切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • Zemax光学设计从入门到精通 《杂散光抑制与评估技术》 Zemax光学设计实践基础(陈家璧) 光学设计与光学元件
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 现代光学设计及应用(Zemax) CODE V,LightTools,RSoft,LucidShape 计算光学带来的成像革命(第2季)
    发帖 回复
    返回列表
    • 787阅读
    • 0回复

    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

    		 上一主题 下一主题
    在线infotek
    科学家
     
    发帖
    7036
    光币
    29325
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-08-29
    摘要 c^^[~YW j  
    ;{Cr+lqTJ  
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 bn`1JI@S4  
    Q;p?.GI?-  
    H{*~d+:ol  
    场景 d\FBY&C7b  
     3*@ sp  
     /P<K)a4GM  
    Wj2s+L7,  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 #X&`gDW  
    Ap}^6_YXd  
    系统构建块     ka_]s:>+  
    <gU^#gsGra  
     O 0Fw!IQk  
    -phwzR\(t  
    组件求解器 T7f>u}T  
    (_^pX  
    w6 C0]vh  
    >kK;IF9h  
    Ns.b8Y  
    V=!tZ[4z$h  
    系统构建块 N(<4nAE  
    ]MjQr0&M  
     Q v/}WnBk  
    d! 0p^!3  
    总结 lp`raN No  
    iN\D`9e  
    83,ATQg  
    ;q:.&dak1  
    几何光学仿真 Y\!* c=@k  
    通过光线追迹 L\L/+yNv:G  
     ~m~<xtoc  
    结果：光线追迹 b/N+X}VMN  
    %%["&  
     c#eV!fl>&  
    R +H0+omj  
    快速物理光学仿真 :BLD &mb"Y  
    通过场追迹 9Xw(|22  
     wfH#E2+pk  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 {(r`&[  
    ;0lHi4 c0  
     aiP.\`>}  
    [[(29|`]  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 Bny3j~*U  
    2y6 e]D  
     u~Zx9>f  
    /]~Oa#SQ:  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 4(5NHsvp  
    )H&rr(  
    qx3@]9  
    }E626d}uA  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 Zo}O,;(F5  
    EHByo[  
     1-`Il]@?8  
    2l5>>yY  
    总结 ,Y|WSKY*  
    dTN[E6#R  
    $@t]0  
    tOx)t$ix  
     
    回复
    举报
    分享到
    发帖 回复
    返回列表