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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-08-29
    摘要 Zk? =  
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    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 )`HA::  
    HIf{Z* mb  
    Q\kub_I{@  
    场景 1 W'F3  
    v{;7LXy0  
    `UzVS>]l[+  
    .T.5TMiOSq  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 NZXjE$<Vr  
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    系统构建块
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    E9 Y\X  
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    组件求解器 c-CYdi@  
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    v[S-Pi1  
    61K"(r~  
    系统构建块 Hs?zq  
    ?m"|QS!!K  
    'BqZOZw  
    Y=B3q8l5  
    总结 `l]j#qshTm  
    9 $l>\.6  
    4$"DbaC  
    /"#4T^7&  
    几何光学仿真 %3=J*wj>D  
    通过光线追迹 (#Mp 5C'X  
    >Da~Q WW|  
    结果:光线追迹 >PalH24]  
    xtfRrX^  
    m],Ud\  
    )0CQP  
    快速物理光学仿真 ?nFO:N<  
    通过场追迹 t#~?{i@m  
    #hxyOq,  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 ffcLuXa  
    |. C1|J'Z  
    [*Ju3  
    sH!O0WL  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 +m$5a YX  
    --k:a$Nt  
    x8[MP?Wz  
     Ewo~9 4{  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 Of7 +/UV  
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    (GU9p>2  
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    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 }E&NPp>  
    ^Udv]Wh  
    +]!lS7nsW  
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    总结 Vb4;-?s_  
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    .YcN S%  
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