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主要用于介绍如何在OptiBPM中创建一个简单的多模干涉耦合器,主要步骤如下: p=je"{ • 定义MMI耦合器的材料; a2IV!0x • 定义布局设定; zhD`\&G. • 创建一个MMI耦合器; \["1N-q b • 插入输入面; B]CS2LEqh • 运行模拟; r5<e}t- • 在OptiBPM_Analyzer中预览模拟结果。 rl_1),J\qG h=mI{w* 1. 定义MMI耦合器的材料 uT@8 _9 为了定义MMI耦合器的材料,需要进行如下操作: y$"~^8"z 1) 通过File-New打开“初始性能对话框(Initial Properties)“ "y3dwSS 5[0l08'D 图1.初始性能对话框 [7CH(o1a& 2) 点击图1中的“轮廓和材料(Profiles And Materials)”以激活“轮廓设计窗口(Profile Designer)” AF07KA# M]pel\{M 图2.轮廓设计窗口 VbY>l' rY 3) 右键单击图2中材料(Materials)标签下的“电介质(Dielectric)“,选择New以激活电介质材料创建窗口 qugPs(uQ ]ys4 ueS[sN! 图3.电介质材料创建窗口 X_EC:GU 4) 在图3中窗口创建第一种电解质材料: A@lhm`Aa − Name : Guide vs)HbQ − Refractive Index (Re) : 3.3 g@N=N − 点击“Store”以保存创建的第一种电解质材料并关闭窗口 3w6J V+? 4%Z\G@0<' 图4.创建Guide材料 I NFzX 5) 重复步骤3)和4),创建第二种电解质材料: UOOR0$4 − Name : Cladding J_)z:`[yE − Refractive Index (Re) : 3.27 J,& |