[培训]上海｜薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25（三）-27日（五） [复制链接]

特邀专家介绍 it@s(1EO#  
FB`HwE<  
易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，研究生导师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 f #14%?/  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 fq'Of wT  
随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 !h~\YE)  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 jrR~V* :k  
1. Essential Macleod软件介绍 R _%pR_\  
1.1 介绍软件 3lqhjA  
1.2 创建一个简单的设计 <R$|J|  
1.3 绘图和制表来表示性能 f]ef 1#  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 7+bzCDKU  
1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） dLq!t@?iu>  
1.6 特定设计的公式技术 ~%ZO8X:^  
1.7 交互式绘图 OZD/t(4?6s  
2. 光学薄膜理论基础 qZ.\GHS  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 mdd~B2"el  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 ]SI`fja/  
3. 材料管理 Nx"?'-3Hm  
3.1 材料模型 xN]bRr  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 ?.H*!u+9>  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 ,&$Y2+  
3.4 基板光学常数的提取 9UZX+@[F  
4. 光学薄膜设计优化方法 J.*=7zmw  
4.1 参考波长与g %F7k| Na  
4.2 四分之一规则 %9K@`v-  
4.3 导纳与导纳图 ScD9Ct*):C  
4.4 斜入射光学导纳 >4c 1VEi  
4.5 光学薄膜设计的进展 v3B ^d}+.  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 _\6-]   
4.6.1 优化目标设置 bYz:gbs]4|  
4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法） Z,z^[Jz  
4.6.3 膜层锁定和链接 !Kis,e  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 QB7<$Bp  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 F=#Wfl-o  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 f"Z2&Y@  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 '"&?u8u)  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 b#F3,T__`Y  
5.5 如何在Function中编写脚本 ?$?Ni)Z  
6. 光学薄膜系统案例 3f
3?%9  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 9M6&+1XE  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 _Cs.%R!r  
6.3 Stack应用范例说明 nsPM`dz/  
7. 薄膜性能分析 \,WPFV  
7.1 电场分布 Je/R'QP^8  
7.2 公差与灵敏度分析 A[oRi}=  
7.3 反演工程 IpWl;i`__  
7.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真 b#b#r  
8. 真空技术 j<c_*^/'9  
8.1 常用真空泵介绍 ("{'],>  
8.2 真空密封和检漏 x
n-n{U"  
9. 薄膜制备技术 B
\Uj  
9.1 常见薄膜制备技术 ~Oq(JM $M  
10. 薄膜制备工艺 ]k hY8it  
10.1 薄膜制备工艺因素 Dbgw)n*2  
10.2 薄膜均匀性修正技术 7}Gy%SJ`  
10.3 光学薄膜监控技术 4x:fOhtP  
11. 激光薄膜 *+ 7#z;
  
