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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-08-29
    摘要 52Q~` t7F  
    iHOvCrp+X  
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 zU>bT20x/  
     ~\+m o  
    t4,(W`  
    场景 xHwcP21  
    cA B^]j  
     w3oe.hWP3N  
    1\Vp[^#Vx  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 6~(iLtd#  
    w 259':  
    系统构建块     (@u"   
    >:U{o!N`#_  
     T`^LWc"  
    UXV>#U?  
    组件求解器 Z|Xv_Xo|4  
     AQz&u  
    ,G(bwE9~  
    @$d_JwI  
    h]okY49hY  
    'ZQR@~G  
    系统构建块 `wLa.Gzj  
    /H[!v:U  
     &l1CE1 9<  
    ,1-#Z"~c  
    总结  'x\{sv  
    J"RmV@|  
    %L;'C v  
    R a?0jcSQ$  
    几何光学仿真 ~ f>km|Q{u  
    通过光线追迹 g JMv  
     @8 GW?R  
    结果：光线追迹 ns1@=f cO  
    4wQ>HrS)(  
     '@+a]kCMev  
    8a4&}^|  
    快速物理光学仿真 o5eFLJ6  
    通过场追迹 v/lQ5R1  
     (|<.7K N  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 $3MYr5  
    UKxeN[fv  
     VjVL/SO/  
    |F#L{=B  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 q+-Bl  
    x?B8b-*  
     (t)a u  
    DR6 OR B7  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 Tb6c]?'U  
    ${%*O}$  
    Mw+8p}E  
    [3QKBV1\  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 Xz, sL  
    T&`H )o  
     K+_$ WT_  
    _ mw(~r8R  
    总结 C7[CfcPA  
    "Aq-H g  
    lE?F Wt  
    Eo }mSd  
     
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