[培训]上海｜薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25（三）-27日（五） [复制链接]

特邀专家介绍 H7{ 6t(0j  

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kL&^/([9  
易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，研究生导师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 jf})"fz-*  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 k_^d7yH  
随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 C[pAa8  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 c#l (~g$D+  
1. Essential Macleod软件介绍 eF2<L[9  
1.1 介绍软件 q<7Nz]Td  
1.2 创建一个简单的设计 @z2RMEC~  
1.3 绘图和制表来表示性能 H,uOshR  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 2=#O4k.@  
1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） ")LF;e  
1.6 特定设计的公式技术 c XY!b=9  
1.7 交互式绘图
Z|~<B4#c  
2. 光学薄膜理论基础 nmgW>U0jZh  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 ;[6u79;I  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 beq)Frn^  
3. 材料管理 doe[f_\  
3.1 材料模型 Ck[Z(=b$$:  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 xi.;`Q^#  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 E`'+1  
3.4 基板光学常数的提取 :Ct}||9/  
4. 光学薄膜设计优化方法 Z1>pOJm  
4.1 参考波长与g %;zA_Wg  
4.2 四分之一规则 KcSvf;sx  
4.3 导纳与导纳图 )`U T#5  
4.4 斜入射光学导纳 mB!81%f%|  
4.5 光学薄膜设计的进展 B[Tw0rQ  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 XL"e<P;t  
4.6.1 优化目标设置 *D\nsJ*g  
4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法） =|jOio=s:  
4.6.3 膜层锁定和链接 m=n V$H  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 4BCZ~_  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 ^%_LA't'R  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 ?n_Y_)9  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 =,(Ba'  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 O'p7^"M  
5.5 如何在Function中编写脚本 %i^%D  
6. 光学薄膜系统案例 $x 2t0@  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 F 6SIhf.;  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 d$>1 2>>  
6.3 Stack应用范例说明 5[;^Em)C  
7. 薄膜性能分析 K7y}R%QF  
7.1 电场分布 {^N=hI  
7.2 公差与灵敏度分析 sGzd c  
7.3 反演工程 6%5A&&O(b  
7.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真 "PuP J|  
8. 真空技术 U"ga0X5  
8.1 常用真空泵介绍 zS?L3*u  
8.2 真空密封和检漏 tnTr&o#  
9. 薄膜制备技术 ;)o%2#I  
9.1 常见薄膜制备技术 wlkS+$<  
10. 薄膜制备工艺 7-
(tTBH  
10.1 薄膜制备工艺因素 JM M\  
10.2 薄膜均匀性修正技术 i/WYjo  
10.3 光学薄膜监控技术 TeG
'cKz  
11. 激光薄膜 B]kz3FF  
11.1 薄膜的损伤问题 c[Y7tj%y  
11.2 激光薄膜的制备流程 6v.*%E*P  
11.3 激光薄膜的制备技术 8^HMK$  
12. 光学薄膜特性测量 R(hqBa/V  
12.1 薄膜光谱测量 |&C.P?q  
12.2 薄膜光学常数测量 v1;`.PWD  
12.3 薄膜应力测量 )+ S"`  
12.4 薄膜损伤测量 C~:aol i;  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析内容简介 *%g*Np_P  
Macleod软件自带的用户手册功能全面，其介绍涵盖了软件的方方面面，能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而，为了顺应目前薄膜行业的需求，急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍，以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作，因此，我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 E|ZY2&J`4  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（原著第二版）是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结，结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod，其内容丰富，实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法，还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题，如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节，首先，从光学薄膜的基本理论出发（第2章），为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次，在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作，以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后，从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合，从而使大家将理论知识与实际经验结合起来，对实际镀膜提出实用的建议，以减少设计时间并降低生产成本。 ogPxj KSI  
薄膜光学涵盖范围很广，书中并附设计光盘和参考文献，有兴趣者可依此深入研究，为精准起见，在不影响理解的情况下，尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助，通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限，书中错误纰漏之处在所难免，本书若有不周之处，尚请读者不吝赐教。 C YnBZ  
dp+wwNe  
<6Br]a60RR  
*S;v406  
目录 dmf~w_(7  
Preface 1 .*v8*8OJ&  
内容简介 2 %1e`R*I  
目录 i 8;+t.{  
1  引言 1 r$*k-c9Bf  
2  光学薄膜基础 2 ydBoZ3}  
2.1  一般规则 2 2< ^B]N  
2.2  正交入射规则 3 9B<y w.  
