[培训]上海｜薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25（三）-27日（五） [复制链接]

特邀专家介绍 Lnk(l2~U  

图片:w800

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易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，研究生导师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 k\/idd[  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 e^%>_U  
随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 F'Lav?^  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 =wcqCW,]  
1. Essential Macleod软件介绍 P&kjtl68Y  
1.1 介绍软件 N0mP EF2  
1.2 创建一个简单的设计 *h
9S\Pv>j  
1.3 绘图和制表来表示性能 9$Dsm@tX  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 42B_8SK  
1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） %D_pTD\  
1.6 特定设计的公式技术 N.1@!\z@@  
1.7 交互式绘图 ^.?5!9U  
2. 光学薄膜理论基础 \""sf{S9  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 ]ucz8('  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 d&G#3}kOb%  
3. 材料管理 kZU v/]Y.  
3.1 材料模型 P/?'ea  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 Z]^Ooy[pb  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 ]/cVlpZ{f  
3.4 基板光学常数的提取 7SVqfWp  
4. 光学薄膜设计优化方法 JlMD_pA  
4.1 参考波长与g 0D.qc8/V4.  
4.2 四分之一规则 ]>_Ie?L)<  
4.3 导纳与导纳图
]-+%]'  
4.4 斜入射光学导纳 e6y,)W"WW2  
4.5 光学薄膜设计的进展 ]>T4\?aC  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 &)Z!A*w]  
4.6.1 优化目标设置 iD"9,1@~n  
4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法） h8zl\  
4.6.3 膜层锁定和链接 ipi^sCYp  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 %HWebZ-yY  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 &aLelJ~  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 j~;kh_  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 @o/126(k  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 4n5r<?rY  
5.5 如何在Function中编写脚本 >3SZD  
6. 光学薄膜系统案例 r0'6\MS13  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 `{v!|.d<  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 jMUN|(=Y  
6.3 Stack应用范例说明 Tj3xK%K_r3  
7. 薄膜性能分析 G\4*6iw:  
7.1 电场分布 y7Sey;  
7.2 公差与灵敏度分析 'jr[ ?WQ  
7.3 反演工程 yd+.hg&J  
7.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真 ")xd 'V  
8. 真空技术 O86[`,  
8.1 常用真空泵介绍 s%OPoRE  
8.2 真空密封和检漏 PN"s^]4  
9. 薄膜制备技术 fC<pCdsg  
9.1 常见薄膜制备技术 z7$,m#tw  
10. 薄膜制备工艺 IMT]!j&Y,  
10.1 薄膜制备工艺因素 </B<=tc  
10.2 薄膜均匀性修正技术 >u=Dc.lX  
10.3 光学薄膜监控技术 fFiFS\''V  
11. 激光薄膜 XcH_Y  
11.1 薄膜的损伤问题 #fQ}8UxU,  
11.2 激光薄膜的制备流程 ymo].  
11.3 激光薄膜的制备技术 (;6vT'hE  
12. 光学薄膜特性测量 &4}Uaxt)  
12.1 薄膜光谱测量 /Y_)dz^@  
12.2 薄膜光学常数测量 1Ht&;V  
12.3 薄膜应力测量 g*-%.fNA  
12.4 薄膜损伤测量 Xub<U>e;b  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析内容简介 ^Yg}>?0  
Macleod软件自带的用户手册功能全面，其介绍涵盖了软件的方方面面，能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而，为了顺应目前薄膜行业的需求，急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍，以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作，因此，我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 p?idl`?^3  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（原著第二版）是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结，结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod，其内容丰富，实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法，还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题，如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节，首先，从光学薄膜的基本理论出发（第2章），为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次，在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作，以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后，从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合，从而使大家将理论知识与实际经验结合起来，对实际镀膜提出实用的建议，以减少设计时间并降低生产成本。 
CA[3R  
薄膜光学涵盖范围很广，书中并附设计光盘和参考文献，有兴趣者可依此深入研究，为精准起见，在不影响理解的情况下，尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助，通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限，书中错误纰漏之处在所难免，本书若有不周之处，尚请读者不吝赐教。 q!!gn1PT(T  
WMk;-,S!)  
s"-gnW  
-RKqbfmi=  
目录 o4F?Rx,L  
Preface 1 j.O+e|kxU  
内容简介 2 7^<{aE:  
目录 i mR3-+dB/  
1  引言 1 1n-+IR"  
2  光学薄膜基础 2 !U[/P6 +0  
2.1  一般规则 2 jBLLx{  
2.2  正交入射规则 3 H
pGI\s  
2.3  斜入射规则 6 '5; /V  
2.4  精确计算 7 {,Z-GJ  
2.5  相干性 8 (JI[y"2  
2.6 参考文献 10 i8Xz'Sw07  
3  Essential Macleod的快速预览 10 ~Kiu" g  
4  Essential Macleod的特点 32 UY~N4IR8  
4.1  容量和局限性 33 yO*HJpc
 
