主要用于介绍如何在OptiBPM中创建一个简单的多模干涉耦合器，主要步骤如下： l]|&j`'O • 定义MMI耦合器的材料； dFg&|Lp • 定义布局设定； OyDoktz$) • 创建一个MMI耦合器； [g}^{ $` • 插入输入面； v
Z10R b8 • 运行模拟； J.rS@Z`~7 • 在OptiBPM_Analyzer中预览模拟结果。 ^(&2 W 4 q9pHQ 1. 定义MMI耦合器的材料 :G#%+, 为了定义MMI耦合器的材料，需要进行如下操作： ?4SYroXUX| 1) 通过File-New打开“初始性能对话框（Initial Properties）“ _LF'0s* 87[o^) 8 图1.初始性能对话框
O#i gH 2) 点击图1中的“轮廓和材料（Profiles And Materials）”以激活“轮廓设计窗口（Profile Designer）” }|h-=T ' 5S? "<+J ' 图2.轮廓设计窗口
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X
AB# 3) 右键单击图2中材料（Materials）标签下的“电介质（Dielectric）“，选择New以激活电介质材料创建窗口 g{DOQA
6iQqOAG l&Q@+xb> 图3.电介质材料创建窗口
RCqL~7C+ k 4) 在图3中窗口创建第一种电解质材料： rKPsv *w − Name : Guide \nOV2(FAT − Refractive Index (Re) : 3.3 toF6 Z − 点击“Store”以保存创建的第一种电解质材料并关闭窗口 -6 v?iiZr yYOV:3!" 图4.创建Guide材料
|QzJHP @ 5) 重复步骤3）和4），创建第二种电解质材料： aJm5`az) − Name : Cladding sUF5Y q:9 − Refractive Index (Re) : 3.27 :8n?G − 点击“Store”以保存创建的第一种电解质材料并关闭窗口 !5+9~/; Nt+ UL/1] 图5.左图为创建Cladding材料，右图为材料创建成功后电解质材料标签下的显示 ~i^,Z&X:
6) 双击Profiles标签下的Channel-Channel1，进入通道编辑窗口，构建通道： b<fN,U< k − Name ： Guide_Channel 5YZ\@<|rH − 2D profile definition: Guide MS SHMR − 点击“Store”保存创建的通道并关闭通道编辑窗口，关闭Profile Designer窗口 ;$a|4_U$m f`8fNt 图6.构建通道
2. 定义布局设定 0jp y c
为了定义布局设定，需要在“初始性能对话框（Initial Properties）”窗口进行以下操作： iv dPF dJ
1) 点击“默认波导（Default Waveguide）”标签 ,_,7c or
− Width：2.8 Z[+Qf3j}o6
注意：所有的波导将会使用此设定以作为默认厚度 FlS)m `
− Profile：Channel-Guide E3Z>R=s
图7.默认波导标签下“Width”以及“Profile”设置
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6O5E4 =
2) 切换到“晶圆尺寸（Wafer Dimension）”标签： AO$aW y I
− Length：5300 j@Us7Q)A(
− Width：60 *|+ ~V/#
图8.设置晶圆尺寸
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0A ~f
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3) 切换到“2D晶圆属性（2D Wafer Properties）”标签： `).;W
− Material：Cladding 7Ph+Vs+h
− 点击OK以激活布局窗口 e ]> {?Z
图9.晶圆材料设置
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4) 布局窗口 JvUHoc$sI
图10.默认情况下布局窗口显示
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1 _W5@)
5) 调整显示比率，以便更好进行波导结构布局设置： OQX ek@~2
− View-Layout Options以激活布局设置选项窗口 Q!%CU8!`&
− Display ratio : Z=40,点击OK，如图11所示 \b88=^
− 调整缩放比率为0.6 ，最终布局显示如图12所示 [/t/694
图11.调整Z方向和X方向的显示比率 [TV"mA
图12.最终布局显示
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3. 创建一个MMI耦合器 eWx6$_|
为了构建一个MMI耦合器，需要进入如下操作： w_J`29uc
1) 在“绘图（Draw）”菜单下选择“线性波导（Linear Waveguide）”或者在波导栏 下选择线性波导 fs]Zw mA^
2) 当鼠标指针变为十字叉时，点击布局窗口左侧，并向右侧拖拽波导后松开鼠标，以生成第一个线性波导 PZA;10z
图13 .绘制第一个线性波动
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~h[l u^ZSi
