[培训]上海｜薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25（三）-27日（五） [复制链接]

特邀专家介绍 [d}1Cq=_  
8Sa<I.l  
易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，研究生导师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 3i1>EjML  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 |V5H(2/nk  
随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 ljRR  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 :csLZqn[  
1. Essential Macleod软件介绍 %,BJkNV  
1.1 介绍软件 K9iR>put  
1.2 创建一个简单的设计 8?!Vr1x  
1.3 绘图和制表来表示性能 W:G*t4i  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 #Bjnz$KB  
1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） l0f6Lxfz  
1.6 特定设计的公式技术 +$C5V,H~  
1.7 交互式绘图 Y`v&YcX;  
2. 光学薄膜理论基础 3ly|y{M",  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 BN0))p  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 _'Z@ < ,L  
3. 材料管理 \uH;ng|m  
3.1 材料模型 FrS>.!OFn  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 v?rN;KY#pK  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 L '=3y$"],  
3.4 基板光学常数的提取 d>f5Tl\E  
4. 光学薄膜设计优化方法 qdhD6#r  
4.1 参考波长与g "cZ.86gG`:  
4.2 四分之一规则 Q6E80>  
4.3 导纳与导纳图 9j/B3CjW  
4.4 斜入射光学导纳 ul E\>5O4h  
4.5 光学薄膜设计的进展 /}wGmX! -!  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 8oK30?  
4.6.1 优化目标设置 Y|",.~  
4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法） ^B<jMt  
4.6.3 膜层锁定和链接 PeOgXg)L`z  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 Y (Q8P{@(  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 gyIPG2d  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 #*fB~Os:  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 ufmFeeg  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 6xwC1V?:0t  
5.5 如何在Function中编写脚本 v?}/WKe+0  
6. 光学薄膜系统案例 TAP/gN'  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 \|kU{d0  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 SRMy#j-  
6.3 Stack应用范例说明 / wEr>[8S  
7. 薄膜性能分析 JP#m}W  
7.1 电场分布 `#~@f!';  
7.2 公差与灵敏度分析 !HFwQGP.Y  
7.3 反演工程 .d;/6HD[y  
7.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真 `eA0Z:`g!  
8. 真空技术 T ^uBMDYe  
8.1 常用真空泵介绍 3=z'Ih`  
8.2 真空密封和检漏 vg<_U&N=-r  
9. 薄膜制备技术 Bi]%bl>%  
9.1 常见薄膜制备技术 ,MdCeA%`  
10. 薄膜制备工艺 3.soCyxmc  
10.1 薄膜制备工艺因素 eb7`R81G  
10.2 薄膜均匀性修正技术 =^6]N~*,D  
10.3 光学薄膜监控技术 rz4S"4  
11. 激光薄膜 7l?-2I'c  
11.1 薄膜的损伤问题
%"o4IYV#  
11.2 激光薄膜的制备流程 fV3J:^)F
 
11.3 激光薄膜的制备技术 +K&ze:-Z  
12. 光学薄膜特性测量 #+XKfumLk  
12.1 薄膜光谱测量 K}6}Opr,Tt  
12.2 薄膜光学常数测量 tP`,Egf"g  
12.3 薄膜应力测量 h)sc-e
 
12.4 薄膜损伤测量 VXC_Y  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析内容简介 dP )YPy_`  
Macleod软件自带的用户手册功能全面，其介绍涵盖了软件的方方面面，能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而，为了顺应目前薄膜行业的需求，急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍，以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作，因此，我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 WKP=[o^  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（原著第二版）是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结，结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod，其内容丰富，实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法，还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题，如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节，首先，从光学薄膜的基本理论出发（第2章），为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次，在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作，以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后，从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合，从而使大家将理论知识与实际经验结合起来，对实际镀膜提出实用的建议，以减少设计时间并降低生产成本。 <[(xGrEZV  
薄膜光学涵盖范围很广，书中并附设计光盘和参考文献，有兴趣者可依此深入研究，为精准起见，在不影响理解的情况下，尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助，通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限，书中错误纰漏之处在所难免，本书若有不周之处，尚请读者不吝赐教。 =VDN9-/.  
