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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    离线infotek
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-08-29
    摘要 w st)O{4  
    $f^ \fa[  
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 `^7ARr/  
    F( Iq8DV  
    AmmUoS\  
    场景 (qM(~4|`  
    QX j4cg  
     E _DSf  
    #RwqEZ  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 <MH| <hP  
    m!-,K8  
    系统构建块     s&7,gWy}BE  
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     T m0m$l  
    #YMU}4=:  
    组件求解器 /"M7YPX;  
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    aN5w  
    5-ju5z?=  
    系统构建块 $`&uu  
    .w`1;o  
     &_EjP hZ  
    f;;(Q-.  
    总结 g0!{CW  
    KF[P /cFI  
    )./%/ _*K  
    noBGP/Av=:  
    几何光学仿真 T53|*~u  
    通过光线追迹 7]~65@%R-&  
     0{P Rv./`  
    结果：光线追迹 ;(0E#hGN  
    XY;cz  
     Y4 Y;xK"  
    -nQ:RHnd  
    快速物理光学仿真 iS{8cN3R  
    通过场追迹 Y!6,ty'  
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    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 =2z9Aq{  
    D#T1~r4  
     D e>'  
    OI9V'W$  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 D4x~Vk%H  
    8yH*  
     /OpVr15  
    DJv;ed%x  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 Z[DiLXHL  
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    "]dNN{Wka  
    e)[>E\u_  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 {:VUu?5-t;  
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    总结 +@Oo)#V|.  
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    f*VBSg[`  
     
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