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    [分享]超表面透镜 纳米压印量产技术 [复制链接]

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    超表面透镜 纳米压印量产技术 lw j,8  
    超表面纳米压印量产方案工艺流程(从上到下完整链路)1. 母模制备(半导体光刻工艺)以玻璃为基底,通过精密光刻掩模制作纳米级原始微结构母版,形成超表面所需亚波长图案。2. Ni镍电铸成型(金属硬模复制)对玻璃母模进行电铸复刻,得到高硬度、高寿命的镍金属压印模具,实现母模保护与批量复制。3. 纳米压印成型(NIL核心工艺)采用自主有机-无机复合树脂作为图案介质,通过纳米压印精准复刻数十nm~数μm跨尺度微结构。4. UV固化成膜|成品超表面透镜光固化定型,形成具备相位调控、超薄平面特性的Meta-surface Lens光学器件。技术核心原理传统思路:全程光刻/研磨/注塑 → 成本高、难以微型化、耐热差、量产受限。 ;.EW7`)Z  
    创新思路「光刻做母模 + 电铸复制硬模 + 纳米压印大规模复制」半导体工艺保证精度,用模具转印体系保证量产与低成本,完美解决超表面透镜“精度高、难量产、贵”的行业痛点。 ;I@@PUnR  
    四大核心技术优势优势1:彻底突破传统光学器件小型化、低成本瓶颈传统玻璃研磨、塑料注塑透镜受工艺限制,无法持续极致微型化且降本困难。本方案采用平面超表面架构+纳米压印批量复制,可实现镜头超薄、扁平化、阵列化,适合终端长期小型化迭代与规模化降本。优势2:有机-无机杂化树脂,兼顾超高精度与高耐热性适配数十纳米至数微米跨尺度精密图案成型,精准实现超表面相位调控功能;相比普通有机树脂,耐热稳定性大幅提升,适配车载、工业等高可靠场景。优势3:量产性远超传统半导体光刻工艺仅一次性使用高端光刻制备母模,后续全部依靠镍模具纳米压印复制结构。极大降低设备与制程成本,量产效率、良率与吞吐能力远优于直接光刻蚀刻制备镜片优势4:特种矿物改性树脂,提升红外透射性能在树脂体系中掺杂特殊矿物成分,优化IR红外波段透过率,适配红外成像、3D传感、车载夜视等高端应用场景,实现高性能+低成本双重优势。 \#O}K  
    技术总结技术核心价值:以成熟转印模具工艺为基础,结合纳米压印与改性光学树脂,实现「高精度超表面透镜的工业化、低成本、可规模化量产。 Q-7C'|  
     
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    只看该作者 1楼 发表于: 2小时前
    NIL 核心工艺(UV 纳米压印) {a6cA=WTPd  
    基板涂布改性 UV 杂化树脂 sfKu7puc  
    Ni 金属模具精密对位压合,树脂充分填充模具微纳型腔 Ae[Na:G+  
    UV 光照使树脂固化,完整复刻超表面亚波长结构 K0xka[x=(  
    脱模,完成单片超表面透镜图案成型
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    只看该作者 2楼 发表于: 2小时前
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