2.3  斜入射规则 6 Q:tW LVE#0  
2.4  精确计算 7 C[wnor!  
2.5  相干性 8 X8Gw8^t  
2.6 参考文献 10 Ei}B9 &O  
3  Essential Macleod的快速预览 10 Ma_! 1Y  
4  Essential Macleod的特点 32 +-xA/nU.c  
4.1  容量和局限性 33 B
Eu9gu  
4.2  程序在哪里？ 33 )D(XDN  
4.3  数据文件 35 hcM 0?=  
4.4  设计规则 35 pcL02W|J  
4.5  材料数据库和资料库 37 _:=w6jCk  
4.5.1材料损失 38 [7L1y) I(  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 ~!Onz wmO  
4.5.2 材料库 41 8qt|2%  
4.5.3导出材料数据 43 $] w&`F-  
4.6  常用单位 43 w_eLas%  
4.7  插值和外推法 46 |L0s  
4.8  材料数据的平滑 50 q"fK"H-j  
4.9 更多光学常数模型 54 $zDW)%nAX  
4.10  文档的一般编辑规则 55 u5%.T0 P  
4.11 撤销和重做 56 Lv#DIQ8y  
4.12  设计文档 57 
DUY#RJf  
4.10.1  公式 58 K2)),_,@5+  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 G4ZeO:r  
4.10.3  沉积密度 59 l6a,:*_  
4.10.4 平行和楔形介质 60 {8b6A~/  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 6rdm=8WFA  
4.10.4  性能 61 `/0X].s#o  
4.10.5  保存设计和性能 64 c1e7h l  
4.10.6  默认设计 64 5AQ $xm4  
4.11  图表 64 nwW`Q>+#U  
4.11.1  合并曲线图 67 ^d-`?zb  
4.11.2  自适应绘制 68 ;J2=6np  
4.11.3  动态绘图 68 7nfQ=?XNK  
4.11.4  3D绘图 69 5LXK#+Z  
4.12  导入和导出 73 {Pu\KRU  
4.12.1  剪贴板 73 4B!]%Mw;c  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 9%iqequ  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 a\^DthZ!;|  
4.13  背景 77 tNfku
 
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 HL
*jRl  
4.15  生成Rugate 84 f`H}Y!W(  
4.16  参考文献 91 P2f~sx9  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 !!dNp5h`  
5.1  Jobs 92 N2=gSEY  
5.2  创建一个新Job（工作） 93 eDIjcZ  
5.3  输入材料 94 Nqewtn9n  
5.4  设计数据文件夹 95 8V^gOUF.  
5.5  默认设计 95 rOH8W  
6  细化和合成 97  =DvnfT<  
6.1  优化介绍 97 Q]7r?nEEhW  
6.2  细化 (Refinement) 98 6BNOF66kH  
6.3  合成 (Synthesis) 100 D",ZrwyJ  
6.4  目标和评价函数 101 Cz m`5  
6.4.1  目标输入 102 lvcX}{>\  
6.4.2  目标 103 nA5v+d-<T  
6.4.3  特殊的评价函数 104 z2S53^C*  
6.5  层锁定和连接 104 8_m
dh+  
6.6  细化技术 104 HI)ks~E/  
6.6.1  单纯形 105 v!K%\h2A  
6.6.1.1 单纯形参数 106 Vz51=?75  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 Kx$?
