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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-08-29
    摘要 fy$?~Ji &  
    L~%7=]m  
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 e#)NYcr6  
    Bf.iRh0Q5  
    tpb lm|sW  
    场景 inFS99DKx  
    mPhu#oK'f  
    ):[}NDmC  
    &)jq3  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 nEUUD3a  
    !,dp/5 V  
    系统构建块
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    qX*xQA|ak,  
    YS#*#!ZMn?  
     Q6RTH  
    组件求解器 L9<\vJ  
    i)'tt9f$  
    |dz"uIrT  
    `yP`5a/  
    e_|Z&  
    'zbvg0T  
    系统构建块 |;7mDhj=  
    qvLh7]sbK:  
    r^a:s]  
    LRg]'?  
    总结 t>AOF\  
    [}M!ez  
    7nPcm;Er  
    F(#?-MCs  
    几何光学仿真 yx|{:Li!  
    通过光线追迹 i!RfUod  
    7FJ4;HLQ  
    结果:光线追迹 + c+i u6+"  
    ]'"Sa<->  
    s[sv4hq  
    x+j@YWDpG"  
    快速物理光学仿真 x1?mE)n]  
    通过场追迹 .>eRX%  
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    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 p#{y9s4h  
    !6 L!%Oi  
    1*yxSU@uY  
    ccrWk*tr  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 #-\5O  
    5 ty2e`~K  
    F3EAjO)ch  
    *!ng)3#  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 B ,cFvS  
    0F@~[W|2  
    (jA5`4>u  
    x};~8lGT>t  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 e`s1z|h  
    $3 P De  
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    MzX&|wimb  
    总结 (^35cj{s  
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    Gk{ 'U  
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