11.1 薄膜的损伤问题 N;htKcZ  
11.2 激光薄膜的制备流程 t((0]j^
 
11.3 激光薄膜的制备技术 _jtBU  
12. 光学薄膜特性测量 /+rHy7(\  
12.1 薄膜光谱测量 js{ RaR=  
12.2 薄膜光学常数测量 uB%`Bx'OW  
12.3 薄膜应力测量 Y!5-WXH  
12.4 薄膜损伤测量 DV.m({?  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析内容简介 "G<^@v9  
Macleod软件自带的用户手册功能全面，其介绍涵盖了软件的方方面面，能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而，为了顺应目前薄膜行业的需求，急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍，以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作，因此，我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 @=$;^}JS|  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（原著第二版）是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结，结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod，其内容丰富，实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法，还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题，如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节，首先，从光学薄膜的基本理论出发（第2章），为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次，在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作，以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后，从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合，从而使大家将理论知识与实际经验结合起来，对实际镀膜提出实用的建议，以减少设计时间并降低生产成本。 xHf l>C'  
薄膜光学涵盖范围很广，书中并附设计光盘和参考文献，有兴趣者可依此深入研究，为精准起见，在不影响理解的情况下，尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助，通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限，书中错误纰漏之处在所难免，本书若有不周之处，尚请读者不吝赐教。 'p<(6*,"  
z2r{AQ.&  
4FYws5]$  
s>kzt1,x  
目录 q|S }5  
Preface 1 NJ|8##Z>  
内容简介 2 km *$;Nli  
目录 i smSUo/  
1  引言 1 @6\8&(|  
2  光学薄膜基础 2 Gv<K#@9T  
2.1  一般规则 2 Pd>hd0!.%  
2.2  正交入射规则 3 2 Y%$6NX  
2.3  斜入射规则 6 V97Eb>@  
2.4  精确计算 7 !
dZC-U~  
2.5  相干性 8 !fZxK CsQ  
2.6 参考文献 10 =l {>-`:  
3  Essential Macleod的快速预览 10 t/HE@xPxI5  
4  Essential Macleod的特点 32 'peFT[1>(  
4.1  容量和局限性 33 8}4V
$b`Z  
4.2  程序在哪里？ 33 aaLT%  
4.3  数据文件 35 3^8%/5$v  
4.4  设计规则 35 Pj^6.f+  
4.5  材料数据库和资料库 37 Ur_~yX]Mo  
4.5.1材料损失 38 ibEQ52  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 #*5A]"k  
4.5.2 材料库 41 /KH3v!G0  
4.5.3导出材料数据 43 |ONkRxr@!  
4.6  常用单位 43 |06G)r&  
4.7  插值和外推法 46 Fe8xOo6  
4.8  材料数据的平滑 50 A07FjT5w8  
4.9 更多光学常数模型 54 i: 1V\q%  
4.10  文档的一般编辑规则 55 oveW)~4  
4.11 撤销和重做 56 wF}/7b54  
4.12  设计文档 57 [9X1;bO#f  
4.10.1  公式 58 \!`*F:7]-  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 jytfGE:  
4.10.3  沉积密度 59 wuI+$?  
4.10.4 平行和楔形介质 60 [@Y?'={qE  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 iYR8sg[' #  
4.10.4  性能 61 '\P6NszY~  
4.10.5  保存设计和性能 64
^,@Rd\q  
4.10.6  默认设计 64 7h,SX]4Q  
4.11  图表 64 a>6!?:Rj  
4.11.1  合并曲线图 67 m;k' j@:  
4.11.2  自适应绘制 68 //g~1(  
4.11.3  动态绘图 68 YaDr6)  
4.11.4  3D绘图 69 g?)9zJ9  
4.12  导入和导出 73 Jva&"}Cb  
4.12.1  剪贴板 73 Busxg?=  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 0fwo8NgX  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 J1hc :I<;  
4.13  背景 77 +!CG'qyN>  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 c=h{^![$  
4.15  生成Rugate 84 "4zTP!Ow  
4.16  参考文献 91 nTyKZ(#u  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 nz~3o
  
5.1  Jobs 92 ',v -&1R  
5.2  创建一个新Job（工作） 93  5'Y @c  
5.3  输入材料 94 ZF>zzi+@  
5.4  设计数据文件夹 95 ,a_\o&V  
5.5  默认设计 95 H4MFTnJ{  
6  细化和合成 97 hVd% jU:  
6.1  优化介绍 97 Yc&y
v  
6.2  细化 (Refinement) 98 KYZ/b8C  
6.3  合成 (Synthesis) 100 kO+Y5z6=  
6.4  目标和评价函数 101 i.C+{QH  
6.4.1  目标输入 102 \IQf|  
6.4.2  目标 103 h:}oUr8  
6.4.3  特殊的评价函数 104 K]1A,Q  
6.5  层锁定和连接 104 TkM8GK-3  
6.6  细化技术 104 C5c@@ch :  
6.6.1  单纯形 105 #"|</*%>  
6.6.1.1 单纯形参数 106 (3C::B=  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 Ivmiz{Oii  
6.6.2.1 Optimac参数 108 An{`'U(l  
6.6.3  模拟退火算法 109 OTY9Q  
6.6.3.1　模拟退火参数 109 T8bk\\Od  
6.6.4  共轭梯度 111 7jQOwzj  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 ]6bh#N;.  
6.6.5  拟牛顿法 112 !?,7Cu.5#6  
6.6.5.1 拟牛顿参数： 112 ZEYT17g]  
6.6.6  针合成 113 Gb4k5jl  
6.6.6.1 针合成参数 114 Z%E;*R2+:>  
6.6.7 差分进化 114 8M<q-sn4B  
6.6.8非局部细化 115 c|.~f+  
6.6.8.1非局部细化参数 115 dkVF  
6.7  我应该使用哪种技术？ 116 i7_Nv
 
