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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    离线infotek
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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2023-08-29
    摘要 Qfd4")zhG  
    =TG[isC/F9  
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 tp3]?@0  
    tNbZ{=I>  
    n#lZRwhq  
    场景 tsvh/)V  
    u AmDXqJ 3  
     7"0l>0 \  
    N 56/\1R  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 x=~$ik++  
    lay)I11- >  
    系统构建块     wtpz ef=  
    >^q7:x\  
     `X ;2lgL  
    mcFJ__3MAV  
    组件求解器 6o!Y^^/U  
    iR(jCD?) Y  
    ygn]f*;?kw  
    /a:sWmxMT  
    U#=5HzE  
    <W<>=vDzyE  
    系统构建块 dZ"w2ho  
    cgevP`*]  
     u >W:SM  
    sj& j\<(  
    总结 [~#]p9|L  
    F vt5vQ  
    zEYT,l  
    krI@N}OU  
    几何光学仿真 E|K~WO]>o  
    通过光线追迹 JNZ  O7s  
     W+&<C#1|]  
    结果：光线追迹 'ZboLoS*-  
    PA_54a9/<  
     ?ot7_vl  
    ,q|;`?R;  
    快速物理光学仿真 AYnk.H-v  
    通过场追迹 h~R= ?%H[  
     N=[# "4I  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 dnW#"  
    Q"+)xj  
     yRF %SWO  
    y6C3u5`  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 K.T.?ug;:  
    zm7IkYF  
     fCa*#ME  
    l k?@ =U~  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 $>csm  
    6b6rM%B.oD  
    S7Tc9"oqV  
    |k ]{WCD]  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 pDloew  
    HJ]9e  
     z&a>cjt_;  
    C@#KZ`c)  
    总结 g&<3Kl  
    z:7 i@m  
    jf WZLb)  
    oM~;du  
     
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