[培训]上海｜薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25（三）-27日（五） [复制链接]

特邀专家介绍 
kST
 

图片:w800

E8Wgm 8  
易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，研究生导师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 TNV#   
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 Mzxy'UV  
随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 5fBW#6N/  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 -pR1xsG  
1. Essential Macleod软件介绍 x3my8'h@  
1.1 介绍软件
Ip4SdbU  
1.2 创建一个简单的设计 '&}B"1  
1.3 绘图和制表来表示性能 @[S\ FjI  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 |&TRN1  
1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） D|n`9yv a  
1.6 特定设计的公式技术 /Et
:',D  
1.7 交互式绘图 >g6:{-b^a  
2. 光学薄膜理论基础 =GjxqIv  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 ~>
ACMO  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 P
Z;O pp  
3. 材料管理 /\_ s  
3.1 材料模型 j=d@Ih*  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 *Ta*0Fr=9|  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 E7axINca  
3.4 基板光学常数的提取 F/}PN1#T  
4. 光学薄膜设计优化方法 DP*[t8  
4.1 参考波长与g W$P)fPU'  
4.2 四分之一规则 |k>
_ jO  
4.3 导纳与导纳图 P$D1kcCw  
4.4 斜入射光学导纳 C=AX{sn  
4.5 光学薄膜设计的进展 y_8 8I:O  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 I"9S  
4.6.1 优化目标设置 Z
cv1%hI  
4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法） 9[B*CD|  
4.6.3 膜层锁定和链接 jQ_j#_Vle  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 1NT@}j~/  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 .t0Q>:}&b  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 a3037~X  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 ?E2/ CM  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 +B
%ZB9  
5.5 如何在Function中编写脚本 T.aY{Y  
6. 光学薄膜系统案例 -pc*$oe  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 %Sfew/"R0  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 X'WbS  
6.3 Stack应用范例说明 K9gfS V>]  
7. 薄膜性能分析 qI"@ PI!s  
7.1 电场分布 uQ{ &x6.1  
7.2 公差与灵敏度分析 Qg9 N?e{z  
7.3 反演工程 s&!g )  
7.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真 pl V]hu27K  
8. 真空技术 +=^10D  
8.1 常用真空泵介绍 X5527`?e  
8.2 真空密封和检漏 QkwBw^'_5  
9. 薄膜制备技术 PSNrY e  
9.1 常见薄膜制备技术 aDTNr/I  
10. 薄膜制备工艺 /WB^h6qg  
10.1 薄膜制备工艺因素 Ylll4w62N  
10.2 薄膜均匀性修正技术 Lu6!W  
10.3 光学薄膜监控技术 S=ebht=  
11. 激光薄膜 *K'(t  
11.1 薄膜的损伤问题 Y|g8xkI}XB  
11.2 激光薄膜的制备流程 sC48o'8(  
11.3 激光薄膜的制备技术 InM
F$pw  
12. 光学薄膜特性测量 a&p|>,
WS  
12.1 薄膜光谱测量 Lt.a@\J'_  
12.2 薄膜光学常数测量 kA{[k  
12.3 薄膜应力测量 \L(~50{(  
12.4 薄膜损伤测量 7g cr$&+e  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析内容简介 !&Vp5]c  
Macleod软件自带的用户手册功能全面，其介绍涵盖了软件的方方面面，能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而，为了顺应目前薄膜行业的需求，急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍，以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作，因此，我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 CYmwT>P+*4  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（原著第二版）是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结，结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod，其内容丰富，实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法，还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题，如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节，首先，从光学薄膜的基本理论出发（第2章），为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次，在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作，以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后，从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合，从而使大家将理论知识与实际经验结合起来，对实际镀膜提出实用的建议，以减少设计时间并降低生产成本。 r%JJ5Al.S  
薄膜光学涵盖范围很广，书中并附设计光盘和参考文献，有兴趣者可依此深入研究，为精准起见，在不影响理解的情况下，尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助，通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限，书中错误纰漏之处在所难免，本书若有不周之处，尚请读者不吝赐教。 ]i)m   
ogH{   
AF>J8V  
YgCJ s;  
目录 mTT1,|  
Preface 1 ?k]^?7GN  
内容简介 2 9H$#c_zrq  
目录 i Tf)qd\  
1  引言 1 x-,+skZs  
2  光学薄膜基础 2 )"2)r{7:  
2.1  一般规则 2 0~Z>}(  
2.2  正交入射规则 3 kqYWa`eE  
2.3  斜入射规则 6 o nt8
q8  
2.4  精确计算 7 &xo,49`!  