6.7.1 　细化 116 B4Ko,=pg  
6.7.2　 合成 117 JR] /\(  
6.8  参考文献 117 1qp<Fz[  
7  导纳图及其他工具 118 >4 4A  
7.1  简介 118 CoO..  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 A)/8j2  
7.2.1  四分之一波长规则 119 XHKiz2Pc1  
7.2.2  导纳图 120 K%h9'}pq>1  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 FrT.<3  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 '#LbIv4  
7.5  斜入射导纳图 141 ZfsM($|a  
7.6  对称周期 141 z~fZg6  
7.7  参考文献 142 #bc$[%_  
8  典型的镀膜实例 143 C-O~Oil  
8.1  单层抗反射薄膜 145 ,<Zu4bww  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 wFI2(cQ  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 -5B>2K F  
8.4  W-膜层 148 5#|D1A  
8.5  V-膜层 149 ;n]GHqzY_  
8.6  V-膜层高折射基底 150 V{4=,Ax  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 %Z_/
MNI  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 OCHjQc  
8.9  四层抗反射薄膜 153 {| ~  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 5ar2Y$bY  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 Ck.LsL-  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 Sp/t[\,'  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 r:;nv D  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 T-,T)R`R  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 6bPoC$<Z  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 sT8(f=^)8F  
8.17  1/4波长堆栈 162 {&7%wZ"t_  
8.18  陷波滤波器 163 bvn%E H  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 jEU`ko_  
8.20  褶皱 165 9lXjB_wG>  
8.21  消偏振分光器1 169 >2vUFq`H  
8.22  消偏振分光器2 171 .Z?@;2<l  
8.23  消偏振立体分光器 172 8k~$_AT>u  
8.24  消偏振截止滤光片 173 <KY \sb9  
8.25  立体偏振分束器1 174 ZW+M<G  
8.26  立方偏振分束器2 177 Q+bZZMK5,U  
8.27  相位延迟器 178 0ndk=V  
8.28  红外截止器 179 @G'&7-(h*  
8.29  21层长波带通滤波器 180 p}}pq~EH/  
8.30  49层长波带通滤波器 181 0SS,fs<w3  
8.31  55层短波带通滤波器 182 9d kuvk}:  
8.32  47 红外截止器 183 =f~8"j  
8.33  宽带通滤波器 184 qe
^d6  
8.34  诱导透射滤波器 186 80m<OW1  
8.35  诱导透射滤波器2 188 xD.Uh}:J  
8.36  简单密集型光波复用（DWDM）滤波器 190 2><=U7~  
8.37  高级密集型光波复用技术（DWDM）滤波器 192 2bv/-^  
8.35  增益平坦滤波器 193 Cj/J&PDQ  
8.38  啁啾反射镜 1 196 1PGY/c  
8.39  啁啾反射镜2 198 Q+<{2oVz  
8.40  啁啾反射镜3 199 &JUHm_wd&S  
8.41  带保护层的铝膜层 200 :<}1as!eo  
8.42  增加铝反射率膜 201 [d dKC)tA  
8.43  参考文献 202 v[l={am{/  
9  多层膜 204 ccR#<Pb6q  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 OkNBP0e}  
9.2  内部透过率 204 #!.26RM:P  
9.3 内部透射率数据 205
WNnB s  
9.4  实例 206 qQN|\u+co  
9.5  实例2 210 Z-U-n/6I  
9.6  圆锥和带宽计算 212 ]`+J!G,  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 bT>1S2s  
10  光学薄膜的颜色 216 VZz>)Kz:  
10.1  导言 216 Q$bi:EyJXc  
10.2  色彩 216 ]nIH0k3y  
10.3  主波长和纯度 220 f[ 'uka.U  
10.4  色相和纯度 221 tRtoA5  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 OK]_.v}  
10.6 色差 226 3aY^6&  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 #jqcUno  
10.8  颜色渲染指数 234 8el\M/u{  
10.9  色差计算 235 HuI?kLfj\  
10.10  参考文献 236 1Zo"Xb  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 0PP5qeqN2n  
11.1  短脉冲 238 F[@M?  
11.2  群速度 239 D$?}M>  
11.3  群速度色散 241 DS|HN
 