IxZ  
6.6.2.1 Optimac参数 108 z`m-Ca>6  
6.6.3  模拟退火算法 109 B1J+`R3OX  
6.6.3.1　模拟退火参数 109 ~@MIG  
6.6.4  共轭梯度 111 9:4P7  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 2}'&38wMT  
6.6.5  拟牛顿法 112 03AYW)"}M  
6.6.5.1 拟牛顿参数： 112 xlv:+  
6.6.6  针合成 113 {_KuztJGA  
6.6.6.1 针合成参数 114 =`Nnd@3v  
6.6.7 差分进化 114 C5 ^_R  
6.6.8非局部细化 115 {Km|SG[-q  
6.6.8.1非局部细化参数 115
`L7 cS  
6.7  我应该使用哪种技术？ 116 bG;vl;C  
6.7.1 　细化 116 7H++ pOF  
6.7.2　 合成 117 Z9 }qds6 y  
6.8  参考文献 117 =}u;>[3  
7  导纳图及其他工具 118 }a-i
kFQ]  
7.1  简介 118 "EQ}xj  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 :KMo'pL  
7.2.1  四分之一波长规则 119 rOS fDv  
7.2.2  导纳图 120 k;l^wM  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 BqKD+  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 FxD\F  
7.5  斜入射导纳图 141 ?^5W.`Y2i  
7.6  对称周期 141 YtxBkKiJ2V  
7.7  参考文献 142 hFs0qPVY  
8  典型的镀膜实例 143 R qOEQ*k  
8.1  单层抗反射薄膜 145 V]`V3cy1+3  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 !fyE Hk  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 ;x|4Tm  
8.4  W-膜层 148 W^P%k:anK  
8.5  V-膜层 149 qm@c[b  
8.6  V-膜层高折射基底 150 GcHWalm  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 .ikFqZ$$  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 |#f P8OK  
8.9  四层抗反射薄膜 153 6@; w%Ea  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 x!]ZVl]  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 jKM-(s!(  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 DM~Q+C=Yr  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 ezC55nm  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 dcYUw]  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 RkP7}ZA;  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 t.485L%  
8.17  1/4波长堆栈 162 d\'M ~VQ  
8.18  陷波滤波器 163 0JKbp*H  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 ]%"Z[R   
8.20  褶皱 165 _H<ur?G  
8.21  消偏振分光器1 169 :q0C$xF  
8.22  消偏振分光器2 171 V92e#AR  
8.23  消偏振立体分光器 172 xGPt5l<M&  
8.24  消偏振截止滤光片 173 80c\O-{  
8.25  立体偏振分束器1 174 +twJHf_U  
8.26  立方偏振分束器2 177 8mV`|2>  
8.27  相位延迟器 178 YmNBtGhT  
8.28  红外截止器 179 }eULcgRG  
8.29  21层长波带通滤波器 180 j;J4]]R;o  
8.30  49层长波带通滤波器 181 qf(!3  
8.31  55层短波带通滤波器 182 {6a";Xj\e  
8.32  47 红外截止器 183 .'L@$]!G  
8.33  宽带通滤波器 184 SN\;&(
?G  
8.34  诱导透射滤波器 186 X;6&:%ZL@^  
8.35  诱导透射滤波器2 188 {SCwi;m  
8.36  简单密集型光波复用（DWDM）滤波器 190 JG0TbM1(Bt  
8.37  高级密集型光波复用技术（DWDM）滤波器 192 yngSD`b_P  
8.35  增益平坦滤波器 193 s:i$s")  
8.38  啁啾反射镜 1 196 ^A;v|U  
8.39  啁啾反射镜2 198 `SFI\Y+WDT  
8.40  啁啾反射镜3 199 9iUkvnphh  
8.41  带保护层的铝膜层 200 mY |$=n5X  
8.42  增加铝反射率膜 201 "<txg%j\J  
8.43  参考文献 202 |A[Le ;,  
9  多层膜 204 E.}T.
