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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-08-29
    摘要 N}wi<P:*)  
    w \pD'1e  
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 cpB$bC](  
    or/Y"\-!  
    / sENoQR  
    场景 M_V\mYC8I  
    ^;B vd!  
    }io9Hk>|  
    w .l2  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 5AR\'||u  
    ?Zu=UVb  
    系统构建块
    $Q1:>i@I|g  
    oUEpzv,J  
    GmN} +(  
    8 vB~1tl;  
    组件求解器 $%VFk53I  
    ]yN]^% PYH  
    &C3J6uCm+  
    )`Tny]M  
    F ]\4<  
    GVZ/`^ndM  
    系统构建块 in-/  
    Oh<[8S7]C  
    HE+y1f]  
    ghJ81  
    总结 IuTZ2~  
    Mw7 ~:O`  
     m2%uGqz  
    .@.,D% 7<  
    几何光学仿真 [i.2lt#]  
    通过光线追迹 d c_^   
    ?s(%3_h  
    结果:光线追迹 t#oY|G3O}  
    TPp%II'*  
    UDV,co  
    {) 4D1  
    快速物理光学仿真 oddS~lW  
    通过场追迹 I(/W+ o  
    3> -/sii  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 qHg\n)R"x!  
    ?stx3sZ  
    * 4G J<  
    ` DO`c>>K  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 E=GCq=Uw  
    {FraM,w:  
    (w?@qs!  
    ' A= x  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 }Gr5TDiV0\  
    c[?S}u|['  
    $zbm!._~DA  
    g=Q#2/UQ<  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 9*RfOdnNe  
    eI8^T?  
    pq+Gsu1^  
    &CF74AN#  
    总结 6T&6N0y+9  
    WZdA<<,:o  
    wx BQ#OE  
    YMad]_XOP  
     
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