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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2023-08-29
    摘要 09eS&J<R  
    ,y3o ,gl  
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 pQ*9)C   
    4kNf4l9Y  
    +XJj:%yt  
    场景 Mvrc[s+o  
    2<yi8O\  
     Z~~{!C+G  
    Gk8"fs  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 <dD}4c+/t  
    vX)JJ|g  
    系统构建块     85m[^WGyh  
    Yp./3b VO  
     VCcLS3  
    D.j'n-yw  
    组件求解器 K/+5$SjF  
    $f*N  
    ={W;8BUV%^  
    wZh&w<l'  
    782be-n  
    fr;>`u[;  
    系统构建块 '73dsOTIT  
    F5gL-\6  
     x$J1%K*  
    #!OCEiT_  
    总结 IBcCbNs!  
    dfiA- h  
    \ZigG{  
    xSs);XO,  
    几何光学仿真 x %L2eXL  
    通过光线追迹 ,_r"=>?@  
     -f#0$Z/0  
    结果：光线追迹 KIC5U50J  
    _:Tjq)  
     Q$Ga.fI  
    LpGplD lB  
    快速物理光学仿真 wxkCmrV  
    通过场追迹 A9Q!V01_  
     *j?tcxq  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 \acJ9N  
    u&/q7EBfP  
     JC(rSs*  
    4!i`9w$$"  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 ~.u}v~ F  
    {2vk<  
     &8_]omuNV  
    =SB#rCH  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 8B JxD<  
    +wXrQV  
    K~H)XJFF  
    .X\p;~H 5  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 X|q&0W=  
    jGl8y!aM  
     swYlp  
    l~;H~h!h/  
    总结 0^az<!!O#  
    rmu5K$pl  
    +D[|L1{xb  
    Y (x_bJ  
     
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