招生 | 第31届《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训班

武汉墨光长久以来成功召开多期《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线上线下培训。武汉墨光将于2023年11月13日-17日开展第31届《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训班。本次培训共计5天时间，课程涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习，讲师现场互动答疑，旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。 2y[Q  
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以下是本次培训具体详情： Ky3mzw|  
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✦ 第一天 u?').c4  
光学和光线追迹的入门概念 =H95?\}T[  
ASAP 简介 =lacfPS  
ASAP 新版本功能 )f8>kz(  
程序检查和3D 查看器 u6iW1,
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ASAP 数据输入 kHM Jh~  
单透镜辐射计示例 JsaXI:%1  
ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据 I8#2+$Be+@  
照明系统示例 GwWK'F'2  
基本脚本操作 X><C#G  
几何规范和通用几何设置 UmKE]1Yw4r  
光学特性 L!f~Am:#  
光源设置 Bfb~<rs[  
光线追迹概念  }D1x%L  
系统分析与评价 ,05PYBc3  

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✦ 第二天 pwSgFc$z  
脚本和 ASAP 编辑器 f-U zFlU  
几何可视化与验证 srS!X$cec  
显示模式 t~2oEwTm  
辐射强度分布 uHbg&eW  
光源切趾 7H H  
光线分裂和接收属性 Z[O hZ 9  
ASAP 宏语言 HZrA}|:h  
ASAP 优化功能 4KPnV+h"b  
散射模型和重点采样 uYW4$6S3  
光线路径 Omd;  
3Tr,waV  
✦ 第三天 ]2zM~  
杂散光术语 A;cA|`b  
辐射度学基础 }G4I9Py  
杂散光成因 KGt:  
杂散光影响、杂散光控制 &X4anH>O  
杂散光分析、评价方法、分析软件对比 2H%9l@}u  
ASAP 杂散光分析流程、步骤 Ir;JYY!0?  
练习 1- 找关键和被照表面 ^}  {r@F  
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✦ 第四天 s.M39W?  
散光特性、散射模型 =7!s8D,[  
练习 2 - 散射模型拟合 A}fm).Wp@  
光学表面污染  %:26v  
散射特性测量仪对比、重点区域采样 py6<QoGV  
练习 3 - 重点区域位置和大小计算 Z% +$<J  
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✦ 第五天 Xj, %t}  
衍射杂散光、PST 分析 M)13'B
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练习 4 - PST 分析 2EgvS!"  
鬼像分析、光学设计中的杂散光控制 `IN!#b+Eo  
练习 5 - 鬼像分析 i)l0[FNI}  
遮光罩和挡光环设计、自身热辐射分析 &M-vKc"d  
杂散光计算器、扩展面源杂散光分析 VQIvu)I  
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•为达到培训效果，均为小班授课模式，名额有限，报名从速; xMbgBx4+  
•学员自备笔记本电脑，培训结束后合格者方颁发培训证书; 4!sK>l!  
•培训方安装最新正版软件，提供标准 ASAP 教材。 ~+.=  
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✦ 主办单位：武汉墨光科技有限公司 o Mz
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✦ 培训时间：2023年11月13日-17日 共五天(09：00-17：00) [G 9Pb)  
✦ 培训费用：按7200元/人的标准进行收费。 2poo@]M/  
1.提供服务性发票，项目“培训费”; f@}>:x  
2.团体(三人及以上)报名可以享受八折优惠，不与墨光其他优惠同时使用; 81nD:]7  
3.食宿自理。 Q{~g<G  
✦ 报名方式：报名咨询请扫描下方“二维码”即可。 <NZPLo F  
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