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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    离线infotek
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-08-29
    摘要 &F:%y(;{Y  
    @ZRg9M:N  
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 d uP0US  
    ,BFw-A  
    fV2w &:^3  
    场景 ~O~iP8T  
    _(-i46x}  
     ,xg-H6Xfa{  
    xR8y"CpE  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 {n&GZG"f  
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    系统构建块     ZUD{V  
     ~)F_FS  
     7K ~)7U  
    6"?#E[ #[  
    组件求解器 g/(BV7V  
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    Vqcw2  
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    系统构建块 >;lrH&  
    I@5$<SN  
     Sk:x.oOZ  
    (|#%omLL  
    总结 gF`hlYD  
    `6RccEm  
    X"vDFE`?  
    ~k%XW$cV  
    几何光学仿真 6VS_L@  
    通过光线追迹 \TYVAt] ?  
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    结果：光线追迹 5{WvV%  
    f'bwtjO  
     >6Jz=N,  
    Q~/=p>=uu  
    快速物理光学仿真 "&{.g1i9  
    通过场追迹 &bGf{P*Da  
     'Fc$?$c\  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 p"7[heExw  
    P,b&F  
     VoQhzp6&  
    ]q"y P 0  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 =**Q\ Sl  
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    2R ^6L@fw  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 -knP5"TB  
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    ;U$Rd,T4S  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 {;m|\652B  
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    总结 d^v.tYM$N  
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