4.2  程序在哪里？ 33 `
2l j{N  
4.3  数据文件 35 OGWZq(c"6  
4.4  设计规则 35 e?yrx6  
4.5  材料数据库和资料库 37 mi'3ibCG  
4.5.1材料损失 38 rZ:-%#Q4  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 3Q:HzqG  
4.5.2 材料库 41 45aFH}w:  
4.5.3导出材料数据 43 W:S?_JM  
4.6  常用单位 43 hj+iB,8  
4.7  插值和外推法 46 Y:#nk.}>  
4.8  材料数据的平滑 50 -POsbb>  
4.9 更多光学常数模型 54 Pk/3oF  
4.10  文档的一般编辑规则 55 Zp qb0ro  
4.11 撤销和重做 56 /^rJ`M[;  
4.12  设计文档 57 X')t6DQ(I  
4.10.1  公式 58 ["N_t:9I  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 DNu-
Ce%  
4.10.3  沉积密度 59 ^SvGSxi  
4.10.4 平行和楔形介质 60 g|=1U  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 .9VhDrCK  
4.10.4  性能 61 _2~+%{/m,  
4.10.5  保存设计和性能 64 .g?Ppma  
4.10.6  默认设计 64 wY xk[)&Y  
4.11  图表 64 'izv[{!n{  
4.11.1  合并曲线图 67 r(OH  
4.11.2  自适应绘制 68 ,vs#(d6G  
4.11.3  动态绘图 68 WWgJ !Uz  
4.11.4  3D绘图 69 _h^er+d
!_  
4.12  导入和导出 73 }CGA)yK~3  
4.12.1  剪贴板 73 o>75s#= b=  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 TW~%1G_v  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 %pj T?G7  
4.13  背景 77 !$pnE:K  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 _ZHDr[  
4.15  生成Rugate 84 (;cKv  
4.16  参考文献 91 WbJ  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 Wf{&D>  
5.1  Jobs 92 ]47!Zo
,  
5.2  创建一个新Job（工作） 93 5a%i%+;N  
5.3  输入材料 94 L#MgoBXr  
5.4  设计数据文件夹 95 iT=h}>  
5.5  默认设计 95 WGA"e  
6  细化和合成 97 +HkEbR'G0  
6.1  优化介绍 97 4L
<;z'   
6.2  细化 (Refinement) 98 7Sl"q=>  
6.3  合成 (Synthesis) 100 }DFZ9,gQ  
6.4  目标和评价函数 101 KmpKyc[  
6.4.1  目标输入 102 J*D3=5&  
6.4.2  目标 103 o-
+H
-  
6.4.3  特殊的评价函数 104 V\*J"ZP&  
6.5  层锁定和连接 104 Y$0K}`{  
6.6  细化技术 104 /RemLJP F  
6.6.1  单纯形 105 yW@YW_2;4  
6.6.1.1 单纯形参数 106 3eN(Sw@p  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 W(o#2;{ln  
6.6.2.1 Optimac参数 108 v
9MliD'  
6.6.3  模拟退火算法 109 YJB/*SV^  
6.6.3.1　模拟退火参数 109 "sJ@_lp  
6.6.4  共轭梯度 111 %@^9(xTE  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 ![ @i+hl  
6.6.5  拟牛顿法 112 %TYe]^/'y  
6.6.5.1 拟牛顿参数： 112 lS |:4U.  
6.6.6  针合成 113 qk=OodEMK  
6.6.6.1 针合成参数 114 TXbnK"XQ  
6.6.7 差分进化 114 6F; |x  
6.6.8非局部细化 115 tvOyT6]  
6.6.8.1非局部细化参数 115 ?o`fX wE  
6.7  我应该使用哪种技术？ 116 ZO&F15$P  
6.7.1 　细化 116 $D;-;5[-/r  
6.7.2　 合成 117 (".WJXB\  
6.8  参考文献 117 `P jS  
7  导纳图及其他工具 118 T)mh  
7.1  简介 118 pGP$2  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 3\j3vcuy  
7.2.1  四分之一波长规则 119 5"z~
BE7  
7.2.2  导纳图 120 xcX^L84\  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 DAQozhP8  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 , %A2wV  
7.5  斜入射导纳图 141 !m?W+z~J  
7.6  对称周期 141 6.6x$y3v  
7.7  参考文献 142 ,U=7#Cf!  
8  典型的镀膜实例 143 @vPGkM#oW  
8.1  单层抗反射薄膜 145 _Kg"l5?B  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 1i}p?sU  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 N >k,"=N/  
8.4  W-膜层 148 YJ{_%z|U  
8.5  V-膜层 149 &24>9  
8.6  V-膜层高折射基底 150 G\#dMCk?  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 xPMX\aI|l  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 O6]X\Cwj%  
8.9  四层抗反射薄膜 153 N:U

