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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-08-29
    摘要 F\Ex$:%~  
    NS;,(v{*N  
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 'ac %]}`-  
    O[;>Y'zqC%  
    Y+sycdq  
    场景 Sim\+SL{#  
    O!kBp(?]  
    p0UR5A>p  
    -Yy,L%E]F:  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 j}'spKxu  
     ">*PH}b  
    系统构建块
    Uo<d]4p $  
    &hEtVkK  
    %<DXM`Y  
    kf>oZ*/  
    组件求解器 \SS1-UbL  
    } O8|_d  
    )VID ;l;4  
    q<yp6Q3^  
    e-ILUzT  
    S v$%-x^t  
    系统构建块 lW1Al>dW<  
    YgC J s;  
    mTT1,|  
    ?k]^?7GN  
    总结 { ,qm=Xjq  
    X<m#:0iD  
    9sifc<za  
    v{"$:Z ow  
    几何光学仿真 vX;WxA<  
    通过光线追迹 r1yz ?Y_P  
    J1T_wA_  
    结果:光线追迹 _$]3&P  
    ;tP-#Xf  
    anjU3j  
    d:.S]OI0  
    快速物理光学仿真 +1~Y2   
    通过场追迹 UR44 iA]  
    @k>}h\w  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 A'HFpsa  
    h5e(Avk  
    GSIRZJl  
    9q5jqFQ  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 z^j7wMQ  
    D]\of#%T  
    Kur3Gf X  
    a,i k=g  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 VPoA,;Y"-  
    |*ss`W7F,2  
    ^<49NUB>  
    $ (/=Wn  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 $L7Z_JD5  
    \ :To\6\Ri  
    oJb${k<3  
    )voJq\Y)%  
    总结 Hd]o?q\  
    d$qivct  
    m/@ ;N,K  
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