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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-08-29
    摘要 6j#JhcS+  
    Epzg|L1)  
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。  q+P@2FL  
    q"2QNF'  
    j=\h|^gA  
    场景 c`6c)11K  
    [Nyt0l "z  
    4kOO3[r  
    =BJLj0=N  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 XLh)$rZ  
    9A .RD`fg  
    系统构建块
    SV7;B?e%Y  
    AtT7~cVe  
    ]5%0EE64  
    ^r}c&@  
    组件求解器 STKL  
    Zxk~X}K\P  
    FO{=^I5YA  
    C.j+Zb1Z(  
    U(&c@u%  
    qwTz7r  
    系统构建块 @"w4R6l+*  
    JWVV?~1  
    s!6lZ mPM  
    ,67Q!/O  
    总结 qGk+4 yC  
    >XN[KPTa  
    dSI"yz  
    {v={q1  
    几何光学仿真 1{uxpYAP=  
    通过光线追迹 \!KE_7HRu  
    1]xk:u4LA  
    结果:光线追迹 8 $FH;=  
    #qRoTtMq 7  
    g)Z8WH$;H3  
    6)[moR{N1  
    快速物理光学仿真 d_[H|H9i6  
    通过场追迹 =vThtl/azD  
    MGdzrcF  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 K)SWM3r  
    I| TNo-!$  
    r[9m-#)>  
    J"gMm@#C4  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 &61U1"&$R  
    Upz)iOqLi  
    6@]o,O  
    4[ uqsJB  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 oZ{,IZ45  
    Jb,54uN  
    *tjaac;z<J  
    aZZ0eH  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 xU'z>y4V$  
    hB [bth  
    H3wJ5-q(  
    Q  :kg  
    总结 )x-b+SC  
    \zd[A~!  
    wm@m(ArE=  
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