A+  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 I 8 Ls_$[  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 }u.1$Y  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 HiEQs|""'  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 lFD/hz7lc  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 [-2Tj)P C  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 v7mg8'  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 [t"#4[  
8.17  1/4波长堆栈 162 ]]/p.#oD,  
8.18  陷波滤波器 163 s=1w6ZLD  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 YLid2aF  
8.20  褶皱 165 ]?V2L`/  
8.21  消偏振分光器1 169 2YpJ4.  
8.22  消偏振分光器2 171 M4K>/-9X+V  
8.23  消偏振立体分光器 172 *wV`7\@  
8.24  消偏振截止滤光片 173 /,3:<I  
8.25  立体偏振分束器1 174 ?}<Wmy2A  
8.26  立方偏振分束器2 177 6B@{X^6y  
8.27  相位延迟器 178 !==C@cH<N  
8.28  红外截止器 179 yD(v_J*  
8.29  21层长波带通滤波器 180 -XWlmw*i(g  
8.30  49层长波带通滤波器 181 <v$yXA  
8.31  55层短波带通滤波器 182 ICUI0/J  
8.32  47 红外截止器 183 uY:u[  
8.33  宽带通滤波器 184 /igbn  
8.34  诱导透射滤波器 186 ?Bsc;:KF  
8.35  诱导透射滤波器2 188 aKw7m={  
8.36  简单密集型光波复用（DWDM）滤波器 190 `:5W1D(  
8.37  高级密集型光波复用技术（DWDM）滤波器 192 &u0on)E  
8.35  增益平坦滤波器 193 kRB2J3Nt.  
8.38  啁啾反射镜 1 196 MXynv";<H  
8.39  啁啾反射镜2 198 i~.9B7hdE  
8.40  啁啾反射镜3 199 ]t;bCD6*  
8.41  带保护层的铝膜层 200 T4x[ \v5d  
8.42  增加铝反射率膜 201 O],]\M{GL  
8.43  参考文献 202 8~vE  
9  多层膜 204 ux1SQ8C*  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 rM)-$dZ  
9.2  内部透过率 204 ItwJL`  
9.3 内部透射率数据 205 *"sDsXo- I  
9.4  实例 206 p"o_0{8  
9.5  实例2 210 C%;J9(r  
9.6  圆锥和带宽计算 212 XXC(R  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 z?Qt%1q  
10  光学薄膜的颜色 216 (
kZ2D  
10.1  导言 216 j/w*2+&v  
10.2  色彩 216 )U:W 9%  
10.3  主波长和纯度 220 UYsyVY`Fm|  
10.4  色相和纯度 221 !KmSLr7xU  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222  bj U]]  
