招生 | 第31届《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训班

武汉墨光长久以来成功召开多期《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线上线下培训。武汉墨光将于2023年11月13日-17日开展第31届《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训班。本次培训共计5天时间，课程涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习，讲师现场互动答疑，旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。 }@+NN ?P  
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以下是本次培训具体详情： l_j4DQBRV  
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✦ 第一天
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光学和光线追迹的入门概念 f,z P*  
ASAP 简介 W[[bV  
ASAP 新版本功能 zd]D(qeX  
程序检查和3D 查看器 \]9.zlB  
ASAP 数据输入 &3Zy|p4V<  
单透镜辐射计示例 azP+GM=i7  
ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据 7n o5b] \  
照明系统示例 >\ u<&>i  
基本脚本操作
AkU<g  
几何规范和通用几何设置 Ke-)vPc  
光学特性 `mH %!{P  
光源设置 L'i-fM[#  
光线追迹概念 [~\PQYm'  
系统分析与评价 muW!xY  
B$KwkhMe  
✦ 第二天 $hR)i  
脚本和 ASAP 编辑器 93IFcmO.H@  
几何可视化与验证 PS S?|Vk  
显示模式 q@hp.(V  
辐射强度分布 <e%F^#y_
 
光源切趾 `Y40w#?uW  
光线分裂和接收属性 XI Jlc~2  
ASAP 宏语言 -;;Z 'NM;8  
ASAP 优化功能 -S%x wJKM  
散射模型和重点采样 zu2HH<E  
光线路径 Q{QYBh&  
rs=q! P"u[  
✦ 第三天
B`$L'  
杂散光术语 U"f??y%)  
辐射度学基础 W YW|P2*  
杂散光成因 3ew8m}A{O  
杂散光影响、杂散光控制 @^ ik[9^H  
杂散光分析、评价方法、分析软件对比 ~e@>zoM'^  
ASAP 杂散光分析流程、步骤 CY?G*nS?iK  
练习 1- 找关键和被照表面 dz#5
q-r  
/cFzotr"9  
✦ 第四天 gLE7Edcp6V  
散光特性、散射模型 RE3Z%;'  
练习 2 - 散射模型拟合 uqyB5V0gh  
光学表面污染 f DgD@YCD  
散射特性测量仪对比、重点区域采样 :RxHw;!  
练习 3 - 重点区域位置和大小计算 w(nHD*nm  
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94  
✦ 第五天 fR-C0"c  
衍射杂散光、PST 分析 ,}D}oo*  
练习 4 - PST 分析 n uQM^2  
鬼像分析、光学设计中的杂散光控制 )<4_:  
练习 5 - 鬼像分析 L3(^{W]|  
遮光罩和挡光环设计、自身热辐射分析 Aw!gSf)  
杂散光计算器、扩展面源杂散光分析 V_U'P>_I  
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B)yy[8j+  
•为达到培训效果，均为小班授课模式，名额有限，报名从速; 2_QN&o ~h  
•学员自备笔记本电脑，培训结束后合格者方颁发培训证书; m:Go-tk  
•培训方安装最新正版软件，提供标准 ASAP 教材。 X7*`  
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✦ 主办单位：武汉墨光科技有限公司 7q9gngT1LA  
✦ 培训时间：2023年11月13日-17日 共五天(09：00-17：00) u3tZ[Y2 c  
✦ 培训费用：按7200元/人的标准进行收费。 ET^|z  
1.提供服务性发票，项目“培训费”; f%qt)Ick  
2.团体(三人及以上)报名可以享受八折优惠，不与墨光其他优惠同时使用; 6\dX
 
3.食宿自理。 cm>E[SHr  
✦ 报名方式：报名咨询请扫描下方“二维码”即可。 7_KhV  
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