切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • Zemax光学设计从入门到精通 《杂散光抑制与评估技术》 Zemax光学设计实践基础(陈家璧) 光学设计与光学元件
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 现代光学设计及应用(Zemax) CODE V,LightTools,RSoft,LucidShape 计算光学带来的成像革命(第2季)
    发帖 回复
    返回列表
    • 789阅读
    • 0回复

    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

    		 上一主题 下一主题
    在线infotek
    科学家
     
    发帖
    7036
    光币
    29325
    光券
    0
    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2023-08-29
    摘要 _{LmJ?!  
    *.$ov<E.  
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 "_dJ4<8  
    * kL>9  
    Lo[;{A$u  
    场景 @!x7jPr  
    YuoErP=P  
     (ux9"r^g;x  
    |tY6+T}  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 v7+|G'8M`  
    d`?EEO  
    系统构建块     }]=A:*jD  
    \8{Tj54NA  
     SzG %%CXH_  
    5M8   
    组件求解器 ex|)3|J  
    geM`O|Np  
    rTC|8e  
    !"08TCc<  
    \"yR[.Q?   
    H?ue!5R#L  
    系统构建块 )5<dmK@  
    f .h$jyp(  
     ]/R>nT  
    3WfZzb+  
    总结 $Ixd;`l*  
    N0 t26| A  
    Np~qtR  
    FFN.9[Ly  
    几何光学仿真 lm'.G99{  
    通过光线追迹 7` XECIh  
     hB:+_[=Kj.  
    结果：光线追迹 #TP Y%  
    kl&_O8E+K  
     Z%-uyT@a  
    w6B`_Z'f  
    快速物理光学仿真 wz:w6q  
    通过场追迹 gr>FLf   
     % e70*;  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 !\&4,l(  
    +hT9V1'-D  
     (ubK i[)  
    J2`OJsMwWe  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 0wETv  
    %#]/ ]B/4  
     mvtuV`  
    %N<>3c<8P  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 ZQJh5.B  
    S7hfwu&7F  
     ~#z b  
    XoiZ"zE  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 ~-(X\:z}  
    ^A;ec h7I  
     'Cywn^Ym#  
    Ly/5"&HD  
    总结 K*MI8')  
    lU3Xd_v O  
    VqB9^qJ]!  
    _lk5\bu  
     
    回复
    举报
    分享到
    发帖 回复
    返回列表