iYFM@ta  
LqW~QEU(  
_bW#* Y5  
目录 %ePInpb  
Preface 1 J-=&B5"O>  
内容简介 2 ! @|"84  
目录 i w}+j
fO9  
1  引言 1 hD sFsG  
2  光学薄膜基础 2 :[!rj  
2.1  一般规则 2 uV{cvq$jy  
2.2  正交入射规则 3 znD0&CS9q  
2.3  斜入射规则 6 od
$Cm5  
2.4  精确计算 7 RxcX\:  
2.5  相干性 8 l{6fR(d
?  
2.6 参考文献 10 PE-VxRN)  
3  Essential Macleod的快速预览 10 Y'58.8hl  
4  Essential Macleod的特点 32 ^dRB(E}|)  
4.1  容量和局限性 33 UkeX">  
4.2  程序在哪里？ 33 T2GJoJ!  
4.3  数据文件 35 zGA#7W2?0  
4.4  设计规则 35 iWO16=  
4.5  材料数据库和资料库 37 t '* L,  
4.5.1材料损失 38 `N;JM3 ck  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 E<Efxb'p  
4.5.2 材料库 41 *IfLoKS'  
4.5.3导出材料数据 43 y3kXfSe  
4.6  常用单位 43 :D;BA  
4.7  插值和外推法 46 Z sv(/>  
4.8  材料数据的平滑 50 r3;?]r.}7  
4.9 更多光学常数模型 54 6ID@0  
4.10  文档的一般编辑规则 55 K '7M\:zy  
4.11 撤销和重做 56 b@"#A8M  
4.12  设计文档 57 +uLl3(ml  
4.10.1  公式 58 }mz@oEB#vF  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 m>DBO
|`  
4.10.3  沉积密度 59
\'x.DVp  
4.10.4 平行和楔形介质 60 K8daSvc  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 274F+X  
4.10.4  性能 61 OjFB_ N  
4.10.5  保存设计和性能 64 H+6+I
53  
4.10.6  默认设计 64 /5pVzv+rm  
4.11  图表 64 Onz@A"  
4.11.1  合并曲线图 67 ZuH@qq\  
4.11.2  自适应绘制 68 ?t46TV'G  
4.11.3  动态绘图 68 S8 .1%sw  
4.11.4  3D绘图 69 )lwxFP;  
4.12  导入和导出 73 \AQ*T`Dq  
4.12.1  剪贴板 73 RR
|Z,  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 gLy1*k4  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 N"L@  
4.13  背景 77 =*>ri  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 e#BxlC  
4.15  生成Rugate 84 9#cPEbb~  
4.16  参考文献 91 g:8k,1y5  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 %OE (?~dq  
5.1  Jobs 92 Vq4g#PcG  
5.2  创建一个新Job（工作） 93 c'O"</  
5.3  输入材料 94 bWv2*XC  
5.4  设计数据文件夹 95 'A2^K5`3  
5.5  默认设计 95 (J}tCqP  
6  细化和合成 97 S+2we  
6.1  优化介绍 97 _D.4=2@|l8  
6.2  细化 (Refinement) 98 E7mB=bt>=  
6.3  合成 (Synthesis) 100 x`n7D  
6.4  目标和评价函数 101  r"YOA@  
6.4.1  目标输入 102 p.)IdbC`B  
6.4.2  目标 103 P.#@1_:gC  
6.4.3  特殊的评价函数 104 @KJ~M3d0l  
6.5  层锁定和连接 104 ~'lYQ[7  
6.6  细化技术 104 pm` f?
