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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-08-29
    摘要 /o9T [ ^\  
    BBB@M  
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 ;sZG=y@  
    $;qi -K3j  
    tnRf!A;m  
    场景 Je1d|1!3  
    /kW Z 8Z  
    9\?OV @  
    n/+X3JJ  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 &O&HczO  
    P[nc8z[  
    系统构建块
    J7+G"_)'  
    M&Ka ^h;N  
    )'_[R@ThB  
    $MQ}+*Wr  
    组件求解器 !eLj + 0  
    B0fOAP1  
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    RP4/:sO  
    uJ !&T  
    系统构建块 " O&93#8  
    HN5m%R&`  
    mmAm@/  
    Xn6#q3;^|  
    总结 Ys"wG B>  
    BG>Y[u\N  
    ~M C|  
    x84!/n^z  
    几何光学仿真 )dXa:h0RZ  
    通过光线追迹 RZOK+!H:  
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    结果:光线追迹 +)Z]<O  
    ALF0d|>=uj  
    YG "Ta|@5  
    51#*8u+L  
    快速物理光学仿真 ^9g$/8[^c_  
    通过场追迹 ^|]&"OaB Z  
    qpjY &3SI  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 @IT[-d  
    U<Pjn)M~B  
    ~wvt:E,f C  
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    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 ( ;FxKm<P@  
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    p@ <Q?  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 <Vat@e  
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    *FS8]!Qg  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 @KN+)qP  
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    总结 Y"Cf84E  
    P}bIp+  
    Y-VDi.]W  
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