切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • Zemax光学设计从入门到精通 《杂散光抑制与评估技术》 Zemax光学设计实践基础(陈家璧) 光学设计与光学元件
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 现代光学设计及应用(Zemax) CODE V,LightTools,RSoft,LucidShape 计算光学带来的成像革命(第2季)
    发帖 回复
    返回列表
    • 704阅读
    • 0回复

    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

    		 上一主题 下一主题
    离线infotek
    科学家
     
    发帖
    6822
    光币
    28260
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-08-29
    摘要 o4K ~  
    [f1 (`<  
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 ;7 E7!t^  
    4,CXJ2  
    r0+6evU2  
    场景 1^7hf;|#g  
    }NzpiY9  
     pgE}NlW  
    ,+meT`'vn  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 zxbpEJzpn  
    OZ |IA:,}  
    系统构建块     jY% na HaI  
    '%dfz K*Z  
     YkniiB[/  
    DRp~jW(\y  
    组件求解器 h?BFvbAt  
    2(u,SQ  
    O4cr*MCb5  
    Jrti cK$  
    E[@ u 3i8  
    ER5gmmVP@p  
    系统构建块 GVYBa_gx  
    `.FF!P:{C*  
     OwH81#   
    YaKeq5%y  
    总结 gv)P]{%^  
    El[)?+;D  
    G~2jUyv  
    ]* F\"C@  
    几何光学仿真 A+"ia1p,}  
    通过光线追迹 {|&5_][  
     JORGj0v  
    结果：光线追迹 Jq&uF*!  
    s:#V(<J  
     LcB]Xdsa(  
    wVicyiY]  
    快速物理光学仿真 oX S1QT`B  
    通过场追迹 Ma.`A  
     w)kNkD  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 #sPHdz'3M  
    juka0/  
     =BSzsH7  
    @SJL\{_  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 ysxb?6  
    )0"wB  
     Kw efs;<E?  
    .S(TxksCz  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 DnCP aM4%  
    (l-tvk4Ln  
    E^ P,*s  
    QDs^Ije  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 kzn5M&f>  
    HJXT9;w  
     hAYTj0GZ  
    v0-cd  
    总结 xy5lE+E_U  
    1|kvPo#  
     `x l   
    WN{ 9  
     
    回复
    举报
    分享到
    发帖 回复
    返回列表