Py  
6.6.1  单纯形 105 JIL(\d  
6.6.1.1 单纯形参数 106 .:r l<.  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 zPm|
$d  
6.6.2.1 Optimac参数 108 wjy<{I  
6.6.3  模拟退火算法 109 Xnc?o
T+  
6.6.3.1　模拟退火参数 109 f0M5^  
6.6.4  共轭梯度 111 :yxP3e%rp  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 yd|ao\'=  
6.6.5  拟牛顿法 112 <~z@GMQCf  
6.6.5.1 拟牛顿参数： 112 L5DeLF+  
6.6.6  针合成 113 e5 N$+P"
 
6.6.6.1 针合成参数 114 vFwhe
!  
6.6.7 差分进化 114 i4Da'Uk  
6.6.8非局部细化 115 Bi-x gq'z  
6.6.8.1非局部细化参数 115 JO-FnoQK  
6.7  我应该使用哪种技术？ 116 s+0n0C  
6.7.1 　细化 116 yByxy-~  
6.7.2　 合成 117 <5O:jd  
6.8  参考文献 117 {c}n."`  
7  导纳图及其他工具 118 PjE%_M<  
7.1  简介 118 )6b`1o!7  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 TdeHs{|  
7.2.1  四分之一波长规则 119 WU\Bs2  
7.2.2  导纳图 120 l3N '@GO  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 lK Ry4~O  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 -[}AhNYK  
7.5  斜入射导纳图 141 HC!5AJ&+}v  
7.6  对称周期 141 U{52bH<  
7.7  参考文献 142 o)WzZ,\F^J  
8  典型的镀膜实例 143 s{uSU1lQn  
8.1  单层抗反射薄膜 145 0u}+n+\g  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 lk
4U/:  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 7hlzuZob+y  
8.4  W-膜层 148 E>c*A40=.n  
8.5  V-膜层 149 b Bkg/p]  
8.6  V-膜层高折射基底 150 f]NaQ!. 7  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 L'HO"EZFj  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 ^XT;n  
8.9  四层抗反射薄膜 153 T s9go  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 ?>Bt|[p:s)  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 /lLG
|aAe  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 6 m%/3>q  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 1VA%xOURh  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 L-`?=- 9`  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 8a;;MJ)  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 Ow0(q^H<  
8.17  1/4波长堆栈 162 <YAs0  
8.18  陷波滤波器 163 th|'t}bWV  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 )1/J5DI @8  
8.20  褶皱 165 jwp?eL!7  
8.21  消偏振分光器1 169 CqLAtS X7  
8.22  消偏振分光器2 171 _iH:>2p5R  
8.23  消偏振立体分光器 172 ^f] 9^U{  
8.24  消偏振截止滤光片 173 wV q4DE  
8.25  立体偏振分束器1 174 %GigRA@no  
8.26  立方偏振分束器2 177 eB_ M *+^  
8.27  相位延迟器 178
s+9b.  
8.28  红外截止器 179 _|>bOI  
8.29  21层长波带通滤波器 180 4oPr|OKj{*  
8.30  49层长波带通滤波器 181 >mMmc!u>G  
8.31  55层短波带通滤波器 182 :0% $u>;O:  
8.32  47 红外截止器 183 uA%cie  
8.33  宽带通滤波器 184 42Cc`a%U  
8.34  诱导透射滤波器 186 ,-V7~gM%}  
8.35  诱导透射滤波器2 188 \|7Y"WEQ  
8.36  简单密集型光波复用（DWDM）滤波器 190 qf*e2"~v  
8.37  高级密集型光波复用技术（DWDM）滤波器 192 ^.>XDUO F  
8.35  增益平坦滤波器 193 8Yw V"+Fu/  
8.38  啁啾反射镜 1 196 /t04}+,e^  
8.39  啁啾反射镜2 198 gmCB4MO  
8.40  啁啾反射镜3 199 Ym wb2]M  
8.41  带保护层的铝膜层 200 SJO^.[  
8.42  增加铝反射率膜 201 4Y{&y6  
8.43  参考文献 202 a;v;%rs  
9  多层膜 204 i%otvDn1  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 jN%+)Kj0C)  
9.2  内部透过率 204 sf,9Ym  
9.3 内部透射率数据 205 M5{vYk>,1Q  
9.4  实例 206 ;'oi7b  
9.5  实例2 210
xeSv+I-b  
9.6  圆锥和带宽计算 212 TnLblkX  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 78O5$?b;#  
10  光学薄膜的颜色 216 eB5<N
?;s  
10.1  导言 216 yHxi^D]  
10.2  色彩 216 -hKtd3WbT  
10.3  主波长和纯度 220 r'J3\7N!u  
10.4  色相和纯度 221 Cgn@@P5ZC  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 CW@G(R  
10.6 色差 226 HE*P0Yf=  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 C44*qiG.  