11.4  啁啾(chirped) 245 vk><S|[n  
11.5  光学薄膜—相变 245 dy' J~Eo7  
11.6  群延迟和延迟色散 246 >OxSrc@A  
11.7  色度色散 246 w}rsboU  
11.8  色散补偿 249 Cs2F/M'  
11.9  空间光线偏移 256 Gnthz0\]{  
11.10  参考文献 258 }!_o
fe  
12  公差与误差 260 vT=?U
Tq  
12.1  蒙特卡罗模型 260 S_ER^Pkg  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 #S|DoeFs  
12.2.1  误差工具 267 =O o4O CF2  
12.2.2  灵敏度工具 271 .,*68S0k7  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 b#[EkI 0@  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 5H^"  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 MszX9wl  
12.3  参考文献 276 &:?2IAe  
13  Runsheet 与Simulator 277 JwNB)e D  
13.1  原理介绍 277 y[A%EMd
  
13.2  截止滤光片设计 277 O<>cuW(l  
14  光学常数提取 289 vuoD~=z  
14.1  介绍 289 b haYbiX?  
14.2  电介质薄膜 289 TbQ5  
14.3  n 和k 的提取工具 295 *l.tsICmbP  
14.4  基底的参数提取 302 [bh8Nj\E  
14.5  金属的参数提取 306 G~X93J  
14.6  不正确的模型 306 i"R
Bk%  
14.7  参考文献 311 t3 rQ5m
 
15  反演工程 313 ;^DG P  
15.1  随机性和系统性 313 W[SZZV_(tu  
15.2  常见的系统性问题 314 7^FJ+gN8b  
15.3  单层膜 314 mx=2lL`  
15.4  多层膜 314 Oe)B.{;Ph  
15.5  含义 319 6k
+4R<  
15.6  反演工程实例 319 /v-:ca)7mI  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 u` L9Pj&v  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 n\w2e_g;N  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 1+ib(MJ<:#  
16.1  光学性质的热致偏移 329 Ftw;T|  
16.2  应力工具 335 `|`Qrv4}  
16.3  均匀性误差 339 J.Fy0W@+k4  
16.3.1  圆锥工具 339 2H9;4>ss  
16.3.2  波前问题 341 dxi5p!^^9  
16.4  参考文献 343 kNk$[Yfs  
17  如何在Function（模块）中编写操作数 345 COc t d  
17.1  引言 345 ]9PQKC2&  
17.2  操作数 345 $I
|6v  
18  如何在Function中编写脚本 351 sLze/D_M*  
18.1  简介 351 rWULv  
18.2  什么是脚本？ 351 2Fc>6]:*  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 [Ol~}@gV  
18.4  基础 352 LK:Jkjp^  
18.4.1  Classes（类别） 352 ;hb_jW-0W  
18.4.2  对象 352 3R& FzLs  
18.4.3  信息（Messages） 352 C8W4~~1S  
18.4.4  属性 352 ;"w?@ELE  
18.4.5  方法 353 =;(y5c  
18.4.6  变量声明 353 11YpC;[o  
18.5  创建对象 354 3%L@=q  
18.5.1  创建对象函数 355 bw8[L;~%_  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 I%M"I0FV  
18.5.3 丢弃对象 356 <c.8f;1F  
18.5.4  总结 356 N%Uk/ c'  
18.6  脚本中的表格 357 $2w][ d1  
18.6.1  方法1 357 !g7lJ\
B  
18.6.2  方法2 357 {'a
|$u+  
18.7 2D Plots in Scripts 358 uD4j.%  
18.8 3D Plots in Scripts 359 qAW?\*n5N  
18.9  注释 360 5>\~jf  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 S!8gy,7<J  
18.11  一个更高级的脚本 362 `e4gneQY  
18.12  <esc>键 364 Fk#$@^c@  
18.13 包含文件 365 e#odr{2#4u  
18.14  脚本被优化调用 366 0b(x@>
 