St  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 L+9a4/q  
9.2  内部透过率 204 r}pYm'e  
9.3 内部透射率数据 205 ^#vWdOlt  
9.4  实例 206 M)i2)]FS  
9.5  实例2 210 ERCW5b[RT  
9.6  圆锥和带宽计算 212 }#a
d  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 mWfzL'*  
10  光学薄膜的颜色 216 .y#@~H($  
10.1  导言 216 '!b1~+PV  
10.2  色彩 216 !xA;(<K[^  
10.3  主波长和纯度 220 `hY%<L sI  
10.4  色相和纯度 221 E{(7]Wri  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 G0xk @SE  
10.6 色差 226 X<vv:  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 B ,e3r  
10.8  颜色渲染指数 234 -YJ7ne]  
10.9  色差计算 235 Z  r  
10.10  参考文献 236 gM^ Hs7o,  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 x_s9DkX  
11.1  短脉冲 238 NIQNzq?a^  
11.2  群速度 239 w)5eD+n\-  
11.3  群速度色散 241 3{]csZvW  
11.4  啁啾(chirped) 245 5ju\!Re3X  
11.5  光学薄膜—相变 245 g()YP  
11.6  群延迟和延迟色散 246 [ !].G=8  
11.7  色度色散 246 vRVQ:fw  
11.8  色散补偿 249 ./rNq!*a  
11.9  空间光线偏移 256 OF2*zU7M  
11.10  参考文献 258 <t.yn\G-w  
12  公差与误差 260 T%VC$u4F  
12.1  蒙特卡罗模型 260 j1_CA5V
  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 bmGIxBRq  
12.2.1  误差工具 267 ZdY:I;)s  
12.2.2  灵敏度工具 271 }BzV<8F  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 .?@$Rd2@W  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 L:}hZf{p*  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 _r?H by<b  
12.3  参考文献 276 &Plc  
13  Runsheet 与Simulator 277 ![0\m2~iv  
13.1  原理介绍 277 G ZDyw9  
13.2  截止滤光片设计 277 !Hr~B.f7  
14  光学常数提取 289 dE%rQE7'  
14.1  介绍 289 zL+jlUkE
 
14.2  电介质薄膜 289 OtBVfA:[  
14.3  n 和k 的提取工具 295 zr-HL:js  
14.4  基底的参数提取 302 p
>Qzz`@e  
14.5  金属的参数提取 306 Xt_8=Q  
14.6  不正确的模型 306 7:)=  
14.7  参考文献 311 OT+=H)/  
15  反演工程 313 O>IY<]x>L  
15.1  随机性和系统性 313 ~*79rDs
{  
15.2  常见的系统性问题 314 C-V,3}=*2  
15.3  单层膜 314 !NuiVC]  
15.4  多层膜 314 )CD4k:bm  
15.5  含义 319 )R(kX
z=M  
15.6  反演工程实例 319 %-/[.DYt  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 x&@. [FJhO  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 0r*E$|
zZ  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 zn@<>o8hU  
16.1  光学性质的热致偏移 329 }~DlOvsq  
16.2  应力工具 335 )+OI}  
16.3  均匀性误差 339 mCb(B48]%X  
16.3.1  圆锥工具 339 a`  s2 z  
16.3.2  波前问题 341 ^Vso`(Ss  
16.4  参考文献 343 KLBU8%  
17  如何在Function（模块）中编写操作数 345 iVTC"v  
17.1  引言 345 NjrF":'Y  
17.2  操作数 345 l=GcgxD+"d  
18  如何在Function中编写脚本 351 ="Zr.g~8  
18.1  简介 351 p.A_,iE  
18.2  什么是脚本？ 351 Vzn0;  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 Qz=F nR  
18.4  基础 352 ;|}N\[fk%]  
18.4.1  Classes（类别） 352 WK)hj{k  
18.4.2  对象 352 L-? ?%_=  
18.4.3  信息（Messages） 352 ]V0V8fU|  
18.4.4  属性 352 kVz9}Xp"  
18.4.5  方法 353 *:gx1wd  
18.4.6  变量声明 353 ~_8
Dv<"a  
18.5  创建对象 354 6Ri+DPf:  
18.5.1  创建对象函数 355 4'upbI  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 >'ev_eAk  
18.5.3 丢弃对象 356 f>!)y-7  
18.5.4  总结 356 6?$yBu9l  
18.6  脚本中的表格 357 .ZQD`SRrI  