10.8  颜色渲染指数 234 J:2Su1"ODh  
10.9  色差计算 235 4(p,@e
31  
10.10  参考文献 236 .GuZV'  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 l 5z8]/  
11.1  短脉冲 238 P"k,[ZQ  
11.2  群速度 239 \2AXW@xE  
11.3  群速度色散 241 4.'KT;[_1/  
11.4  啁啾(chirped) 245 33w(Pw  
11.5  光学薄膜—相变 245 MKr:a]-'f~  
11.6  群延迟和延迟色散 246 ]|4mD3O  
11.7  色度色散 246 f
c9gi4y9  
11.8  色散补偿 249 ?]2OT5@&s  
11.9  空间光线偏移 256 * TR~>|  
11.10  参考文献 258 f2FGod<CzN  
12  公差与误差 260 4W+%`x_U]  
12.1  蒙特卡罗模型 260 u^uo=/
 
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 E3E$_<^  
12.2.1  误差工具 267 }$1Aw%p^  
12.2.2  灵敏度工具 271 ?p!+s96  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 *,p
16"Q;  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 ;@I}eZ,f$  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 ZUUfn~ORc  
12.3  参考文献 276 ?mW;%d~]  
13  Runsheet 与Simulator 277 qYR+qSAJP  
13.1  原理介绍 277 !FR1yO'd>  
13.2  截止滤光片设计 277 k<\]={|=  
14  光学常数提取 289 s`"ALn8m  
14.1  介绍 289 JulxFjC  
14.2  电介质薄膜 289 von~-51;  
14.3  n 和k 的提取工具 295 &<%U7?{~  
14.4  基底的参数提取 302 rFR2c?j8  
14.5  金属的参数提取 306 s\i.pd:Q  
14.6  不正确的模型 306 9C)w'\u9+  
14.7  参考文献 311 2\=cv  
15  反演工程 313 "6%vVi6  
15.1  随机性和系统性 313 n)rF!a  
15.2  常见的系统性问题 314 O5p]E7/e  
15.3  单层膜 314 P1mPC  
15.4  多层膜 314 r&-Ir3[  
15.5  含义 319 vH^^QI:em  
15.6  反演工程实例 319 7<VfE`Q3  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 Q.[^5 8  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 mLn =SU{#  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 2_HPsEx  
16.1  光学性质的热致偏移 329 ps6c>AN`A&  
16.2  应力工具 335 B.J4
}Ua  
16.3  均匀性误差 339 ]]Da/^K=Z  
16.3.1  圆锥工具 339 SAGLLk07G  
16.3.2  波前问题 341 [{B1~D-  
16.4  参考文献 343 tr\Vr;zd  
17  如何在Function（模块）中编写操作数 345 3fJwj}wL  
17.1  引言 345 WtTwY8HC  
17.2  操作数 345 =7`0hS<@F  
18  如何在Function中编写脚本 351 K*Tvo`  
18.1  简介 351 {1 94u%'  
18.2  什么是脚本？ 351 lYu1m  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 hrRX=  
18.4  基础 352 Y">;2Pt;  
18.4.1  Classes（类别） 352 8}W06k>)%  
18.4.2  对象 352 Lay+)S.ta[  
18.4.3  信息（Messages） 352 B$
)6X  
18.4.4  属性 352 :22IY>p  
18.4.5  方法 353 ZR'q.y[k)  
18.4.6  变量声明 353 Tl3{)(ezx  
18.5  创建对象 354 U{>eE8l  
18.5.1  创建对象函数 355 (&$|R\W.  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 ft[g1  
18.5.3 丢弃对象 356 1W5\
  
18.5.4  总结 356 +B@NSEy/+  
18.6  脚本中的表格 357 #={L!"3?e  
18.6.1  方法1 357 =#<hT s  
18.6.2  方法2 357 t=]&q.  