10.6 色差 226 P: )YKro]  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 %<;PEQQ|C  
10.8  颜色渲染指数 234 gIcm`5+T  
10.9  色差计算 235 Nx<%'-9)|  
10.10  参考文献 236 8?&!@3n  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 #H&`wMZZ:  
11.1  短脉冲 238 LABLT;c  
11.2  群速度 239 _sC kBDl-  
11.3  群速度色散 241 xJF}6yPm@  
11.4  啁啾(chirped) 245 [:bYd}J  
11.5  光学薄膜—相变 245 ^3w >:4m  
11.6  群延迟和延迟色散 246 8eZ^)9m  
11.7  色度色散 246 AOR(1Qyo  
11.8  色散补偿 249 w$[ck=  
11.9  空间光线偏移 256 afj[HJbY  
11.10  参考文献 258 -%>.Z1uj  
12  公差与误差 260 <hmRr  
12.1  蒙特卡罗模型 260 c_)lTI4  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 W,p?}KiO T  
12.2.1  误差工具 267 QOKE9R#Y  
12.2.2  灵敏度工具 271 P|kfPohI=  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 0j(/N  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 |-.r9;-b  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 i")ucrf  
12.3  参考文献 276 ("ulL5  
13  Runsheet 与Simulator 277 G|.5.FK^  
13.1  原理介绍 277 Kf'oXCs  
13.2  截止滤光片设计 277 A#8Dv&$Pr  
14  光学常数提取 289 ul[+vpH9  
14.1  介绍 289 \EOPlyf8x  
14.2  电介质薄膜 289 ad'C&^o5  
14.3  n 和k 的提取工具 295 .lIkJQ3d  
14.4  基底的参数提取 302 +
N>&b%  
14.5  金属的参数提取 306 zIh`Vw,t0  
14.6  不正确的模型 306 <jHo2U8/"s  
14.7  参考文献 311 o%$'-N  
15  反演工程 313 rT{+ h}vO  
15.1  随机性和系统性 313 "`aLSw75x  
15.2  常见的系统性问题 314 LGF5yRk  
15.3  单层膜 314 _S;Fs|p_  
15.4  多层膜 314 )|CF)T-  
15.5  含义 319 J:JkX>n%k=  
15.6  反演工程实例 319 gDBdaxR<  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 LFT)_DG7(  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 ,pMH`  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 CiTjRJ-ZW)  
16.1  光学性质的热致偏移 329 o@blvW<v7  
16.2  应力工具 335 Q R<q[@)F  
16.3  均匀性误差 339 DSc:>G  
16.3.1  圆锥工具 339 x,>r}I>^Q  
16.3.2  波前问题 341 "L~qsFL  
16.4  参考文献 343 Y76UhtYH  
17  如何在Function（模块）中编写操作数 345 $
l<(*,,l  
17.1  引言 345 cR"?EQ] `N  
17.2  操作数 345 l8Ks{(wh
 
