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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2023-08-29
    摘要 :BC<+T=  
    b[QCM/  
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 q/aL8V<"z  
    ~7eUt^SD;  
    Ugee?;]lu  
    场景 CU} q&6h  
    k;AV;KWI'  
    f%(e,KgW=  
    kW7&~tX  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 -jklH/gF\%  
    2={K-s20  
    系统构建块
    v/4X[6(  
    B7x"ef  
    H/ B^N,oi  
    Z7k1fv:S^  
    组件求解器 cfO^CC  
    ,vHX>)M|  
    A~ %g"  
    "O"^\f  
    ;Wp`th!F  
    &p(*i@Ms  
    系统构建块 F#3$p$;B$  
    -* -zU#2|  
    BGk<NEzH  
    &*?!*+!,i  
    总结 z; z'`A  
    gIf+.^/m1  
    [{d[f|   
    ~[bMfkc3  
    几何光学仿真 *+1"S ]YF  
    通过光线追迹 *T}dv)8  
    t]YLt ,  
    结果:光线追迹 /*xmv $  
    >GF(.:7  
    / F  
    Y-q,Ovf!  
    快速物理光学仿真 5{x[EXE'  
    通过场追迹 $SD@D6`lL  
    E&Zx]?~  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 u/c~PxC  
    |^&2zyUj/  
    p Z|nn  
    2l}Fg D  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 2H32wpY ,l  
    1(\I9L&J   
    8Jly! =Qm5  
    ZkV vL4yIK  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 MRY)m@*+6  
    V,* 0<7h  
    5)zj){wL  
    &4$43\(D  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 j2v[-N4 {J  
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    vpr @  
    8"I5v(TV  
    总结 R~mMGz  
    RBp(dKxM$w  
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