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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2023-08-29
    摘要 h4=7{0[  
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    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 4td9=dNA+l  
    j9*5Kj  
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    场景 sg4TX?I   
    ABU~V+'2  
     }W nvz;]B  
    8W x7%@^O  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 E$s?)  
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    系统构建块     P5`BrY,hZ  
    _dwJ;j`2  
     @c;:D`\p1C  
    B=|m._OL]n  
    组件求解器 oe{,-<yck  
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    U2*kuP+n  
    zS!+2/(  
    HA3d9`  
    系统构建块 $zJ!L  
    r%xf=};  
     Imz1"+E~  
    Tr "Bz!  
    总结 B\6%.R  
    NkYC(;g  
    ~~{+?v6B]  
    ?d@zTAI  
    几何光学仿真 AzFS6<_  
    通过光线追迹 9&'HhJm  
     RpU.v `  
    结果：光线追迹 l vfplA  
    b^WF R   
     qw}. QwPT  
    52'0l>  
    快速物理光学仿真 |^ J5YwCf  
    通过场追迹 ]3CWb>!_  
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    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 DQ%(X&k  
    DcmRvi)&6  
     pU[5f5_  
    X?n($z/ {  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 !_+ok$"d  
    `WlQ<QEi  
     HKG8X="  
    0EBHR Y_F  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 :;N2hnHoG  
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    Q=F^Y f  
    f- ~]  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 .*nr3dY  
    "hLm wz|a  
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    总结 o~ReeZ7)Zg  
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    jYnP)xX;  
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