招生 | 第31届《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训班

武汉墨光长久以来成功召开多期《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线上线下培训。武汉墨光将于2023年11月13日-17日开展第31届《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训班。本次培训共计5天时间，课程涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习，讲师现场互动答疑，旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。 y"'p#j  
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以下是本次培训具体详情： W;UPA~nT~  
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✦ 第一天 \/;c^!(<  
光学和光线追迹的入门概念 =N{?ll6x7g  
ASAP 简介 YGLq
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ASAP 新版本功能 z5(5\j]  
程序检查和3D 查看器 oq!\100
 
ASAP 数据输入 jl(D;JnF  
单透镜辐射计示例 h-;> v.  
ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据 ?Fny_{&^H  
照明系统示例 x>TIx[x  
基本脚本操作 3HYdb|y
 
几何规范和通用几何设置 'q |"+;  
光学特性 ,Ww}xmq1H  
光源设置 3Wbd=^hRvq  
光线追迹概念 4dCXBTT  
系统分析与评价 F+Qnf'at1  
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✦ 第二天 K{/i2^4  
脚本和 ASAP 编辑器 -Pt E+R[A  
几何可视化与验证 *GBV[D[G,  
显示模式 O TlqJ  
辐射强度分布 Xy 4k;+  
光源切趾 W,Q>3y
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光线分裂和接收属性 'iZwM>l\  
ASAP 宏语言 hp(MKfhH  
ASAP 优化功能 iv6G9e{cx  
散射模型和重点采样 U+ik& R#  
光线路径 MZ-;'w&Z  
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✦ 第三天 { >izfG,\  
杂散光术语 ;w"h
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辐射度学基础 P![ZO6`:W'  
杂散光成因 8~-TN1H  
杂散光影响、杂散光控制 C
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杂散光分析、评价方法、分析软件对比 f~a 7E;y  
ASAP 杂散光分析流程、步骤 H,w8+vZ4\  
练习 1- 找关键和被照表面 cyB+(jLHDs  
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✦ 第四天 $fD%18  
散光特性、散射模型 .*njgAq7  
练习 2 - 散射模型拟合 p.g>+7  
光学表面污染 ; I-6H5
  
散射特性测量仪对比、重点区域采样 OhCdBO  
练习 3 - 重点区域位置和大小计算 U= f9b]Y  
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✦ 第五天 >W-xDzJry  
衍射杂散光、PST 分析 V )oXJL  
练习 4 - PST 分析 m]MR\E5]By  
鬼像分析、光学设计中的杂散光控制 ?#:']q  
练习 5 - 鬼像分析 ri59LYy=  
遮光罩和挡光环设计、自身热辐射分析 2SD Z  
杂散光计算器、扩展面源杂散光分析 RS}_cm0  
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•为达到培训效果，均为小班授课模式，名额有限，报名从速; xPUukmG:B  
•学员自备笔记本电脑，培训结束后合格者方颁发培训证书; t855|  
•培训方安装最新正版软件，提供标准 ASAP 教材。 cRr3!<EZ  
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✦ 主办单位：武汉墨光科技有限公司 e#h&Xa  
✦ 培训时间：2023年11月13日-17日 共五天(09：00-17：00) :KX*j$5U  
✦ 培训费用：按7200元/人的标准进行收费。 *#}=>, v  
1.提供服务性发票，项目“培训费”; 9H4"=!AAgD  
2.团体(三人及以上)报名可以享受八折优惠，不与墨光其他优惠同时使用; C}xfo}i  
3.食宿自理。 45.g;  
✦ 报名方式：报名咨询请扫描下方“二维码”即可。 R,
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