主要用于介绍如何在OptiBPM中创建一个简单的多模干涉耦合器,主要步骤如下: b(,[g>xH • 定义MMI耦合器的材料; r JxT)bR • 定义布局设定; mI18A#[ 3 • 创建一个MMI耦合器; 43fA;Uc{Y` • 插入输入面; [!$>:_Vq/ • 运行模拟; UJ&,9}L8 • 在OptiBPM_Analyzer中预览模拟结果。 n(MEG'9} w, wt<@} 1. 定义MMI耦合器的材料 h Nwb.[ 为了定义MMI耦合器的材料,需要进行如下操作: vUNE!j 1) 通过File-New打开“初始性能对话框(Initial Properties)“ Rx<F^J [HfFC3U 图1.初始性能对话框
]y$C6iUY* 2) 点击图1中的“轮廓和材料(Profiles And Materials)”以激活“轮廓设计窗口(Profile Designer)” gA*zFhGVS7 )<&QcO_ 图2.轮廓设计窗口
u?i1n=Ne 3) 右键单击图2中材料(Materials)标签下的“电介质(Dielectric)“,选择New以激活电介质材料创建窗口 4]R3*F
:-8u*5QK]` vUA,` 图3.电介质材料创建窗口
_X/`4 G 4) 在图3中窗口创建第一种电解质材料: c`Cn9bX − Name : Guide .j.=|5nVo4 − Refractive Index (Re) : 3.3 |szfup~5es − 点击“Store”以保存创建的第一种电解质材料并关闭窗口 NI)nf;C F'!}$oT" 图4.创建Guide材料
tIw4V^'| 5) 重复步骤3)和4),创建第二种电解质材料: o%iTYR:x − Name : Cladding 5{[0Clb) − Refractive Index (Re) : 3.27 wz=I+IN: − 点击“Store”以保存创建的第一种电解质材料并关闭窗口 b/`'?|
C :|TBsd|/x 图5.左图为创建Cladding材料,右图为材料创建成功后电解质材料标签下的显示 )*B.y|b#
6) 双击Profiles标签下的Channel-Channel1,进入通道编辑窗口,构建通道: bx>D − Name : Guide_Channel ~]Jfg$' − 2D profile definition: Guide 3i1>EjML − 点击“Store”保存创建的通道并关闭通道编辑窗口,关闭Profile Designer窗口 &~EOM Zuf&maa S 图6.构建通道
2. 定义布局设定 P[~a'u
为了定义布局设定,需要在“初始性能对话框(Initial Properties)”窗口进行以下操作: :n4x}%
1) 点击“默认波导(Default Waveguide)”标签 Qp}<8/BM\
− Width:2.8 wim}}^H
注意:所有的波导将会使用此设定以作为默认厚度 G.8ZISN/
− Profile:Channel-Guide Rz<fz"/2<