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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-08-29
    摘要 ec?1c&E  
    ib50LCm  
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 E*4t8  
    75(W(V(q  
    {( HxG4~  
    场景 4]"w b5%  
    XqFu(Lm8=  
     S1C^+Sla]  
     wF;B@  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 F^TAd  
    ZKsQ2"8{M  
    系统构建块     ;l`X!3  
    q6)p*}-  
     )_pt*xo  
    j&llrN  
    组件求解器 (1y='L2rj  
    W%zmD Hk~  
    qnTi_c  
    ^^Bm$9  
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    Rf8:+d[Jj|  
    系统构建块 y"Ihr5S\  
    hOSf'mi  
     bQ=s8'  
    _3KZME  
    总结 !SN WB  
    %30T{n:  
    b7qnO jC  
    d.b?! kn  
    几何光学仿真 cCYl$MskZ  
    通过光线追迹 >EeAPO4  
     x{QBMe`  
    结果：光线追迹 @C<d2f|8  
    aC}vJ93i  
     q'fPNQg  
    H&u4v2  
    快速物理光学仿真 dRM5urR6,  
    通过场追迹 F42TKPN^uu  
     ax;{MfsK  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 _p$"NNFN  
    1uY3[Z9S  
     <Q\H  
    zv|M*Wu  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 xan/ay>  
    s?~8O|Mu'  
     rt,0j/o.1  
    ,?t}NZY&  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 {4o\S  
     =05iW  
    % Mw'e/?  
    EK:Y2WZ  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 N!.kq4$.  
    #?A]v>I;C  
     X!2.IsIS8  
    %e(9-M4*  
    总结 .wM:YX'[G  
    .<0=a|IAz  
    /kAwe *)  
    A> J1B(up  
     
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