2.5  相干性 8 !v;N@C3C  
2.6 参考文献 10 F$y3oX  
3  Essential Macleod的快速预览 10 ~oy=2Q<Z  
4  Essential Macleod的特点 32 $014/IB  
4.1  容量和局限性 33 -/Pg[Lx7Pb  
4.2  程序在哪里？ 33 uT:'Kkb!  
4.3  数据文件 35 y_boJ  
4.4  设计规则 35 M?l/_!QB  
4.5  材料数据库和资料库 37 +e}v)N  
4.5.1材料损失 38 p'{B|ujj6  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 lZ
|+.T!g?  
4.5.2 材料库 41 GdHFgxI  
4.5.3导出材料数据 43 jD1/`g%  
4.6  常用单位 43 2
CcUClP$  
4.7  插值和外推法 46 m/@ ;N,K  
4.8  材料数据的平滑 50 Wu3or"lcw*  
4.9 更多光学常数模型 54 m:&go2Y  
4.10  文档的一般编辑规则 55 uF,F<%d  
4.11 撤销和重做 56 sG{fxha  
4.12  设计文档 57 L/\s~*:M  
4.10.1  公式 58 ZOJ<^
t}  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 @h7)M:l  
4.10.3  沉积密度 59 E><$sN6  
4.10.4 平行和楔形介质 60 nSY3=Edx=  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 3L}eFg,d  
4.10.4  性能 61 *-uA\  
4.10.5  保存设计和性能 64 q:h7Jik  
4.10.6  默认设计 64 U )kl!  
4.11  图表 64 LCBP9Rftvd  
4.11.1  合并曲线图 67 lTb4quf8I  
4.11.2  自适应绘制 68 Qw>~]d,Z  
4.11.3  动态绘图 68 O0^m_  
4.11.4  3D绘图 69 FQY{[QvF~  
4.12  导入和导出 73 >7g #e,d  
4.12.1  剪贴板 73 S7pf QF  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 pm
d
a9V4  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 %Q,6sH#  
4.13  背景 77 R!&9RvNw  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 XZ%3PMq  
4.15  生成Rugate 84 3yGo{uW  
4.16  参考文献 91 +;r1AR1)x  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 #aI(fQZe  
5.1  Jobs 92 xB5qX7*.  
5.2  创建一个新Job（工作） 93 lw+54lZX|  
5.3  输入材料 94 YV%y KD  
5.4  设计数据文件夹 95 p^.qwP\P  
5.5  默认设计 95 X$r5KJU
 
6  细化和合成 97
`JQw]\f4>  
6.1  优化介绍 97 M./1.k&@  
6.2  细化 (Refinement) 98 Ei>.e
XUD5  
6.3  合成 (Synthesis) 100 P^(uS'j)+  
6.4  目标和评价函数 101 u~rPqBT{d3  
6.4.1  目标输入 102 8'WoG]E_  
6.4.2  目标 103 ql/K$#u  
6.4.3  特殊的评价函数 104 {
CH5`&  
6.5  层锁定和连接 104 edai2O  
6.6  细化技术 104 i.Rxx, *?  
