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?Gfe? 内容简介 0=DawJ9 Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 N~d]}J8}gx 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 1gJ!!SHPo 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 |VL,\&7rk F o6U" 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 W~FA9Jd'Z 目录 s qKkTG3 Preface 1 '*;rm*n 内容简介 2 ]FBfh.#X@ 目录 i TbuR?# 1 引言 1 iz(+(M 2 光学薄膜基础 2 8hg(6 XUG 2.1 一般规则 2 BoqW;SG$9 2.2 正交入射规则 3 H5{J2M,f 2.3 斜入射规则 6 D>Z_N?iR 2.4 精确计算 7 6dUP's_ 2.5 相干性 8 th)jEK;Z 2.6 参考文献 10 ez>@'yhK 3 Essential Macleod的快速预览 10 |&Q=9H*e 4 Essential Macleod的特点 32 ![V-
e 4.1 容量和局限性 33 OUPpz_y 4.2 程序在哪里? 33 (I5ra_FVs 4.3 数据文件 35 5;l_-0= 4.4 设计规则 35 $;1~JOZh 4.5 材料数据库和资料库 37 $7,dKC & 4.5.1材料损失 38 0^4*[?l9q 4.5.1材料数据库和导入材料 39 oSoG&4 4.5.2 材料库 41 4$"Lf'sH6 4.5.3导出材料数据 43 g:g>;"B
O 4.6 常用单位 43 7d*<'k]{, 4.7 插值和外推法 46 Yy}aQF#M 4.8 材料数据的平滑 50 : Ej IV]e 4.9 更多光学常数模型 54 wkGF&U 4.10 文档的一般编辑规则 55 lI 8"o>-~ 4.11 撤销和重做 56 2i)y'+s 4.12 设计文档 57 ;V
GrZZ 4.10.1 公式 58 1jyWP#M# 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 [~3p+ 4.10.3 沉积密度 59 QWkw$mcf 4.10.4 平行和楔形介质 60 P
dJ*'@~i 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 aZRgd^4 4.10.4 性能 61 $4"OD"Z Cq 4.10.5 保存设计和性能 64 3kMiC$ 4.10.6 默认设计 64 D-.>Dw: 4.11 图表 64 ,]MX&] 4.11.1 合并曲线图 67 c2nZd.SD| 4.11.2 自适应绘制 68 i@RjG 4.11.3 动态绘图 68 KlPH.R3MPO 4.11.4 3D绘图 69 C*9m `xh 4.12 导入和导出 73 9HE)!Col 4.12.1 剪贴板 73 8/CGg_C1 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 vBp5&* 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 ]~P? 4.13 背景 77 KK+Mxoj, 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 +CkK4<dF 4.15 生成Rugate 84 uFqH_04 4.16 参考文献 91 [D)A+ 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 Xw%z#6l 5.1 Jobs 92 rtpjx% 5.2 创建一个新Job(工作) 93 xOT3>$ 5.3 输入材料 94 r0sd_@Oj 5.4 设计数据文件夹 95 %lPP1
R 5.5 默认设计 95 sDiYm}W 6 细化和合成 97 ?|33Np) 6.1 优化介绍 97 JTC&_6 6.2 细化 (Refinement) 98 ihn M`TpMJ 6.3 合成 (Synthesis) 100 BhKxI 6.4 目标和评价函数 101 ?aCR>AY5X 6.4.1 目标输入 102 N%-nxbI\ 6.4.2 目标 103 uzo}?X# 6.4.3 特殊的评价函数 104 ZFzOW 6.5 层锁定和连接 104 QWoEo 6.6 细化技术 104 >i~c>+R 6.6.1 单纯形 105 g#AA.@/Z 6.6.1.1 单纯形参数 106 iT%UfN/q=I 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 R
Q8okA 6.6.2.1 Optimac参数 108 ,d7@*>T& 6.6.3 模拟退火算法 109 & mWq'h 6.6.3.1 模拟退火参数 109 im'0^ 6.6.4 共轭梯度 111 }S&{ &gh 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 %vksN$^ 6.6.5 拟牛顿法 112 g41LpplX 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 0,c
z&8 6.6.6 针合成 113 7 XY C.g 6.6.6.1 针合成参数 114 (ZnA#% 6.6.7 差分进化 114 I/tzo(r 6.6.8非局部细化 115 itP_Vxo/H 6.6.8.1非局部细化参数 115 -K0tK~%q 6.7 我应该使用哪种技术? 116 Jx}5`{\ 6.7.1 细化 116 [bp"U*!9P 6.7.2 合成 117 *<hpq) 6.8 参考文献 117 6k[u0b` 7 导纳图及其他工具 118 +)|2$$m 7.1 简介 118 N_>s2 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 _Sg29qFK 7.2.1 四分之一波长规则 119 $5A XE;~{ 7.2.2 导纳图 120 |Mh;k6 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 1pn167IQL 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 Cn"N5(i 7.5 斜入射导纳图 141 ``SjALf 7.6 对称周期 141 ._yr7uY[M 7.7 参考文献 142 8P*n|]B.' 8 典型的镀膜实例 143 NE! Xt <A 8.1 单层抗反射薄膜 145 'e&4#VLH^ 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 z}& |