GOHW)}  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 ?
\I@w4  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 XqU0AbQ  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 DR @yd,  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 ly69:TR7I  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 1,:QrhC  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 '[HBKn$`  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 Wv%F^(R7  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 <00nu'Ex1v  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 :]4s;q:m  
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价  格：400元