6.6.1  单纯形 105 K<wg-JgA  
6.6.1.1 单纯形参数 106 %-?k [DL6  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 "2 \},o9  
6.6.2.1 Optimac参数 108 #,[z}fq  
6.6.3  模拟退火算法 109 %Ev)Hk  
6.6.3.1　模拟退火参数 109 2CMWJi  
6.6.4  共轭梯度 111 CwjKz*
'[g  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 V36u%zdX5n  
6.6.5  拟牛顿法 112 vzX%x ul  
6.6.5.1 拟牛顿参数： 112 ]ZR}Pm/CA  
6.6.6  针合成 113 B_DyH C\<  
6.6.6.1 针合成参数 114 .R^R32ln  
6.6.7 差分进化 114 lvOM1I  
6.6.8非局部细化 115 rS>@>8k2,  
6.6.8.1非局部细化参数 115 nt:Z
O,C:R  
6.7  我应该使用哪种技术？ 116 \B4f5L8k  
6.7.1 　细化 116 9y'To
JZ6  
6.7.2　 合成 117 ]qb>O:T  
6.8  参考文献 117 ilRPV'S^  
7  导纳图及其他工具 118 A&N$=9.N1  
7.1  简介 118 B#]:1:Qn  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 {K N7Y"AI  
7.2.1  四分之一波长规则 119 Skl:~'W.&|  
7.2.2  导纳图 120 uK%0,!q  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 g es-nG-  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 :]icW^%  
7.5  斜入射导纳图 141 /z m+  
7.6  对称周期 141 #.<Dq8u  
7.7  参考文献 142 &t U&Z
H  
8  典型的镀膜实例 143 &E]<KbVx  
8.1  单层抗反射薄膜 145 Ts\PZQ!q  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 fBb:J+  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 Ip<~Y  
8.4  W-膜层 148 yxtfyf|9 '  
8.5  V-膜层 149 w1EB>!<;tj  
8.6  V-膜层高折射基底 150 e%km}m
A  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 |w"G4J6ha  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 *5u3d`bW  
8.9  四层抗反射薄膜 153 }#q0K  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154
naiQ$uq0  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 ~#jnkD  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 fh*7VuAc  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 |H(i)yu"5'  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 _'|C-j`u$  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 >Qqxn*O  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 6<%b}q9Mo  
8.17  1/4波长堆栈 162 )EK\3q  
8.18  陷波滤波器 163 4d_Az'7`4  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 HXN. ,[  
8.20  褶皱 165 aI>F8R?  
8.21  消偏振分光器1 169 _VB;
fH$  
8.22  消偏振分光器2 171
|['SiO$)  
8.23  消偏振立体分光器 172 G%junS'zt  
8.24  消偏振截止滤光片 173 KBoW(OP4'  
8.25  立体偏振分束器1 174 D;hJK-Y  
8.26  立方偏振分束器2 177 _H@8qR  
8.27  相位延迟器 178 SBaTbY0  
8.28  红外截止器 179 y(*5qa<>  
8.29  21层长波带通滤波器 180 IrIW>r} -  
8.30  49层长波带通滤波器 181 E#A}2|7,g  
8.31  55层短波带通滤波器 182 iL<FFN~{  
8.32  47 红外截止器 183 FzOlM-)m   
8.33  宽带通滤波器 184 qYPgn_  
8.34  诱导透射滤波器 186 sDvy(5  
8.35  诱导透射滤波器2 188 2J Wp5  
8.36  简单密集型光波复用（DWDM）滤波器 190 j*FpQiBoT  
8.37  高级密集型光波复用技术（DWDM）滤波器 192 BC85#sbl  
8.35  增益平坦滤波器 193
/uPMzl  
8.38  啁啾反射镜 1 196 @nnX{$YX  
8.39  啁啾反射镜2 198 ]M 2n%9  
8.40  啁啾反射镜3 199 'JO}6 ;W  
8.41  带保护层的铝膜层 200 "^ aSONz  
8.42  增加铝反射率膜 201 R2qz>kyyB  
8.43  参考文献 202 C,8@V`  
9  多层膜 204 4^*Z[6nt|  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 e +jp,>(v  
9.2  内部透过率 204 Odm1;\=Eg+  
9.3 内部透射率数据 205 kaRjv   
9.4  实例 206 -dw/wHf"  
9.5  实例2 210 "HLh3L~  
9.6  圆锥和带宽计算 212 gF]IAZCi  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 r!^VCA  
10  光学薄膜的颜色 216 ug/P>0  
10.1  导言 216 o9v.]tb  
10.2  色彩 216 2h)*  
10.3  主波长和纯度 220 bWZ
oGFT  
10.4  色相和纯度 221 fG<[zt\e  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 KhPDXY]!  