18.15  脚本中的对话框 368 8/s?Gz  
18.15.1  介绍 368 O)$Pvll  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 y$y!{R@   
18.15.3  输入框函数 370 +SNjU"x  
18.15.4  自定义对话框 371 'h87A-\!F  
18.15.5  对话框编辑器 371 ({0:1*lF@  
18.15.6  控制对话框 377 K_ Odu^  
18.15.7  更高级的对话框 380 W2BZG(dm  
18.16 Types语句 384 bbs'>D3  
18.17 打开文件 385 Seh(G  
18.18 Bags 387 =/Ph]f9  
18.13  进一步研究 388 2 9#jKh  
19  vStack 389 P09f  
19.1  vStack基本原理 389 _=_<cgy1u  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 26ae|2?  
19.3  五棱镜 393 Sjp
]TWj  
19.4 光束距离 396 vYg>^!Q  
19.5 误差 399 u{&#Gci  
19.6  二向分色棱镜 399 #QNa| f#=  
19.7  偏振泄漏 404 +Ze;BKZ3  
19.8  波前误差—相位 405 xmi@ XL@t  
19.9  其它计算参数 405 ^X;p8uBo  
20  报表生成器 406 ]$i@^3`[w  
20.1  入门 406 ~L4L|q 7  
20.2  指令(Instructions) 406 Z
;y(D_;_  
20.3  页面布局指令 406 >%H(0G#X  
20.4  常见的参数图和三维图 407 ,c,@WQ2
:-  
20.5  表格中的常见参数 408 B \LmE+a>  
20.6  迭代指令 408 l[<U UEjZJ  
20.7  报表模版 408 8d7 NESYl  
20.8  开始设计一个报表模版 409 \Oxyc}&  
21  一个新的project 413 s_}`TejK  
21.1  创建一个新Job 414 :-Ml?:0_X  
21.2  默认设计 415
>hY.F/[  
21.3  薄膜设计 416 e2yCWolmTS  
21.4  误差的灵敏度计算 420 r+k g$+%b  
21.5  显色指数计算 422 xqb*;TBh*  
21.6  电场分布 424 SuXeUiK.[  
后记 426 8Si3 aq3  
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Y_ii  
20# V?hX3  
书籍名称：《Essential Macleod中文手册》 !/e*v>3u&  
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《Essential Macleod中文手册》 *-*SCA`E^=  
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目  录 On|b-  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 [HI$[:[  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 ^J;rW3#N8  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 5^K\<+{~B  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 GvZ[3GT  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 Zo,066'+[.  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 'Y.6sB  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 #{?~XS  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 {[
3xi`0-  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 pp{2[>  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 _+X-D9j(l  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 THARr#1b};  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 [+_>g4M~%  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 "n_X4e+18P  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 u 7:Iv  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 Nz}PcWF/  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 FA+"t^q  
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价  格：400元