18  如何在Function中编写脚本 351 B0#JX MX9  
18.1  简介 351 euc|G Xs  
18.2  什么是脚本？ 351 +-+%6O<C  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 Hj^_Cp]@*  
18.4  基础 352 uf<nVdC.  
18.4.1  Classes（类别） 352 qZ|>{^a*  
18.4.2  对象 352 d-sK{ZC"y  
18.4.3  信息（Messages） 352 5 Yf T
 
18.4.4  属性 352 yPhTCr5pK  
18.4.5  方法 353 'k?*?XxG  
18.4.6  变量声明 353 M5>cYVG  
18.5  创建对象 354 w5tcO%+k1  
18.5.1  创建对象函数 355 8s#2Zv  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 }*s%|!{H  
18.5.3 丢弃对象 356 |H7f@b]Sk  
18.5.4  总结 356 F;;\
I  
18.6  脚本中的表格 357 T0=%RID%=  
18.6.1  方法1 357 oUG!=.1}K5  
18.6.2  方法2 357 SWrP0Qjc  
18.7 2D Plots in Scripts 358 POtwT">z  
18.8 3D Plots in Scripts 359 @XRN#_{  
18.9  注释 360 0.}WZAYy~  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 ]E!b&  
18.11  一个更高级的脚本 362 01/yog
 
18.12  <esc>键 364 FyV)Nmc%t  
18.13 包含文件 365 Mp`2[S@$  
18.14  脚本被优化调用 366 Bp>Z?"hTe  
18.15  脚本中的对话框 368 cgevP`*]  
18.15.1  介绍 368 u>W:SM  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 s8 c#_  
18.15.3  输入框函数 370 3(n+5~{e  
18.15.4  自定义对话框 371 6o4Bf|E]  
18.15.5  对话框编辑器 371 Q"2J2211  
18.15.6  控制对话框 377 wW?/`>@  
18.15.7  更高级的对话框 380 o@!Uds0  
18.16 Types语句 384 DcL;7IT  
18.17 打开文件 385 mM6X0aM  
18.18 Bags 387 FT/STI  
18.13  进一步研究 388 12JmSvD  
19  vStack 389 _cw~N p  
19.1  vStack基本原理 389 jj$D6f/mOG  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 RAps`)OR?  
19.3  五棱镜 393 VA^yv1We  
19.4 光束距离 396 9p{7x[C  
19.5 误差 399 y>YQx\mK
 
19.6  二向分色棱镜 399 mOQN$d[  
19.7  偏振泄漏 404 ^< o"3?  
19.8  波前误差—相位 405 48 n5Y~YS  
19.9  其它计算参数 405 ;:5Ahfo \  
20  报表生成器 406 XD=p:Ezh  
20.1  入门 406 n?=d)[]  
20.2  指令(Instructions) 406 )J<VDO:_YA  
20.3  页面布局指令 406 ^vA"3Ixb!  
20.4  常见的参数图和三维图 407 -h?ed'e/zz  
20.5  表格中的常见参数 408 ?7]UbtW[  
20.6  迭代指令 408 \p%,g&^ x  
20.7  报表模版 408 wYLi4jYm  
20.8  开始设计一个报表模版 409 nhZ^`mP  
21  一个新的project 413 Op2@En|d  
21.1  创建一个新Job 414 b|KlWt'  
21.2  默认设计 415 td"D&1eQ@  
21.3  薄膜设计 416 Q 
eZg l!  
21.4  误差的灵敏度计算 420 z +NwGVk3  
21.5  显色指数计算 422 2YV*U_\L  
21.6  电场分布 424 P/e6b .M  
后记 426 aViZKps`m  
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po  
]8;2Oh   
书籍名称：《Essential Macleod中文手册》 )GC9%mF;  
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《Essential Macleod中文手册》 lCAD $Ia~  
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目  录 |Y")$pjz  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 ^0fe:ac;  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 (- QvlpZ  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 9-( \\$%  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 :)eU)r"s4  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 )U5Ba^"fI  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 WnkIi,<  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 ["65\GI?  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 2k]Jkd,E  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 dum(T  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 w$1B|7tX;2  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 XK=-$2n  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 r 1x2)  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 l =Is-N`  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 C>gC99  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 /ho7O/aAa  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 'Xb
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GJo`9  
价  格：400元