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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-08-29
    摘要 Dh{P23}  
    z SsogAx  
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 $\4Or  
    ~c1~) QzZ  
     :i?c  
    场景 Z-U3Tr SI  
    d9D*w/clMi  
    jq/{|<0  
    "J >, Hr9  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 U_B`SS  
    NVC$8imip  
    系统构建块
    I$i1o #H  
    i3Nt?FSN  
    &E k\  
    ^eYJ7&t  
    组件求解器 r:^`005  
    v g tJ+GjN  
    d<;XQ.Wo7  
    [qt^gy)  
    N) z] F9Kg  
    }>j1j^c1='  
    系统构建块 V|0UwS\n  
    Ox/va]e7"  
    } % |GV  
    R91u6r#  
    总结 uoBPi[nK  
    s3T 6"%S`  
    zwHTtE  
    9Bmgz =8  
    几何光学仿真 w@f_TG"Vt  
    通过光线追迹 WHF:> 0B  
    `[1]wV5(5@  
    结果:光线追迹 L' h'm{i  
     6Ue6b$xE  
    0MzHr2?'P  
    V'?nS&,i  
    快速物理光学仿真  *JOv  
    通过场追迹 g(;ejKSR  
    IPE(  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 mKq9mA"(E  
    DFjkp;`1  
    K<_H`k*x  
    L,X6L @Q  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 -XY]WWlq  
    ,9M \`6  
    pK1(AV'L  
    o_$r*Z|HG  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 +Q_Gm3^  
    @fYA{-ZC  
    ~d5{Q?T)  
    eZJOI1wNp  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 @o^sp|k !  
    If#7SF)n'  
    MDCf(LhEH  
    -s!PO;qm  
    总结 wLUmRo56aR  
    =XS'V*  
    02S(9^=  
    {S&&X&A`v  
     
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