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2{^k*Cfd 内容简介 mlC_E)Ed5 Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 Lc,` 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 vg@kPuOiO 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 4+&4 rPaUDR4U 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 5Y<O 目录 2<&lrsh Preface 1 l)y$c}U 内容简介 2 r|!w,>. 目录 i .b'o}DLa 1 引言 1 {m1=#* 2 光学薄膜基础 2 1=LI))nV 2.1 一般规则 2 'iy &%? 2.2 正交入射规则 3 ^Mw>'*5^ 2.3 斜入射规则 6 xWkCP2$?P 2.4 精确计算 7 yZ7aH|Q81B 2.5 相干性 8 vrVb/hhG 2.6 参考文献 10 8@`"Zz M 3 Essential Macleod的快速预览 10 {2u#Q7]| 4 Essential Macleod的特点 32 jP*5(*[&y 4.1 容量和局限性 33 aH@Ux?-} 4.2 程序在哪里? 33 zY?GO"U" 4.3 数据文件 35 :e9}k5kdk 4.4 设计规则 35 K_\fO|<k 4.5 材料数据库和资料库 37 S3cjw9V 4.5.1材料损失 38 QwaCaYoh 4.5.1材料数据库和导入材料 39 th&? 4.5.2 材料库 41 jKFypIZ4 4.5.3导出材料数据 43 Rw4"co6 4.6 常用单位 43 J;Y=oB 4.7 插值和外推法 46 AvW2)+6G 4.8 材料数据的平滑 50 CV/ei,=9 4.9 更多光学常数模型 54 wNsAVUjLe 4.10 文档的一般编辑规则 55 !>$tRW?gH~ 4.11 撤销和重做 56 88 fH!6b 4.12 设计文档 57 2&*r1NXBE 4.10.1 公式 58 JffjGf-o 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 J%|!KQl 4.10.3 沉积密度 59 c^^[~YWj 4.10.4 平行和楔形介质 60 ;{Cr+lqTJ 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 .~#<> 4.10.4 性能 61 HKA7|z9{ 4.10.5 保存设计和性能 64 3*@ sp 4.10.6 默认设计 64 Xg>nb1e 4.11 图表 64 \x JGR! 4.11.1 合并曲线图 67 yya"*]*S 4.11.2 自适应绘制 68 Rs@2Pe$3 4.11.3 动态绘图 68 m/#)B6@A 4.11.4 3D绘图 69 FI@!7@ 4.12 导入和导出 73 :S
Tj
< 4.12.1 剪贴板 73 x5q5<-# 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 N(<4nAE 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 g_z%L?N 4.13 背景 77 CRy;>UI 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 _jmkA meu 4.15 生成Rugate 84 3OUZR5_$ 4.16 参考文献 91 #R&Dgt
5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 P;R`22\3 5.1 Jobs 92 `TNWLD@Z 5.2 创建一个新Job(工作) 93 ?#|Y'%a" 5.3 输入材料 94 \(9hg.E 5.4 设计数据文件夹 95 `TvpKS5.Y 5.5 默认设计 95 X) lz BM 6 细化和合成 97 ?3ldHWa 6.1 优化介绍 97 @d imZsi1 6.2 细化 (Refinement) 98 69)- )en 6.3 合成 (Synthesis) 100 b(8#*S!U 6.4 目标和评价函数 101 RJ/4T#b"+ 6.4.1 目标输入 102 U_ j\UQC 6.4.2 目标 103 4(5NHsvp 6.4.3 特殊的评价函数 104 z:B4 6.5 层锁定和连接 104 Dh=?Hzw 6.6 细化技术 104 @.Pd3CB0 6.6.1 单纯形 105 "F
nH>g- 6.6.1.1 单纯形参数 106 &S/@i|_ 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 sem:" 6.6.2.1 Optimac参数 108 zS]8ma 6.6.3 模拟退火算法 109 E! '|FJ 6.6.3.1 模拟退火参数 109 [=dK%7v 6.6.4 共轭梯度 111 xVOoYr>O 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 /"w%?Ea 6.6.5 拟牛顿法 112 rr/0pa$ 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 Z(F`M;1>xI 6.6.6 针合成 113 L1'R6W~%dN 6.6.6.1 针合成参数 114 B(+J?0Dj 6.6.7 差分进化 114 wxy.&a] 6.6.8非局部细化 115 M^f+R'Q3 6.6.8.1非局部细化参数 115 HE>6A|rgDr 6.7 我应该使用哪种技术? 116 {G _ :#cep 6.7.1 细化 116 y7a84)j3 6.7.2 合成 117 8UY[$lc 6.8 参考文献 117 =Kf]ZKj) 7 导纳图及其他工具 118 ma__LWKM, 7.1 简介 118 "Dr8}g:X 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 i7N|p9O. 7.2.1 四分之一波长规则 119 5,H,OZ} 7.2.2 导纳图 120 ;8!L*uMI 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 W|NT*g{;M 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 QfHJZ7K.4 7.5 斜入射导纳图 141 Q]n a_'_ 7.6 对称周期 141 M`1pze_A 7.7 参考文献 142 >M `ryM2=D 8 典型的镀膜实例 143 ?< |