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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    离线infotek
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-08-29
    摘要 F[q:jY  
    ]SNA2?q  
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 rgQ6/3}qc  
    PUMh#^g}  
    w]Q0}Z  
    场景 F-!,U)  
    g[VVxp!C<  
     "qEi$a&]  
    mL\j^q,Y  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 k+X=8()k  
    YkRv~bc1]  
    系统构建块     =@#[@Ia  
    UQGOCP_  
     Of)EBa<5^  
    4::>Ca^{  
    组件求解器 Qr`WPTQr"  
    !Vtt.j &4  
    owClnp9K  
    V=<OV]0  
    n^8LF9r  
    yNY *Fl!  
    系统构建块 3"2 8=)o  
    [ vU$zZ<  
     [4)q6N5`f  
    C -@  
    总结 &3x \wH/_  
    wJ_E\vP  
    a6K1-SR^6)  
    kV@*5yc?R  
    几何光学仿真 _ Je k;N  
    通过光线追迹 TH_Vw,)  
     <ex,@{n4  
    结果：光线追迹 0qXkWGB  
    ,vBi)H  
     9>qc1z  
    ;Qpp`  
    快速物理光学仿真 =}S*]Me5  
    通过场追迹  3nfw:.  
     z7+y{-{Z  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 %|(~k*s4  
    28l",j)S  
     QcyYTg4i  
    \tc`Aj%K  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 /yHM =&Vg]  
    K*uFqdLL!  
     te ?R(&  
    %G9: M;|'  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 yteJHaq  
    Hu$]V*rAG  
    9moenkL  
    `Q2 `":  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 {p -b,J9~a  
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    总结 F^ kH"u[  
    E.v~<[g  
    &wj;:f  
    OZ?4"1$.t  
     
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