10.6 色差 226 `uc`vkVZ  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 SwO8d;e  
10.8  颜色渲染指数 234 VoyRB2t  
10.9  色差计算 235 PkOtg[Z  
10.10  参考文献 236 zR%)@
wh  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 2{G7ignv
 
11.1  短脉冲 238 yn2k!2]&T<  
11.2  群速度 239 xw*/8.Md6f  
11.3  群速度色散 241 L(/wsw~y*  
11.4  啁啾(chirped) 245 v){X&HbP  
11.5  光学薄膜—相变 245 r3Yf
Y\  
11.6  群延迟和延迟色散 246 2bf#L?5g/  
11.7  色度色散 246 "9RW<+  
11.8  色散补偿 249 5(DnE?}vo  
11.9  空间光线偏移 256 `J}FSUn\  
11.10  参考文献 258 bR=TGL&  
12  公差与误差 260 K&&YxX~3  
12.1  蒙特卡罗模型 260  P!/:yWd  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 PkK#HD  
12.2.1  误差工具 267 
xQ=L2pX  
12.2.2  灵敏度工具 271 ++}#pl8e  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 UvGX+M,z'  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 i,/Q.XL  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 ([h
d  
12.3  参考文献 276 /j:-GJb*!u  
13  Runsheet 与Simulator 277 UQ2;Dg G%  
13.1  原理介绍 277 mTa
^At"  
13.2  截止滤光片设计 277 Csm23QLsg)  
14  光学常数提取 289 wHErF #xo  
14.1  介绍 289 ZQ~EaI9R  
14.2  电介质薄膜 289 h-@_.&P0e  
14.3  n 和k 的提取工具 295 0urM@/j+  
14.4  基底的参数提取 302 Byns6k  
14.5  金属的参数提取 306 2J7JEv|  
14.6  不正确的模型 306 Z15b'^)?9  
14.7  参考文献 311 5{#ya2  
15  反演工程 313 ,)}-mu  
15.1  随机性和系统性 313 zQx7qx  
15.2  常见的系统性问题 314 `"|u NVn  
15.3  单层膜 314 j,g.Eo  
15.4  多层膜 314 h{Y#. j~aS  
15.5  含义 319 ;hPo5uZQ  
15.6  反演工程实例 319 +
'D
#VG  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 +C(/.X Kz%  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 |R>I#NO5  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 ?E7.x%n7X5  
16.1  光学性质的热致偏移 329 .w~zW*M0  
16.2  应力工具 335
Jz)c|8U  
16.3  均匀性误差 339 G6j9,#2@  
16.3.1  圆锥工具 339 o n?8l?iQ  
16.3.2  波前问题 341 }MV=t7x9+  
16.4  参考文献 343 w77"?kJ9X  
17  如何在Function（模块）中编写操作数 345 C AF{7 `{  
17.1  引言 345 3.I:`>;EO  
17.2  操作数 345 iLG~_Ob:  
18  如何在Function中编写脚本 351 o*|j}hnbv  
18.1  简介 351 Qtn%h:i S~  
18.2  什么是脚本？ 351 WUqfY?5  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 38O_PK  
18.4  基础 352 ZIM 5$JdCv  
18.4.1  Classes（类别） 352 Kg;1%J>ee  
18.4.2  对象 352 0~j0x#  
18.4.3  信息（Messages） 352 ZfN%JJ
Oz(  
18.4.4  属性 352 Tg.}rNA4  
18.4.5  方法 353 9!oNyqQ  
18.4.6  变量声明 353 NX:i]t  
18.5  创建对象 354 q/yL={H?  
