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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-08-29
    摘要 "`$,qvNN  
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    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 H#~gx_^U  
    iT>u&0B-  
    {> YsrD C  
    场景 v;x0=I&%  
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    P:"R;YCvE  
    >fH0>W+!  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 % i4 5  
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    系统构建块
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    ;xZ+1 zmL0  
    eDJnzh83  
    /jG?PZ=m  
    组件求解器 xB *b7-a  
    MJ|tfQwhx  
    m+<&NDj.  
    HwUaaK   
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    D&G6^ME  
    系统构建块 S6<o?X9,I  
    --K) 7  
    ?veeW6E(  
    %Mda<3P  
    总结 2~kx3` Q  
    ?zW'Hi  
    Q@VA@N=w  
    jHFjd'  
    几何光学仿真 >jW**F  
    通过光线追迹 &C9IR,&  
    B\J[O5},  
    结果:光线追迹 Kh]es,$D  
    v$y\X3)mB  
    @t%da^-HS"  
    /Q1 b%C  
    快速物理光学仿真 =Z\q``RBy  
    通过场追迹 cNWmaCLN$  
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    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 N]P~`)  
    ?"yjgt7+y  
    oGcgd$%ZB  
    ~7: q+\  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 + -<8^y  
    7{#p'.nc5  
    w <r*&  
    y\FQt];z)  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 Z",0 $Gxu  
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    *~PB  
    2*cNd}qr  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 3f`Uoh+  
    G*=HjLmZg  
    )G2Bx+Z;L  
    T<uX[BO-a  
    总结 Zux L2W  
    V^s, 3C  
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    Ku[q #_7  
     
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