18.6.1  方法1 357 p!B&&)&db  
18.6.2  方法2 357 q!iTDg*$  
18.7 2D Plots in Scripts 358 gB|>[6  
18.8 3D Plots in Scripts 359 FjR/_GPo6  
18.9  注释 360 @6h,#8#  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 >9dzl#  
18.11  一个更高级的脚本 362 DcYL8u  
18.12  <esc>键 364 FnxPM`Zx  
18.13 包含文件 365 '2Q[g0VR  
18.14  脚本被优化调用 366 /S2lA>  
18.15  脚本中的对话框 368 9^;Cz>6s  
18.15.1  介绍 368 #NQpr  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 QTr)r;Tro  
18.15.3  输入框函数 370 k
b3>q($  
18.15.4  自定义对话框 371 epN>;e z  
18.15.5  对话框编辑器 371 uPCzs$R  
18.15.6  控制对话框 377 6$/Z.8  
18.15.7  更高级的对话框 380 kZ<0|b  
18.16 Types语句 384 Hi%)TDfv  
18.17 打开文件 385 dhrh "x_?:  
18.18 Bags 387 PWciD '!  
18.13  进一步研究 388 qlSI|@CO  
19  vStack 389 B|d-3\sn
 
19.1  vStack基本原理 389 ,5V w^@F  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 *.%z  
19.3  五棱镜 393 ]gjQy.c|  
19.4 光束距离 396 @}; vl  
19.5 误差 399 E? lK(C  
19.6  二向分色棱镜 399 TrCut2  
19.7  偏振泄漏 404 Fi+8|/5  
19.8  波前误差—相位 405 i4T=4q  
19.9  其它计算参数 405 Ic2Q<V}oq  
20  报表生成器 406 C)UL{n  
20.1  入门 406 [=<vapZt  
20.2  指令(Instructions) 406 Gh%R4)}  
20.3  页面布局指令 406 [}$jO,H5r  
20.4  常见的参数图和三维图 407 -al\*XDz  
20.5  表格中的常见参数 408 :j2?v(jT_l  
20.6  迭代指令 408 :2t0//@X  
20.7  报表模版 408 gn//]|#H+  
20.8  开始设计一个报表模版 409 5Ve`j,`=<  
21  一个新的project 413 *kYJwO^  
21.1  创建一个新Job 414 YCl&}/.pA  
21.2  默认设计 415 Mi~x(W@}3  
21.3  薄膜设计 416 3vXa#f>P<  
21.4  误差的灵敏度计算 420 IA%|OVAfF  
21.5  显色指数计算 422 -7Bg5{FA  
21.6  电场分布 424 ($nQmr;t  
后记 426 8Z|A'M  
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书籍名称：《Essential Macleod中文手册》 nsL"'iQ  
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《Essential Macleod中文手册》 o75l
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目  录 |LV}kG(2  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 ^HhV?Iqg  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 Sw.k
,p*r  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 oRo[WQl
a  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 bvW3[ V  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 LpK? C<?x  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 BOflhoUX  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 >,x&L[3  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 \@[Y~:  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 Sx:JuK@  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 lY&Sx{-  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 L35]'Jua  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 {uDH-b(R  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 BZQ"[-V{  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 }y1r yeW<  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 *Sg6VGP  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 ."Kp6s`k  
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价  格：400元