18.5.1  创建对象函数 355 '#0'_9}  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 )}jXC4  
18.5.3 丢弃对象 356 _8"%nV  
18.5.4  总结 356 v}\Nx[}  
18.6  脚本中的表格 357 xA2"i2k9  
18.6.1  方法1 357 \LpR7D  
18.6.2  方法2 357 uVw|fT  
18.7 2D Plots in Scripts 358 !5K9L(gqb  
18.8 3D Plots in Scripts 359 2Fsv_t&*>  
18.9  注释 360 |Ptv)D  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 R7d45Wl  
18.11  一个更高级的脚本 362 *_7%n-k  
18.12  <esc>键 364 J-g<-!>RM  
18.13 包含文件 365 ULkhTB
  
18.14  脚本被优化调用 366 vMV}M%~  
18.15  脚本中的对话框 368 i>68gfx  
18.15.1  介绍 368 K=82fF(-  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 >HY( Ij<  
18.15.3  输入框函数 370 u4a(AB>S  
18.15.4  自定义对话框 371 Q4,!N(>D  
18.15.5  对话框编辑器 371 /2e&fxxD  
18.15.6  控制对话框 377 y
k|<P\  
18.15.7  更高级的对话框 380 gK8{=A0c  
18.16 Types语句 384 Q-}
yZ  
18.17 打开文件 385 Akbt%&  
18.18 Bags 387 69$[yt>KYz  
18.13  进一步研究 388 OWRT6R4v  
19  vStack 389 k*3F7']8  
19.1  vStack基本原理 389 <,!e*V*U  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 2=PX1kI  
19.3  五棱镜 393 $ RDwy)9  
19.4 光束距离 396 M &g1'zv?/  
19.5 误差 399 0qj:v"~Q  
19.6  二向分色棱镜 399 T!*lTzNHm  
19.7  偏振泄漏 404 \'gb{JO  
19.8  波前误差—相位 405 hY@rt,! 8  
19.9  其它计算参数 405 U\ Et  
20  报表生成器 406 eJJD'Z  
20.1  入门 406 W5^m[,GU'  
20.2  指令(Instructions) 406 <!s+X_^  
20.3  页面布局指令 406 :mwJJIjUW  
20.4  常见的参数图和三维图 407 n
M
1F4G  
20.5  表格中的常见参数 408 zMf.  
20.6  迭代指令 408 M;\iL?,  
20.7  报表模版 408 ""JTU6]MS  
20.8  开始设计一个报表模版 409 M(alc9tn  
21  一个新的project 413 ST#MCh-00  
21.1  创建一个新Job 414 ? %9-5"U[  
21.2  默认设计 415 WDC+Jmlgp  
21.3  薄膜设计 416 ebSG|F  
21.4  误差的灵敏度计算 420 &]'{N69@d?  
21.5  显色指数计算 422 +;P8QZK6  
21.6  电场分布 424 ;p!|E3o.  
后记 426 
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书籍名称：《Essential Macleod中文手册》 O"$uw  
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《Essential Macleod中文手册》 &?R2zfcM  
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目  录 Ca&5"aki  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 c&{1Z&Y  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 5v f?E"\r  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 ,F,\bp}  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 M?iU$qI  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 3 ?1qI'5  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 O]\6Pv@N  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 SM;*vkwz~  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 3 %ppvvQ  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 R aVOZ=^-  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 vU:FDkx*nn  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 /A8ua=Kn  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 csceu+IA  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 g ni=S~u  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 G% |$3  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 vr,8i7*0  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 tai=2,'  
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价  格：400元