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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-08-29
    摘要 wa9{Q}wSa  
    [C~{g#  
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 1<9m^9_ro  
    LYiz:cQh  
    Eh;~y*k\  
    场景 {Q~A;t  
    HaamLu  
    yYTiAvN  
    ;c>Rjg&[  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 k@R)_,2HH  
    Y-,1&$&  
    系统构建块
    >7V&pH'  
    hAZ"M:f  
    mk~Lkwl  
    >&9Iy"  
    组件求解器 $}7WJz:  
    Wm ?RB0  
    /SD2e@x{U  
    l>9ZAI\^  
    )Nq$~aAm  
    QSy#k~  
    系统构建块 B6Tn8@O  
    1k>*   
    @le23+q  
    0)qLW& w  
    总结 MgLz:2 :F  
    8 YBsYKC  
    7QRtNYo#\  
    UkL'h&J~  
    几何光学仿真 `}u~nu<  
    通过光线追迹 A|@d4+  
    Rf\>bI<.  
    结果:光线追迹 2{h9a0b  
    }g _#.>D+  
    Efw/bTEg  
    : C;=<$  
    快速物理光学仿真  o*QhoDjc  
    通过场追迹 zUxF"g-W  
    TO)wjF_  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 e:.Xs  
    ^fb4g+Au  
    }qXi;u))  
    PHD$E s  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 0:nQGX!N  
    M ~!*PCd5  
    c66Iy"  
    }EO n=*  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 4Kt?; y ;  
    bd<zn*H Z*  
    n|L.d BAs]  
    f.'o4HSj  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 $X-,6*  
    G#CWl),=  
    W~Mj6c~S"  
    qx53,^2  
    总结 nS'0i&<{1  
    -i @!{ ?  
    mrd(\&EhA  
    R{6.O+j`  
     
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