18.7 2D Plots in Scripts 358 n]@+<TA<uA  
18.8 3D Plots in Scripts 359 }x1mpPND  
18.9  注释 360 #7U,kTj9  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 soZw""|v  
18.11  一个更高级的脚本 362 j]<T\O>t>  
18.12  <esc>键 364 R6Cm:4m}I  
18.13 包含文件 365 _|Ml6;1aZ  
18.14  脚本被优化调用 366 ]Nvtiw 6  
18.15  脚本中的对话框 368 |Tz4xTK
 
18.15.1  介绍 368 k[
Iwxl;/  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 oA~m*|  
18.15.3  输入框函数 370 u hP0Zwn  
18.15.4  自定义对话框 371 q9oF8&O,  
18.15.5  对话框编辑器 371 ,\DB8v6l\A  
18.15.6  控制对话框 377 As (C8C<  
18.15.7  更高级的对话框 380 H9w*U  
18.16 Types语句 384 ZjEO$ts=@  
18.17 打开文件 385 B<[;rk  
18.18 Bags 387 jl2nRo  
18.13  进一步研究 388 tb0XXEE  
19  vStack 389 ooIMN =  
19.1  vStack基本原理 389 .KT+,Y  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 !r.}y|t?;  
19.3  五棱镜 393 FzpWT-jnDd  
19.4 光束距离 396 [`fq4Ky  
19.5 误差 399 i&>,aiH@  
19.6  二向分色棱镜 399 #fGb M!3p  
19.7  偏振泄漏 404 s80_e  
19.8  波前误差—相位 405 #G.3a]p}"  
19.9  其它计算参数 405 oJ8_hk<Va8  
20  报表生成器 406 pLzsL>6h  
20.1  入门 406 >W'SG3Hmc  
20.2  指令(Instructions) 406 fsjA7)/  
20.3  页面布局指令 406 y=vH8D]%X  
20.4  常见的参数图和三维图 407 YC=BP5^  
20.5  表格中的常见参数 408 ;*W]]4fy  
20.6  迭代指令 408 qW7"qw=   
20.7  报表模版 408 Z{p6Q1u  
20.8  开始设计一个报表模版 409 aG}9Z8D  
21  一个新的project 413 pN0c'COy^  
21.1  创建一个新Job 414 &"tce6&
 
21.2  默认设计 415 a LmVOL{  
21.3  薄膜设计 416 mZ;yk(  
21.4  误差的灵敏度计算 420 I9F[b#'Pn  
21.5  显色指数计算 422 :GK{JP  
21.6  电场分布 424 DhZtiqL#_  
后记 426 4E |6l  
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Rc6 )v  
书籍名称：《Essential Macleod中文手册》 uaPBM<  
{yb\p9q{Yo  
《Essential Macleod中文手册》 5h:SH]tn8]  
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目  录 Etu>z+P!  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 t^C
T^z  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 @>9
p2u)=  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 h{* O9O<  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 ZHC sv]l  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 G'Q7(c  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 3yKI2en"  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 9uS7G*  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 uPF yRWK  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 D`t
e|K5  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 Y$ChMf  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 Oq[E\8Wn  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 4|$D.`Wu  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 68HX,t  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 \PLV]%3,  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 @&Nvb.5nT  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 :T\WYKX3C  
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价  格：400元